首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   8628篇
  免费   563篇
  国内免费   466篇
电工技术   815篇
综合类   564篇
化学工业   936篇
金属工艺   575篇
机械仪表   704篇
建筑科学   904篇
矿业工程   441篇
能源动力   173篇
轻工业   605篇
水利工程   430篇
石油天然气   409篇
武器工业   59篇
无线电   1114篇
一般工业技术   715篇
冶金工业   326篇
原子能技术   116篇
自动化技术   771篇
  2024年   65篇
  2023年   244篇
  2022年   282篇
  2021年   215篇
  2020年   234篇
  2019年   287篇
  2018年   269篇
  2017年   143篇
  2016年   164篇
  2015年   199篇
  2014年   408篇
  2013年   287篇
  2012年   382篇
  2011年   412篇
  2010年   404篇
  2009年   453篇
  2008年   394篇
  2007年   419篇
  2006年   436篇
  2005年   383篇
  2004年   364篇
  2003年   381篇
  2002年   303篇
  2001年   286篇
  2000年   270篇
  1999年   158篇
  1998年   167篇
  1997年   132篇
  1996年   137篇
  1995年   147篇
  1994年   168篇
  1993年   127篇
  1992年   103篇
  1991年   117篇
  1990年   127篇
  1989年   101篇
  1988年   50篇
  1987年   57篇
  1986年   57篇
  1985年   52篇
  1984年   57篇
  1983年   49篇
  1982年   45篇
  1981年   41篇
  1980年   25篇
  1979年   19篇
  1978年   11篇
  1975年   4篇
  1966年   3篇
  1956年   3篇
排序方式: 共有9657条查询结果,搜索用时 62 毫秒
41.
硅表面氧化膜的X光电子谱及部分参数固定法曲线拟合   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文用X光电子谱及部分参数固定曲线拟合方法分析了热生长硅氧化膜和硅的自然氧化膜中硅和氧的结合状态,发现两者均不是单一的SiO2,硅在以上两种氧化膜中共有四种氧化状态,即Si+1,Si+2,Si+3和Si+4,它们相对于体Si2p,峰的化学位移分别为0.85,2.35,3.55和4.60eV.在硅的初期氧化阶段无Si+4成分出现.  相似文献   
42.
43.
44.
本征吸除硅片特性研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文描述硅本征吸杂片的特性参数,如吸除区宽度、洁净度,氧沉淀密度、MOS电容寿命,介绍了表面态密度及残余间隙氧浓度的检测方法和工艺对参数的影响及参数之间的内在联系,文章还实验论证了不同参数水平对器件成品率的影响,建立了以MOS电容寿命为主导的参数控制方法,利用本文提供的控制参数,可使CCD-512器件成品率达60%,以上优品率≥85%。  相似文献   
45.
本文从提高电力系统静态稳定性、改善电压和减少网损出发,提出了一个综合性能指标和相应的目标函数。综合性能指标体现了无功/电压控制的安全目标,目标函数体现了经济目标。为避免灵敏度法的求逆运算,以便提高速度、减少内存量,应用直接法并采用适合于经济运行的对偶单纯形法求解。变步长和松驰技术的应用使寻优速度更快。  相似文献   
46.
47.
步进电机的相序主要靠引出线的颜色或长短来区分。如果说明书或标志不清,判断接线就很难了。下面介绍一种用万用表判断步进电机相序和头尾的方法。[第一段]  相似文献   
48.
49.
<正> 继1987年长江沿岸城市第二次水污染防治网络会议之后,1988年11月13日至15日在重庆召开了第三次网络会议。参加会议的有长江沿岸20个城市环境保护局、长江水资源保护局的局长和代表、列席代表共88人。会上,上海市环境保护局、南京市环境保护  相似文献   
50.
纳米4-H碳化硅薄膜的掺杂现象   总被引:4,自引:4,他引:0  
对纳米晶SiC薄膜进行了P和B的掺杂,B掺杂效率比P高,其暗电导预前因子与激活能遵守Meyer-Neldel规则,并有反转Meyer-Neldel规则出现.掺杂效率比非晶态碳化硅薄膜高是纳米碳化硅薄膜的特点之一.非晶态中的隧穿和边界透射对输运有一定贡献.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号