全文获取类型
收费全文 | 136篇 |
免费 | 21篇 |
国内免费 | 7篇 |
专业分类
电工技术 | 51篇 |
综合类 | 5篇 |
化学工业 | 21篇 |
金属工艺 | 2篇 |
机械仪表 | 3篇 |
建筑科学 | 12篇 |
矿业工程 | 13篇 |
能源动力 | 1篇 |
轻工业 | 2篇 |
水利工程 | 8篇 |
石油天然气 | 2篇 |
武器工业 | 1篇 |
无线电 | 32篇 |
一般工业技术 | 4篇 |
冶金工业 | 3篇 |
原子能技术 | 2篇 |
自动化技术 | 2篇 |
出版年
2024年 | 2篇 |
2023年 | 6篇 |
2022年 | 2篇 |
2021年 | 3篇 |
2020年 | 1篇 |
2019年 | 3篇 |
2018年 | 10篇 |
2017年 | 1篇 |
2016年 | 2篇 |
2015年 | 8篇 |
2014年 | 7篇 |
2013年 | 5篇 |
2012年 | 5篇 |
2011年 | 14篇 |
2010年 | 13篇 |
2009年 | 9篇 |
2008年 | 7篇 |
2007年 | 6篇 |
2006年 | 13篇 |
2005年 | 4篇 |
2004年 | 10篇 |
2003年 | 6篇 |
2002年 | 3篇 |
2001年 | 6篇 |
1999年 | 1篇 |
1998年 | 2篇 |
1996年 | 5篇 |
1993年 | 3篇 |
1990年 | 3篇 |
1989年 | 2篇 |
1986年 | 1篇 |
1985年 | 1篇 |
排序方式: 共有164条查询结果,搜索用时 0 毫秒
61.
62.
为实现TSV硅衬底表面微粗糙度及去除速率的优化,对影响TSV硅衬底精抛后表面微粗糙度的关键因素——抛光液组分的作用进行分析。采用正交实验方法进行精抛液组分(包括有机胺碱、螯合剂、磨料和活性剂)配比控制的组合实验。实验结果表明,抛光液组分中活性剂体积分数对CMP过程中硅衬底片表面微粗糙度及去除速率的影响最为显著。优化抛光液组分配比条件下,CMP后硅衬底表面微粗糙度可有效降到0.272 nm(10μm×10μm),去除速率仍可达到0.538μm/min。将优化后的抛光液与生产线上普遍采用的某国际商用抛光液进行对比,在抛光速率基本一致的条件下,粗糙度有效降低50%。 相似文献
63.
64.
65.
66.
现代社会,教育必须培养更具创造力和锲而不舍、追根究底的人才,来解决新世纪社会发展所带来的各种问题;面对新时代更多元的世界文化,也需要一种具有团队精神、愿意与他人合作、肯随时随地学习新知识和不断充实自我的人。目前的教育现状是不能满足这种要求的,教育必须改革,而教育改革又当以课程改革为要,课程改革应首改教材。本文着重探讨了高中数学新教材对于课程改革的作用。 相似文献
67.
68.
为了解决北方风电弃风严重的问题,提出通过蓄热式电锅炉进行供暖消纳风电的策略.首先考虑到风电具有不确定性,通过对预测误差区间离散化处理,建立误差较小的风电预测模型.然后将电网系统与供暖系统结合,实时监测供暖系统的出水、回水温度,通过电网调度发布指令,并以弃风率最小为目标函数进行优化调度.最后通过北方某地区的供暖数据,建立... 相似文献
69.
70.