不同注F剂量与CMOS运放电路辐照损伤的相关性

在不同注F剂量条件下,对P沟和N沟两种不同差分对输入CMOS运放电路的电离辐照响应进行了研究.分析比较了注F和未注F运放电路电离辐照响应之间的差异.结果表明,在栅场介质注入适量的F,可有效抑制辐照感生的氧化物电荷尤其是界面态的增长,从而提高CMOS运放电路的抗辐照特性.     

Gamma-irradiation-induced Ag/SiO2 composite films and their optical absorption properties

Small Ag particles or clusters dispersed mesoporous SiO₂ composite films were prepared by a new method: First the matrix SiO₂ films were prepared by sol-gel process combined with the dip-coating technique, then they were soaked in AgNO₃ solutions followed by irradiation of γ-ray at room temperature and in ambient pressure. The structures of these films were examined by X-ray diffraction (XRD), high-resolution transmission electron microscope (HRTEM), and optical absorption spectroscopy. It has been shown that the Ag particles grown within the porous SiO₂ films are very small, and they are isolated and dispersed from each other with very narrow size distributions. With increasing the soaking concentration and an additional annealing, an opposite peakshift effect of the surface plasmon resonance (SPR) was observed in the optical absorption measurements.     

低温脂肪酶产生菌的筛选、鉴定及其部分酶学性质

从南极乔治王岛冻土来源的76株低温细菌中筛选到13株低温脂肪酶产生菌，对其中的BTsl0022菌株进行鉴定。通过生理生化特征、16s rDNA基因序列的同源性和系统发育分析发现，菌株RTsl0022属于假单胞菌属(Pseudomonas)，但与已定名的假单胞菌有一定的差异，与未定名的Pseudomonas sp．PsB的亲缘关系最接近，故将其暂定名为Pseudomonas sp．BTsl0022。对该菌脂肪酶的酶学性质初步研究表明，酶的最适作用温度为24℃，对热敏感，60℃处理30min仅残留25％酶活性，酶的适宜作用pH范围在7．0～9．0，最适pH为8．0。     

数值试井在白6-2井测试资料分析评价中的应用

数值试井是在近来发展的一项新的试井解释技术，具有处理非均质，复杂边界油气藏问题的优点，弥补了常规解析试井技术的不足。运用数值试井解释技术，结合动、静态资料，通过对白6-1断块白6-2井测试资料的综合分析评价，确定了储层渗流参数，落实了该气藏的边界情况，为该断块下一步开发提供可靠依据。     

复杂环境下的WCDMA网络精确规划探讨

首先介绍了传统规划方法，然后着重介绍了精确规划方法所采用的相关新技术，最后简要介绍了笔者应用仿真方法对实际工程进行检验的结果。     

协同作战能力简析

协同作战能力(CEC)是一种充分利用网络技术的新型海岸防空技术，给系统的作战能力带来了革命性的交破。本文对协同作战能力的产生、功能、组成以及未来的发展趋势作了详细的介绍，阐述了CEC系统的总体设计思想。在此基础上，将CEC系统与传统的作战系统的性能和设计思想在各方面进行了比较，交出了CEC系统各方面的优越性能。协同作战能力是现代和未来作战系统的发展方向，CEC系统的发展必将成为衡量各国国防科技现代化的重要指标。     

Al、Mo含量对铸造钛合金力学性能的影响

运用正交实验 ,考察了Al、Mo含量对Ti Al Mo 1Zr系铸造钛合金力学性能的影响。试验结果表明 :随Al、Mo含量提高 ,铸造合金的强度增加 ,塑性和冲击韧性降低 ,但Al、Mo的交互作用却使合金塑性提高 ,强度和冲击韧性降低     

优化设计 确保干式气柜安全运行

稀油密封干式气柜普遍应用于钢铁企业储存煤气,而用于炼油厂储存瓦斯气也仅仅是近些年出现的现象,由于干式气柜自身特点所限,一些炼油企业在使用过程中出现一些问题,导致气柜不能安全、有效运行,重点介绍克拉玛依石化公司在干式气柜运用方面的一些经验和体会,希望给有关设计和生产单位提供参考。     

美国包装考察报告--中国包装总公司美国包装考察团考察记实

一、概述 笔者于2002年11月份随中国包装总公司组织的赴美包装考察团对美国包装业进行考察.本次考察重点参加了在美国芝加哥举行的国际包装机械展览会.它集中展示了美国、加拿大及欧洲发达国家的最新包装技术和整体实力.     

Hf-doped and NH/sub 3/-nitrided high-K gate dielectric thin film with least drain current degradation and flatband voltage shift

A novel technique to form high-K dielectric of HfSiON by doping base oxide with Hf and nitridation with NH/sub 3/, sequentially, is proposed. The HfSiON gate dielectric demonstrates excellent device performances such as only 10% degradation of saturation drain current and almost 45 times of magnitude reduction in gate leakage compared with conventional SiO/sub 2/ gate at the approximately same equivalent oxide thickness. Additionally, negligible flatband voltage shift is achieved with this technique. Time-dependent dielectric breakdown tests indicate that the lifetime of HfSiON is longer than 10 years at V/sub dd/=2 V.