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991.
随着经济和社会的快速发展,人们的生活水平逐渐提高,家里的用电设备更多了.因此,人们对于电力的需求也逐步增大,这就要求了电力系统配网建设的不断增多,进而保障人们对于电力的需求.配方系统的建设最主要的作用是保证电力系统的安全,为广大人民群众提供更加优质和安全的电能,保障服务质量.近年来,我国对于配网系统中电力工程技术的研究层出不穷,该项技术的可靠性得到了越来越多的重视.本文结合配网系统相关技术的要点分析,阐述影响配网系统中电力工程技术可靠性的因素,并且说明了如何提高配网系统中电力工程技术可靠性的方法. 相似文献
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In this paper the authors advance a new theory with which the effectiveelastic modulus of random short-fiber composites can be easily obtained.The basic equations of a heterogeneous elastic medium are as follows: 相似文献
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陶氏化学全资子公司陶氏全球科技有限公司(DCT1)上周宣布,印度Reliance工业有限公司(RIL)旗下的Reliance石油有限公司在其新建的世界级聚丙烯工厂中,选用了陶氏的UNIPOL聚丙烯工艺。新工厂拥有两条45万吨/年生产线,总产能将达到90万吨/年聚丙烯,预计2008年12月投入使用。 相似文献
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1000.
李彦磊刘玉岭王辰伟李祥州岳昕 《微纳电子技术》2016,(7):478-482
报道了一种用于技术节点为28 nm的集成电路多层铜互连阻挡层化学机械平坦化(CMP)的弱碱性抛光液(pH值为8.5),仅由平均粒径为20 nm的硅溶胶、FA/O多羟多胺螯合剂及非离子表面活性剂组成。实验结果表明,研发的弱碱性阻挡层抛光液对牺牲层SiO2、阻挡层Ta及金属互连线Cu等多种材料具有优异的速率选择性,去除速率一致性大于95%,并在28 nm多层铜布线片阻挡层CMP后具有较高的平坦化性能,分别获得了20 nm以下深度的碟形坑和蚀坑。通过电化学极化曲线测试表明,此弱碱性阻挡层抛光液能有效减少Cu和Ta之间的腐蚀电位差,并避免了铜互连结构Cu和Ta界面处电偶腐蚀的产生,这对提高集成电路芯片可靠性具有重要意义。 相似文献