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给出了心形线的像素级绘制算法。基于心形线在直角坐标系中的隐函数形式,迭代过程中避免了三角函数运算,绘制时以x,y的坐标的增量为步长,充分体现了光栅显示器的特点。利用曲线各阶差分的递推计算,只用到整数的加减法运算。生成的曲线误差在坐标轴方向最大偏差不大于半个像素单位。 相似文献
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用射频磁控反应溅射法 (RS)制备出 Gex C1-x薄膜 ,其折射率可以在 1 .7~ 4.0之间变化。设计出单层 Gex C1-x非均匀增透保护膜和含有 Gex C1-x非均匀膜的多层增透保护膜系 ,并在 Zn S基片上制备出 Gex C1-x单层非均匀增透保护膜。设计和实验结果表明 ,Zn S衬底上制备的非均匀膜实现了宽波段的增透 ,在 5 0 0 0~ 85 0 cm-1波数范围内 ,平均透过率从 6 7.1 9%提高到 78.70 % ,比未镀膜净增加 1 1 .5 1 %。 相似文献
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单片式彩色LCOS微显芯片电路设计 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍一种单片式彩色LCOS微显芯片的电路设计。这种LCOS芯片配置合适的光机及电路系统可用于单片式LCOS彩色背投电视或其它投影产品。与传统场序彩色LCOS微显芯片类似,该芯片的主要模块由行扫描驱动器、数据驱动器和象素驱动矩阵三大部分组成。不同的是二者的行寻址方式不同,传统场序彩色LCOS采用的是逐行扫描法,而此处介绍的彩色LCOS采用的是随机寻址方式,将红、绿、蓝三种数据几乎同时写入象素矩阵,配合滚动的光照显示彩色图像。单片式LCOS系统与三片式LCOS系统相比可以节省微显芯片及配套电路系统数目,从而大大节约成本,在背投电视和其他投影产品产业中有很大的实用价值。 相似文献
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采用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术,在125℃的低温条件下,沉积了一系列不同厚度的本征微晶硅(μc-Si)薄膜。对材料的光电特性和结构特性的测试结果表明,低温条件下制备的μc-Si薄膜具有较厚的非晶孵化层,并且纵向结构演变较为明显。采用梯度H稀释技术,在沉积过程中不断降低H稀释度,改善了μc-Si薄膜的纵向均匀性。将此技术应用于非晶硅(a-Si)/μc-Si叠层电池的μc-Si底电池,在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)塑料衬底上制备出初始效率达到6.0%的a-Si/μc-Si叠层电池。 相似文献
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