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Yang C.W. Fang Y.K. Lin C.S. Tsair Y.S. Chen S.M. Wang W.D. Wang M.F. Cheng J.Y. Chen C.H. Yao L.G. Chen S.C. Liang M.S. 《Electronics letters》2003,39(21):1499-1501
A novel technique to form high-K dielectric of HfSiON by doping base oxide with Hf and nitridation with NH/sub 3/, sequentially, is proposed. The HfSiON gate dielectric demonstrates excellent device performances such as only 10% degradation of saturation drain current and almost 45 times of magnitude reduction in gate leakage compared with conventional SiO/sub 2/ gate at the approximately same equivalent oxide thickness. Additionally, negligible flatband voltage shift is achieved with this technique. Time-dependent dielectric breakdown tests indicate that the lifetime of HfSiON is longer than 10 years at V/sub dd/=2 V. 相似文献
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本文运用一典型的人工神经网络模型─“反向传播”模型,对高氧化态(Ⅱ─Ⅳ)三核金属簇合物的构型分布进行了分析,得到了较好的分类、预报结果为化合物结构分析提供了新的工具。 相似文献
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Various wireless systems and the research preceding their practical use in China are described. The topics discussed include research establishments, research and development projects underway, challenges inherent to digital radio, and expansion opportunities afforded by satellite communications 相似文献
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A large quantity of laminated fine grain zones were observed in the Al-Mg-Li alloy weld metal by manual TIG, which was not found in ordinary Al alloy welds. The fine grain zone is formed because of the Al3(Zr,Ti) particles in the filler metal and the manual filling of filler metal in welding process 相似文献
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和所有设备一样,计算机设备也是在一定环境中工作的,各种环境因素无时不对设备产生影响。要使计算机设备在各种环境中保持良好的性能,必须了解各种环境对计算机设备影响的机理和过程,分析在环境因素中那些因素是影响计算机设备的主要因素及其力度、频率、周期等,以便采取措施保护计算机设备正常工作。简要介绍除温度外,各种环境因素对计算机设备的影响。 相似文献
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