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991.
为了实现对高粘性微量液滴的高效率喷射,研制了一种基于撞针原理的非接触式微喷装置。采用压电陶瓷作为驱动装置,再利用菱形放大机构进行微位移放大,采用有限元软件对菱形放大机构进行静、动态特性分析,确定喷针和喷嘴的配合形式及相关尺寸,然后利用MATLAB软件进行动力学方程的求解,仿真结果显示,喷针的位移和速度均满足喷射条件,最后针对5~10Pa.s粘度的液体进行了微喷实验。实验结果表明:该微喷装置可稳定地实现胶液的喷射,输出流量随着驱动电压的增大而增大。 相似文献
992.
993.
994.
多层HgCdTe异质外延材料的热退火应力分析 总被引:1,自引:0,他引:1
前期研究采用高温热处理方法,获得了抑制位错的最佳退火条件.通过比对实验,发现不同衬底上HgCdTe表面的CdTe钝化层在热处理过程中对位错的抑制作用各有不同.结合晶格失配应力和热应力对不同异质结构进行理论计算,借助X射线摇摆曲线的倒易空间分析,解释了CdTe钝化层对HgCdTe位错抑制的影响作用. 相似文献
995.
FPGA是1984年Rose Freeman发明的一种支持OLP计算模式的阵列芯片,实现了非数据并行算法计算的高效性.但是,OLP计算模式是采用VHDL/Verilog等硬件描述语言,通过逻辑设计将算法映射到FPGA阵列芯片上的,应用的抽象层次低,而且FPGA阵列芯片体系结构,与实现数据并行算法计算的GPU系统芯片体系结构是不统一的.为了克服FPGA阵列芯片的这两个缺点,本文研究了能够等效替代OLP计算模式及其FPGA阵列芯片的ILP计算模式及其APU系统芯片,并自然统一了ILP与DLP两种计算模式的系统芯片体系结构. 相似文献
996.
Weiping Bai Nan Lu Ritenour A.P. Lee M.L. Antoniadis D.A. Dim-Lee Kwong 《Electron Devices, IEEE Transactions on》2006,53(10):2551-2558
MOS devices built on various germanium substrates, with chemical vapor deposited (CVD) or physical vapor deposited (PVD) HfO/sub 2/ high-/spl kappa/ dielectric and TaN gate electrode, were fabricated. The electrical properties of these devices, including the capacitance equivalent thickness (CET), gate leakage current density (J/sub g/), slow trap density (D/sub st/), breakdown voltage (V/sub bd/), capacitance-voltage (C-V) frequency dispersion, and thermal stability, are investigated. The process conditions such as surface nitridation treatment, O/sub 2/ introduction in CVD process and postdeposition anneal temperature in PVD process, exhibit significant impacts on the devices' electrical properties. The devices built on germanium substrates with different dopant types and doping concentrations show remarkable variations in electrical characteristics, revealing the role of the substrate doping in the reactions occurring at the dielectric/Ge interface, which can significantly affect the interfacial layer formation and Ge updiffusion. A possible mechanism is suggested that two competing processes (oxide growth and desorption) take place at the interface, which govern the formation of the interfacial layer. Doped p-type (Ga) and n-type (Sb) impurities may enhance the different process at the interface and cause the variations in the interfacial layer formation and so on in electrical properties. The high diffusivities of impurities and Ge atoms in Ge and the induced structural defects near the substrate surface could be one possible cause for this doping effect. As another behavior of the substrate doping effect, Ge n-MOS and p-MOS stacks show quite different C-V characteristics after high temperature postmetallization anneal treatments, which can be explained by the same mechanism. 相似文献
997.
998.
Mai Lu 《Journal of Infrared, Millimeter and Terahertz Waves》2011,32(1):16-25
This paper presents a numerical study of the electromagnetic wave propagation in a double ridge waveguide, loaded with left-handed
materials (LHM). The LHM is defined phenomenologically by assigning to it a negative permittivity and negative permeability
simultaneously. Transmission characteristics such as cutoff wavelength, single-mode bandwidth, dispersion and field patterns
have been investigated by edge-based finite element method. The results are compared to those with air- and dielectric-loaded
ridge waveguide. It was found that the LHM-loaded ridge waveguide can greatly increase the cutoff wavelength with the disadvantage
of a dramatic reduction in the single-mode bandwidth. The behavior of the dispersion curve of LHM-loaded ridge waveguide is
similar to the cases of waveguide loaded with air or dielectric, except for a significant improvement of the propagation constant.
The boundary conditions at the interface between the air and the LHM have been well illustrated and the antiparallel wave
vector in LHM were obtained by considering the field patterns. The unusual behaviors of the LHM-loaded ridge waveguide provides
the potential opportunities to design novel microwave and millimeter devices. 相似文献
999.
1000.
信号上升或下降时间对高速电路信号完整性影响的研究 总被引:4,自引:2,他引:4
为了研究信号上升或下降时间对信号完整性的影响,从理论上分析论证了信号上升或下降时间是造成反射,串扰同步开关噪声及电磁干扰等信号完整性问题的根本原因。利用Cadence公司的SigXplorer仿真软件建立相应的拓扑电路,通过对IBIS模型信号上升时间参数进行修改,分别在不同信号上升时间和信号频率下进行仿真。通过对仿真结果的对比分析,验证了理论分析的正确性。提出了信号上升或下降时间是造成信号完整性问题的根本原因的观点,纠正了从信号频率上分析信号完整性问题的误区。 相似文献