HJ-1/CCD地表反照率估算及其与NDVI关系分析

参照TM地表反照率反演算法,建立了适用于HJ-1/CCD传感器估算地表反照率的算法。通过应用6S辐射传输模型建立查找表,对覆盖内蒙古自治区锡林浩特市的HJ-1/CCD数据进行大气校正,并根据反照率定义,回归分析得到可见光波段地表反照率;通过与地面实测数据进行对比分析,表明该算法估算得到的地表反照率精度较高,其最大相对误差为14.32%。同时,本文将估算结果与同时期NDVI进行拟合分析,得出地表反照率与NDVI存在较高的负相关关系。     

基于LD预测的车载自组网下一跳选择算法

在高速移动环境中,车载自组网的下一跳节点选择算法存在高丢包率的问题。为此,在贪婪算法的基础上,通过预测车辆节点的链路持续时间(LD)和数据发送时延,提出一种改进的下一跳节点选择算法。其中,转发节点根据邻居节点和自身的相对速度,预测该节点和当前节点间的链路持续时间,选择其值不小于待发数据的发送时延的邻居节点作为下一跳节点。仿真实验结果表明,改进算法可以明显降低贪婪算法的丢包率。     

基于结构化对等网络的高效分布式任务调度

提出与描述了一个基于结构化对等网络的高效分布式任务调度策略HDTS(High-Efficient Distributed Task Scheduling)。HDTS建立在结构化对等网络的应用层覆盖网络上,保证了系统的非集中性、可扩展性、自组织性,以及规模大的优点。HDTS把基于Chord风格的对等网络协议和容错及高效的多播调度策略结合起来,允许分布式计算的各种大量的子任务在对等网络的节点上高效的调度、分配、执行。除了支持主-从风格的并行计算外,系统允许具有数据依赖的分布式旅行商算法正确的执行,使系统具有通用性和开放性。测试结果表明:HDTS具有正确性与高效性,可以作为对等网络上计算资源高效共享与聚集的可行方案。     

ClO2消毒及消毒副产物的毒理学特性

随着生活水平的提高,使用高效低毒消毒剂已成为当务之急.ClO2是优良的氧化型消毒剂,ClO2对水中有机物的氧化降解以含氧基团的小分子化合物为主,即最终以无毒害作用的产物为主.因此ClO2在水处理中的应用越来越受到重视.但作为替代液氯的消毒剂,ClO2同样会产生副产物,其安全性同样要予以重视.     

偏压对MCECR溅射碳氮膜特性的影响

用封闭式电子回旋共振(MCECR)等离子体溅射的方法在硅(100)基片上沉积了碳氮膜(CNx),膜层厚度约80 nm.采用Ar/N2等离子体溅射纯石墨靶,研究了基片偏压对CNx膜机械特性和微观结构的影响,详细分析了基片偏压对CNx膜性能影响的机理.实验结果表明,当基片偏压为 30 V时,CNx膜层性能良好,硬度约为31.48 Gpa,摩擦系数约为0.14,磨损率为6.75×10-15m3/m,系数x接近于4/3.     

防止电平触发方式下发生不必要中断的方法

当在计算机应用系统中使用电平触发申请方式的硬件中断时，要特别注意考虑解决在中断源申请一次中断并在CPU已响应此次中断后如何撤消中断请求的问题，及如何避免“一次请求，多次中断”的现象发生。通过对硬中断过程的分析，给出了解决该问题的方法并说明了每种方法的特点。     

下一代互联网域间路由安全：威胁与对策

基于BGP的域间路由系统是下一代互联网的关键基础设施.本文系统地分析了下一代互联网域间路由系统的脆弱性,建立了下一代互联网域间路由的攻击模型对各种攻击目标和攻击方式进行描述,并从多个层次对BGP-4和BGP4＋的安全能力进行分析与比较.此外,我们给出了路由攻击检测系统方案,该方法可有效实现域间路由系统的安全控制     

我国穿甲弹用钨合金研究的最新进展与展望

综合介绍了我国近年来对穿甲弹用高密度钨合金实施添加微量元素合金化强化和旋转锻造、扭转变形、静液挤压等形变强化的研究进展，以及对于绝热剪切机理和数值模拟计算的研究现状，并介绍了机械合金化制备纳米钨合金复合粉末、温压成形及预氧化活化烧结等特种制备技术方面的最新试验研究进展。通过全面分析目前我国穿甲弹用高密度钨合金试验研究中存在的一些主要问题，提出我国穿甲弹用高密度钨合金今后研制的主攻方向，以及促进高性能穿甲弹用钨合金研制应采取的策略与措施。     

论我国教育投资的优化

教育投资短缺是个全球性问题,由于中国人口众多,教育投资问题更为突出.为适应教育优先的战略目标,我国应该增加教育投入,加强监督,提高教育投资效益,促进教育投资主体多元化.     

端部霍尔等离子体源沉积类金刚石膜的研究

本文通过对端部霍尔离子源特性的研究 ,采用自行研制的用于离子束辅助沉积的端部霍尔离子源成功镀制了类金刚石膜 ,并对采用该离子源制备类金刚石膜的工艺进行了研究和分析。实验结果表明 ,采用端部霍尔离子源镀制类金刚石膜不仅操作简单、可实现大面积沉积 ,而且类金刚石膜的沉积速率较大 ,最大可达 0 .8nm s,其折射率依不同工艺在 1.8～ 2 .2之间可调。并对不同工艺条件下制备的类金刚石膜的硬度进行了测试和分析。