碳纳米管/镍复合镀层硬度研究

在瓦特镀镍溶液中加入碳纳米管,研究球磨处理、搅拌分散形式、分散剂对碳纳米管在镀液中均匀稳定分散的影响,采用恒电流电沉积工艺制备了碳纳米管／镍复合镀层。结果表明：碳纳米管球磨后加入到镀液中,并通过超声分散,可以得到稳定的复合电镀液;碳纳米管与镍能很好地共沉积。当阴极电流密度为2．5A／dm^2、镀液温度为45℃、碳纳米管加入量为0．8～1．2g／L时镀层显微硬度达到最大值。     

镁合金薄板的搅拌摩擦焊工艺

搅拌摩擦焊是一种新型的塑化连接工艺,对于用熔化焊方法难于焊接的有色金属,有着极大的应用潜力。本文针对我国航空航天工业中常用的MB8镁合金,试验研究了镁合金薄板的搅拌摩擦焊工艺,对焊缝的成形特点、接头组织特征及力学性能进行了分析探讨。结果表明,MB8镁合金塑化连接的接头外观成形良好,内部无气孔、裂纹,焊后焊件几乎无变形,接头性能可达到母材抗拉强度的76％。塑化连接接头由焊核和热影响区组成,焊核区是经历了动态再结晶的细小晶粒,热影响区的晶粒较粗大。     

40 Cr钢转向节轴部直径对其淬火态组织和硬度的影响

将轴部直径为50和70 mm的40Cr钢转向节加热至860℃保温120 min水淬.检测了不同轴径的转向节淬火后的显微组织和硬度.结果表明:轴径为50 mm的转向节从表面到心部的组织主要为马氏体,而轴径为70 mm的转向节表面为马氏体,芯部为珠光体+少量铁素体.轴径为50 mm的转向节被淬透,从表面至15 mm深处的平...     

离子注入硼、氮后纯铁表层的组织结构与性能

本文对纯铁进行了硼、氮离子注入试验，利用透射电镜和ｘ射线衍射仪分析了纯铁注入层的组织结构，而且对纯铁注入层的硬度和耐蚀性进行了测试。结果表明：纯铁注入硼离子后表层形成了弥散的ＦｅＢ相，晶界处形成了较粗大的Ｆｅ２Ｂ相；注入硼离子后再注入氮离子进一步形成了Ｆｅ２Ｎ和Ｆｅ３Ｎ相。硼、氮离子注入明显提高表层的硬度，显著地提高纯铁表层的耐蚀性。     

PTFE对复合镀层摩擦特性的影响

研究了PTFE添加量对Ni基电刷镀PTFE复合镀层的摩擦特性和磨损机制的影响.采用扫描电镜、X射线衍射仪和能谱仪分析了摩擦前后的磨损表面的形貌、组织和成分变化.结果表明:PTFE添加量对复合镀层的组织和摩擦特性有较大的影响.当PTFE体积分数为3%和4%时,复合镀层的摩擦因数最小;当PTFE体积分数为2%时,复合镀层的耐磨性最好.在磨损面上富含PTFE复合层的形成和面积随PTFE添加量的变化影响了复合镀层的摩擦特性及其磨损机制.     

ZnO掺杂对ZnSb相变薄膜结构和电学特性的影响

目的通过掺杂不同量的ZnO提升ZnSb相变薄膜的晶化温度和晶态膜电阻。方法采用磁控溅射双靶共溅方式制备不同含量ZnO掺杂的ZnSb薄膜,使用真空四探针设备原位测试薄膜电阻随温度的变化情况,用EDS、DSC、XRD、Raman、FESEM、UV-Vis分别对薄膜的成分、晶化温度和熔点、掺杂薄膜的结构、薄膜厚度、表面形貌以及光学带隙进行分析。结果 ZnO掺杂量为1.6%时,Zn O掺杂提升了薄膜的晶化温度和晶态薄膜的电阻,并抑制了ZnSb晶粒的长大。薄膜的晶化温度由253℃提升至263℃,光学带隙由0.37 eV提升至0.38 eV,掺杂薄膜晶粒大小为20 nm左右,远低于未掺杂的50 nm。掺杂薄膜内的O原子更易与Sb结合,过多的Zn O掺杂会使薄膜结晶后形成Sb_2O_3晶粒,使薄膜的晶化温度下降。结论低含量ZnO掺杂的ZnSb薄膜具有更高的晶化温度、更细小的ZnSb晶粒以及更高的膜电阻;过量的Zn O掺杂使薄膜在结晶后产生分离的Sb_2O_3相,恶化薄膜性能。     

高强高导铜合金的应用与制备方法

介绍了高强高导铜合金的应用及研究现状。阐述了合金化法和复合材料法等制备高强高导铜合金的方法及其研究进展。介绍了高强度导铜合金制备的研究热点,并提出了高强高导铜合金的发展方向。     

40Cr钢受冲击后的疲劳性能研究

分别对受冲击和未受冲击的40Cr钢进行疲劳实验,测定了两条疲劳寿命S-N曲线;采用S-3400N扫描电子显微镜对疲劳断口形貌进行分析。结果表明,40Cr钢受到冲击后,其S-N曲线显示出材料的疲劳寿命明显下降。在280MPa的应力下,40Cr钢受到冲击后的疲劳寿命下降34%;在600MPa的应力下,疲劳寿命下降73%;而在520MPa的应力下,疲劳寿命下降7%。断口的形貌特征表明,冲击带来的应力集中导致瞬断区面积明显偏大,从而造成疲劳寿命的下降。