中频孪生靶非平衡磁控溅射制备Ti／TiN／Ti（N，C）黑色硬质膜

利用自制的等离子体增强型渗注镀复合处理设备上的非平衡磁控溅射功能,在不同硬度基底上制备了Ti/TiN/Ti(N,C)多层复合膜。膜呈深黑色,表面光滑平整,可见光区反射率在8.2%～10.2%之间,亮度L=38.01,沉积速率约为1.21μmh。膜的硬度测试结果受基底影响较大,YW2硬质合金基底上制备0.85μm厚的黑色硬质膜显微硬度Hv(25g)=2936。膜的结合力不高,有待进一步优化工艺加以解决。     

不同掺氮量的类金刚石薄膜的微观结构及其性能研究

采用激光拉曼光谱、轮廓仪、色差仪、微纳米力学综合测试系统、摩擦磨损试验机等设备,对霍尔等离子体源辅助中频非平衡磁控溅射制备的不同掺氮量的类金刚石薄膜的微观结构及其宏观性能进行了研究.结果表明,随着氩气/氮气流量比的增加,薄膜中的sp3含量出现极大值,极大值两侧对应着不同的微观机制.同时,薄膜的沉积速率逐渐降低,硬度与弹性模量呈现出先增大后减小.薄膜的颜色主要是黑色并随着氮气含量的增加薄膜反射率在红光波段增强.     

全方位离子注入技术的工业应用

“全方位离子注入技术的工业应用”课题,“九五”期间主要完成了PSⅡ-IM工业样机改造(包括靶台的优化设计,计算机开环控制系统的完善,脉冲负高压电源的改造,磁过滤金属等离子体源引出效率的提高,平面磁控溅射靶的优化等),物理基础研究(包括有无辅助电极处理内孔表面的实验,基本确定了可处理接受范围的孔径比为2:1;基本评定了PSⅡ处理多工件及不同曲率半径工件能力的工作,开展了双元热偶动态测温法测量PSⅡ的靶台温度和多种材料高温全方位离子注入改性的机理研究)及工艺开发(YZB-5、YZB-26及YZB-38三种型号的军用航空液压泵配流盘全方位离子注入处理工艺和建立了完整的质量保证体系,某型号火箭用液压泵配流盘全方位离子注入处理工艺,基本解决了人工心脏半瓣表面改性的中间过渡层问题,基本     

升温离子注入对医用材料Ti6A14V表面改性影响

对Ti6A1 4V合金进行温度范围从 1 0 0℃到 6 0 0℃ ,注入剂量为 4× 1 0 1 7ions.cm- 2 氮离子等离子体源离子注入 (N-PSII)。用俄歇能谱仪 (AES)对注入样品进行元素深度分布剖面分析。用显微硬度计及针盘磨损试验机测试表面改性的效果。利用X射线衍射 (XRD)分析表面改性层结构的变化。利用光学显微镜观察磨痕宽度。分析发现 ,当温度从 1 0 0℃升到 6 0 0℃时 ,注入层厚度明显增加。其中 ,高温注入时获得较高的表面硬度和较好抗磨损性。XRD分析发现 ,随温度升高注入层表面形成TiN和Ti2 N析出相。     

改进型PSII―IM全方位离子注入工业样机(英文)

报告了核工业西南物理研究院最近研制成功的改进型PSII―IM全方位离子注入工业样机。该机的真空室由不锈钢制成,其直径为1000 mm,长 1070 mm,采用多极会切磁场约束产生的等离子体。该机抽气系统由低温泵、扩散泵和机械泵组成。本底真空度小于 2×10- Pa。真空室内的气体等离子体可由热灯丝或射频放电产生, 4另外还配置了 4 个金属等离子体源、两套磁控溅射靶和冷却靶台。所以该机可以实现全方位离子注入或增强沉积薄膜。该机的负高压脉冲幅值为 10～90 kV, 重复频率为 50～500 Hz, 脉冲上升沿小于2 μs。一般情况下等离子体密度为 108～1010 cm- , 膜沉积速率为 30.1～1.0 nm/s。并给出了一些实验结果。     

离子渗氮新技术的研究现状

为了克服传统离子渗氮的一些固有缺点，近些年来出现一些新的离子渗氮技术，如活性屏离子渗氮、等离子体源离子渗氮、离子注入离子渗氮等，本文简要介绍了这些新技术及其原理、特点，总结了这类技术的共性模型。其中，活性屏离子渗氮技术和等离子体源离子渗氮技术有着明显的设备和工艺优势，可能成为离子渗氮技术的发展方向。     

等离子体浸没离子注入(P)技术在现代材料表面改性中的应用及发展

本文综述了近几十年才研制发展的一种新型的用于材料表面改性的离子注入新技术——等离子体浸没离子注入 (P ) ,待处理的材料直接浸泡在等离子体中进行处理。该技术保留了常规束线离子注入(CB )技术的主要特点 ,还具有需多独特的特点。将系统介绍该技术在现代材料表面改性中的各方面应用及发展。