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11.
详细介绍了一台我院新近研制的多功能复合离子镀膜机.该机配有柱弧源、电磁控大面积弧源、小多弧源,使得在不同材质的工件上原位连续镀制各种多层膜及复合化合物膜;偏压电源采用我院自行开发的叠加式直流脉冲偏压开关电源,使用该电源可有效控制基体温度,实现远离平衡态的低温沉积镀膜工艺;全部控制及工艺流程采用PLC(可编程控制器)自动控制,具有成本低、效率高、膜系质量优、工艺可重复性好等特点.用该设备开发的一些功能膜复合工艺已获得实际应用,取得了良好的使用效果.  相似文献   
12.
13.
温度对离子注入Ti6A14V表面改性影响   总被引:1,自引:1,他引:0  
对Ti6Al4V 合金进行温度范围从100 ℃到600 ℃,注入剂量为:4×1017ions.cm-2氮离子等离子体源离子注入(N-PSII)。用俄歇电子能谱仪(AES)对注入样品进行元素深度分布剖面分析。用显微硬度及针盘磨损试验机测试表面改性的效果。利用X 射线衍射(XRD)分析表面改性层晶相的变化。用光学显微镜观察磨痕宽度。分析发现,当温度从 100 ℃升到600 ℃时,注入层厚度明显增加。其中,高温注入时获得较高的表面硬度和较好抗磨损性。XRD分析发现,随温度升高注入层表面形成TiN和Ti2N析出相。  相似文献   
14.
材料表面改性领域的最新发展要求注离子改性范围在纳米量级,离子能量从几个eV到几百个eV,且必须具有强束流。通过离化团束(ICB)技术就可实现上述要求。 团粒是几十、几百或数千个原子或分子的聚合体,它很容易被电离和加速。1972年,Takagi等人通过一个喷嘴利用高温蒸发和膨胀进入真空形成了室温固体团粒,从此开始了离化团束沉积技术的发展。在常规离子束技术中采用原子或分子态离子,而离化团束采用电离的原子团。与单个原子束相比较,团粒束有不同的辐照效应,诸如沉积、溅射、损伤累积和动态退火等。团粒离子对材料的碰撞为表面处理  相似文献   
15.
人造金刚石,由于其表面结构的悬键原子造成表面不稳定性,使得它在常温下为亚稳态,易被氧化以及高温时向石墨转化,使得人造金刚石存在缺陷。表面处理技术被用以改善其稳定性,如金刚石表面镀膜、离子注入等。尤其是离子束处理技术被认为是最有潜力的处理手段,不但其离子的能量、种类、剂量可随意调节,而且纯度也很高,它常被用作半导体掺杂。苟清泉教授曾提出硼皮金刚石的概念,通过使用低能离子注入在金刚石的表面获得稳定的表层结  相似文献   
16.
1.IntroductionAdustyplasmaisathree-componentplasmacon-sistingofelectrons,ionsandmassivesoliddustgrainsheldinsuspension.Thegrainsusua1lychargeneg-ativelytoalargevaIue[l].TheycommonlyoccurinspaceaJswellaslaboratory.Intypicallaboratoryplasmasthedustgralnsacquireanegativechargeduetoadominantcollectionofthemoremobileelec-trons.Atypicalisolated1pm-sizedustgraininaplasmawi1lhaveamasscorrespondingto1O12protonmass(m.)andachargeofafewthousandelectrons[2].lntroducingofathirdcomponentwlthh1ghlychargedan…  相似文献   
17.
18.
模具是压力加工及其他成形技术的关键工艺装备,而模具材料是模具加工业的基础。但即使是新型的模具材料仍难以满足模具高的综合性能的要求。表面处理技术可以以下列两种方式被我  相似文献   
19.
介绍了发生在双辉光离子渗金属技术中的双辉光交链增强型放电现象,分别采用交链等效电路法和微变等效电路法,对这种双辉光交链增强型放电现象进行了描述。  相似文献   
20.
介绍了等离子体源离子注入装置PSⅡ-EX原型机和PSⅡ—IM工业样机,并对其功能、主要技术指标及特点作了简述。等离子体源离子注入处理后,一些材料表面机械性能(如显微硬度、耐磨性、摩擦因数及生物相容性等)的改善情况、改性层的微观分析及计算机模拟结果、工艺开发及初步的等离子体源离子注入增强沉积实验也作了介绍。最后提出了拟开展的有关PSⅡ工作。  相似文献   
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