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101.
本文详细分析了硅集成电路的高温特性和高温失效模式,指出了CMOS集成电路的高温失效的主要模式是高温闭锁效应。解决这个问题的有效途径之一是研制介质隔离的CMOS IC,例如SOI CMOS集成电路。 相似文献
102.
VLSI二维阵列的容错设计 总被引:1,自引:0,他引:1
本文在第一节中指出了在VLSI二维阵列引入容错技术的必要性,并就近年来在结构冗余的二维阵列的容错技术的两种基本重排方法分别予以简单介绍。在第二节中则着重阐述对两种重排技术进行改进的基本思想、基本重规则,并在最后对重排成功率进行了比较。 相似文献
103.
104.
四、硅系统设计的CAD系统四(一)硅系统设计中CAD的主要内容如前所述,VLSI系统具有很高的复杂性.VLSI系统设计的关键是复杂性管理.硅系统的设计方法学的基本出发点即是有效的复杂性管理.为了实现硅系统的设计,必须开发建立在对应的设计方法学基础上的CAD系统.这种系统可以显著加快设计速度,可以在未进行实际制备前建立相应的模型对其功能及性能进行模拟,从而使设计一次成功的几率大为提高.根据VLSI的特点,通常芯片中一个错误就会使其失效.改正设计中的错误,需要重新设计,制版及流水制备,其代价十分昂贵.因此,CAD系统是VLSI设计中不可缺少的工具.随着复杂性的增大,CAD越来越成为VLSI设计的核心. 相似文献
105.
随着微电子技术的发展,集成电路的芯片面积、集成度愈来愈大。芯片面积及集成度的增大带来了两个问题:一是成品率问题,二是可靠性问题。本文阐述了容错设计在实时信号处理用VLSI中的必要性、意义和研究内容;讨论了二维脉动阵列的容错并给出了算法;讨论了VLSI单元的完全自检查问题,并给出了实现电路;给出了VLSI的成品率与可靠性分析模型;最后分析了模拟结果并给出了结论。 相似文献
106.
107.
108.
宽温区高温体硅CMOS倒相器的优化设计 总被引:4,自引:1,他引:3
在对体硅 CMOS倒相器直流特性、瞬态特性的高温模型和高温特性深入研究的基础上 ,提出了高温体硅 CMOS倒相器结构参数设计的考虑 ,给出了宽温区 (2 7~ 2 5 0℃ )体硅 CMOS倒相器优化设计的结果。模拟验证表明 ,所设计的体硅 CMOS倒相器在宽温区能满足下列电学参数设计指标 :输出高电平 Vo H>4 .95 V,输出低电平 Vo L<0 .0 5 V,转换电平 V*i (2 7℃ ) =2 .5 V,V*i(2 5 0℃ ) =2 .4 V,上升时间 tr(2 7℃ ) <110 ns,tr(2 5 0℃ ) <180 ns,下降时间 tf(2 7℃ ) <110 ns,tf(2 5 0℃ ) <16 0 ns。 相似文献
109.
一种自动体偏置多阈值电压高温 SOI CMOS电路 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了一种高温OICMOS电路设计方法--自动体偏置多阈值电压SOICMOS(简称ABB-MT-SOICMOS:Auto-Bulk-BiasedMulti-ThresholdSOICMOS)电路。文中主要讨论了ABB-MT-SOICMOS电路的结构与工作原理,设计与布局等,给出了内部电路电压和电流的模拟结果,并简述了该电路的应用前景。 相似文献
110.
给出了微小流量传感器的数值模型,并进行了数值模拟。数值模型表明流体前端与末端两端点间距是提高传感器灵敏度的关键因素,数值模拟结果为微小流量传感器设计提供了两端点最佳间距。 相似文献