全文获取类型
收费全文 | 59680篇 |
免费 | 7231篇 |
国内免费 | 5242篇 |
专业分类
电工技术 | 5365篇 |
综合类 | 6495篇 |
化学工业 | 7134篇 |
金属工艺 | 4004篇 |
机械仪表 | 4283篇 |
建筑科学 | 4880篇 |
矿业工程 | 2607篇 |
能源动力 | 1603篇 |
轻工业 | 7006篇 |
水利工程 | 2051篇 |
石油天然气 | 2121篇 |
武器工业 | 946篇 |
无线电 | 6438篇 |
一般工业技术 | 4813篇 |
冶金工业 | 2144篇 |
原子能技术 | 1032篇 |
自动化技术 | 9231篇 |
出版年
2024年 | 380篇 |
2023年 | 999篇 |
2022年 | 2483篇 |
2021年 | 3014篇 |
2020年 | 2182篇 |
2019年 | 1502篇 |
2018年 | 1612篇 |
2017年 | 1851篇 |
2016年 | 1641篇 |
2015年 | 2662篇 |
2014年 | 3239篇 |
2013年 | 3811篇 |
2012年 | 5071篇 |
2011年 | 5049篇 |
2010年 | 4934篇 |
2009年 | 4747篇 |
2008年 | 4981篇 |
2007年 | 4667篇 |
2006年 | 4138篇 |
2005年 | 3515篇 |
2004年 | 2525篇 |
2003年 | 1632篇 |
2002年 | 1575篇 |
2001年 | 1479篇 |
2000年 | 1248篇 |
1999年 | 428篇 |
1998年 | 140篇 |
1997年 | 95篇 |
1996年 | 67篇 |
1995年 | 55篇 |
1994年 | 45篇 |
1993年 | 49篇 |
1992年 | 45篇 |
1991年 | 48篇 |
1990年 | 45篇 |
1989年 | 36篇 |
1988年 | 25篇 |
1987年 | 18篇 |
1986年 | 23篇 |
1985年 | 6篇 |
1984年 | 11篇 |
1983年 | 11篇 |
1982年 | 7篇 |
1981年 | 6篇 |
1980年 | 23篇 |
1979年 | 15篇 |
1966年 | 1篇 |
1964年 | 1篇 |
1959年 | 8篇 |
1951年 | 8篇 |
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 0 毫秒
71.
以文本类型教学资源为研究对象,在领域知识可拓信息网模型和CELTS-3的基础上,阐述了基于信息元的教学资源组织系统设计与实现过程,包括信息特征元数据描述框架、特征词获取、信息元距离度量、信息元匹配规则以及匹配算法等.该系统通过有限的信息元描述无限的资源,实现了教学资源的高效组织,支持学习过程中资源自动重组. 相似文献
72.
73.
74.
卤化钙钛矿型(ABX3)纳米材料是近几年兴起的光电新材料,由于全无机钙钛矿CsPbX3(X=Cl,Br,I)纳米晶体的稳定性差,严重阻碍了实际应用,但因其具有窄带隙,在太阳能电池领域有着重要的应用前景.本研究在CsPbI3纳米晶周围使硅酸四甲酯(TMOS)发生水解反应,形成CsPbI3@SiO2纳米晶体复合材料,促使甲苯悬浮液的稳定性显著提高,发光稳定性可增加到29 d.通过进一步以聚(苯乙烯-乙烯-丁二烯-苯乙烯)三嵌共聚物(SEBS)对复合材料进行包裹,得到具有良好透明性和可拉伸性的SEBS/CsPbI3@SiO2薄膜,在水中有保持24 h稳定荧光现象,在水中12 h能保持原有发光强度的53%,而未经二氧化硅包裹的SEBS/CsPbI3纳米晶薄膜在水中仅8 h就失去荧光.本研究不仅为CsPbX3的表面改性提供了一种新方法,有助于解决稳定性问题,而且以聚合物复合的薄膜具有可拉伸性,也可应用在柔性器件中,具有重要的应用价值. 相似文献
75.
76.
77.
离线污点分析中的针对轨迹记录文件的污点传播分析的时间开销非常巨大,因此研究快速高效的污点传播分析具有重要意义。针对上述问题,提出了一种基于语义规则的污点传播分析优化方法。该方法定义了一种指令的语义描述规则,用于描述指令的污点传播语义,利用中间语言自动生成汇编指令的语义规则,再根据语义规则进行污点传播分析,避免了现有污点分析方法中指令重复执行导致的重复语义解析,提高了污点分析的效率。实验结果表明,所提方法能够有效降低污点传播分析的时间开销,仅占传统基于中间语言污点分析的14%左右,提高了分析效率。 相似文献
78.
79.
80.
为提高光刻仿真效率,通过对光刻原理进行研究,提出了2种多边形处理算法,将掩模上的多边形图案进行切分优化,将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统,设计的具体光学参数为:光源波长为193nm,数值孔径为0.3~0.8,部分相干系数可调范围为0.2~0.8,可一次性仿真1μm×1μm到10μm×10μm范围内的45 nm~0.18μm工艺的复杂版图,并通过多次实验进行验证。实验结果表明:原版图图像的边缘细节得到保留,且该算法有效地减少了光刻模拟的计算复杂度与计算时间,整体效率提升20%以上,为当前智能传感器系统芯片的制造节省了宝贵时间。 相似文献