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网损补偿原则的实质就是解决如何将因发电权交易引起的网损增量公平合理的分摊给各个交易的问题.现有网损分摊方法存在诸多缺点且不能兼顾发电权交易网损增量的特点,无法直接解决该问题.基于电路基本定律分析了线路损耗的功率成分构成,在此基础上推导得出发电权交易的网损增量表达式,并根据网损分布特征定义了网损增量的交易归属,体现了交易与潮流分布的一致性.分摊结果不但可以反映每个交易对电源承担的线路损耗的影响,而且可以反映出每个交易对全网损耗的影响,因此具有丰富的物理意义和经济意义.并以简单算例对所提出方法进行了仿真分析. 相似文献
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996.
This paper investigated the influences of pouring temperature and cooling rate on the microstructure development and mechanical properties for casting Al-Si-Cu aluminum alloy.The microstructure of the as-cast samples was characterized by an optical microscope.The results showed that the dendrite arm spacing(DAS,λ) is well refined by pouring at a higher temperature.The λ decreases with increasing pouring temperature due to the multiplication of the nucleation sites in the superheating liquid melt,and the mechanical properties,such as microhardness and ultimate tensile strength increase correspondingly,while the elongation decreases.The relationships between microhardness and λ for the samples cooled in metal mould and sand mould,are given as HV=118.9 1.246λ and HV=115.2 1.029λ,respectively.The effects of the cooling rate controlled by using permanent mould casting and sand mould casing processes(the cooling medium is air and sand,respectively) on the dendrite arm spacing and mechanical properties are similar to the effect of the pouring temperature. 相似文献
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利用电子束蒸发、离子束辅助沉积和离子束反应溅射三种制备方法制备了单层HfO2薄膜,对薄膜样品的晶体结构、光学特性、表面形貌以及吸收特性进行了研究。实验结果表明,薄膜特性与制备工艺有着密切的关系。电子束蒸发和离子束反应溅射制备的薄膜为非晶结构,而离子束辅助制备的薄膜为多晶结构。电子束蒸发制备的薄膜折射率较低,薄膜比较疏松,表面粗糙度较小,吸收相对较小,而离子束辅助以及离子束反应溅射制备的薄膜折射率较高,薄膜的结构比较致密,但表面粗糙度较大,吸收相对较大。不同制备工艺条件下薄膜的光学能隙范围为5.30~5.43eV,对应的吸收边的范围为228.4~234.0nm。 相似文献
999.
1000.