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BID: a novel BH3 domain-only death agonist 总被引:1,自引:0,他引:1
K Wang XM Yin DT Chao CL Milliman SJ Korsmeyer 《Canadian Metallurgical Quarterly》1996,10(22):2859-2869
The BCL-2 family of proteins consists of both antagonists (e.g., BCL-2) and agonists (e.g., BAX) that regulate apoptosis and compete through dimerization. The BH1 and BH2 domains of BCL-2 are required to heterodimerize with BAX and to repress cell death; conversely, the BH3 domain of BAX is required to heterodimerize with BCL-2 and to promote cell death. To extend this pathway, we used interactive cloning to identify Bid, which encodes a novel death agonist that heterodimerizes with either agonists (BAX) or antagonists (BCL-2). BID possesses only the BH3 domain, lacks a carboxy-terminal signal-anchor segment, and is found in both cytosolic and membrane locations. BID counters the protective effect of BCL-2. Moreover, expression of BID, without another death stimulus, induces ICE-like proteases and apoptosis. Mutagenesis revealed that an intact BH3 domain of BID was required to bind the BH1 domain of either BCL-2 or BAX. A BH3 mutant of BID that still heterodimerized with BCL-2 failed to promote apoptosis, dissociating these activities. In contrast, the only BID BH3 mutant that retained death promoting activity interacted with BAX, but not BCL-2. This BH3-only molecule supports BH3 as a death domain and favors a model in which BID represents a death ligand for the membrane-bound receptor BAX. 相似文献
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根据我国专利法的原则,在对我国催化重整和芳烃生产专利检索过程和结果进行分析的基础上,阐述了对目前我国催化重整工艺专利市场的几点看法并提出对策。 相似文献
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Chao C.-J. Wong S.-C. Chen M.-J. Liew B.-K. 《Semiconductor Manufacturing, IEEE Transactions on》1998,11(4):615-623
Interconnect parasitic parameters in integrated circuits have significant impact on circuit speed. An accurate monitoring of these parameters can help to improve interconnect performance during process development, provide information for circuit design, or give useful reference for circuit failure analysis. Existing extraction methods either are destructive (such as SEM measurement) or can determine only partial parasitic parameters (such as large capacitor measurement). In this paper, we present a new method for extracting interconnect parasitic parameters, which can simultaneously determine the interlayer and intralayer capacitances, line resistance, and effective line width. The method is based on two test patterns of the same structure with different dimensions. The structure consumes less wafer area than existing methods. The method shows good agreement with SEM measurement of dielectric thickness in both nonglobal planarized and chemical-mechanical polished processes, and gives accurate prediction of the process spread of a ring oscillator speed over a wafer 相似文献
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LIU Li xinEngineer Design Institute Changjiang Water Resources Commission Wuhan China CHANG Han junEngineer Design Institute Changjiang Water Resources Commission Wuhan China 《人民长江》2001,(Z1)
1 OverviewTheGeheyanPowerStationhasfourcircularinlettun nels,ontherightbankofdamsite,withtheirexcavationdi ameterof 11.3mto 12.5m,after liningdiameterof 9.5m,axis to axisspacingof2 4m.Thethicknessofpillarsareequaltothetunneldiameter.Theintakecenterisateleva ti… 相似文献
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