羧甲基葡甘聚糖的制备

葡甘聚糖经羧甲基化改性后,其溶解性、抗潮性、成膜性能等明显改善,可用作空心胶囊的囊材。通过正交试验,得出了葡甘聚糖羧甲基化改性作囊材的最佳反应条件：6g魔芋精粉,6g氯乙酸,1．2g碘化钾,70℃水浴反应4h,所得产物的取代度为0.571。研究了改性后羧甲基葡甘聚糖的理化性能。     

镀铬层在Na2S溶液中的耐蚀性研究

通过称量法测试了镀铬层在不同温度、不同质量分数Na2S溶液中的腐蚀速率,并采用恒电位极化法研究了镀铬层在Na2S溶液中的电化学行为,分析了各因素对镀铬层腐蚀行为的影响。研究结果表明：镀铬层在Na2S溶液中的腐蚀过程有钝化产生;同一温度条件下,提高浓度可加速镀铬层的钝化。     

微生物碳酸酐酶在岩溶发育中的研究现状及展望

碳酸酐酶是生物体中普遍存在的一种金属酶,能催化CO<,2>可逆的水合反应,微生物是碳酸酐酶的重要来源之一.综述了国内外微生物碳酸酐酶在岩溶发育中的研究现状,阐述了碳酸酐酶对碳循环的影响及其在石漠化治理中的作用,并对微生物碳酸酐酶在岩溶发育中的研究进行了展望.     

ADAMS与ANSYS在自卸车副车架强度分析中的研究

针对副车架在卸载工况下进行有限元分析时所需要的载荷边界条件难以精确测量的实际问题,以某矿用自卸汽车为研究对象,依据多体系统动力学和第四强度理论,联合应用ADAMS和ANSYS两大软件对自卸汽车副车架进行卸载工况下的强度分析。研究结果表明:建立合理的虚拟样机,就能够通过ADAMS/PostProcessor获得副车架在卸载工况下进行有限元分析的精确载荷条件;在货物处于下滑临界阶段,不论是正常卸载,还是极端危险卸载,与副梁的屈服极限343MPa相比,副车架的最大应力值分别增大了1.7%和12.5%,其强度不满足作业要求,为副车架结构的改进提供重要的力学支撑。     

液压支架的分析优化

液压支架是煤矿机械化综采工作面的关键设备,随着综采技术的发展,对液压支架设计的要求越来越高。现在很多煤矿企业仍然停留在手动优化四连杆参数的阶段,导致设计出的液压支架顶梁轨迹摆幅大,并且优化工作耗时长。介绍了液压支架设计技术、流程。分析其运动轨迹和受力,建立运动学和平面力学分析模型,采用多目标数学模型参数优化的分析方法,对支架四连杆机构进行了优化设计。     

普通冷冻透射电子显微镜表征LiPxSy类固态电解质高分辨像的方法

本文采用配备冷冻样品杆的普通透射电子显微镜,探索固态电池中LiP_xS_y类电解质材料的物相结构和高分辨晶格像的表征方法。LiP_xS_y类电解质具有很高的导离子率,是理想的固态电解质材料,但该类电解质性质敏感,对空气的不稳定性导致其任何处理均需要惰性气体环境。试验探索表明,利用在全程液氮中冷冻转移的手段,可以有效保留LiP_xS_y类电解质材料的物相,但受样品表面凝结冰的影响,冷冻低剂量(low dose)模式很难获得高分辨晶格像。通过冷冻杆升温(升温过程中冷冻杆shutter需呈打开状态)、而后常温表征的手段,成功获得了LiP_xS_y类电解质材料较理想的高分辨晶格像。     

场发射阵列阴极(FEA)在微波器件中的应用

分析了场发射阵列阴极的跨导、电容以及阵列阴极的发射电流密度、电子束直径、电流稳定性对微波器件性能的影响,并提出了相应的改善措施,有效地提高了微波器件的性能.最后,概述了金刚石薄膜及碳纳米管阵列阴极在微波器件中的应用情况,目前虽然还不成熟,却显得有极大的潜力.     

提高高校800m跑运动成绩的有效途径

运用运动生理学、运动生物化学、营养学的理论，针对800m跑运动专项特点进行分析，对如何提高高校学生800m跑运动成绩的训练方法、手段及应注意的问题进行探讨，以期达到最有效的训练效果。     

硼化镧薄膜的发射特性研究

LaB6阴极凭借其优良的发射特性已广泛应用于各种大电流密度的电子源，但是硼化镧薄膜的制备方法以及其发射特性还未得到深入的研究，本文对在Ta金属基底材料上使用电子束蒸发法得到的硼化镧薄膜表面型貌使用扫描电子显微镜进行了观测，使用XPS紫外光电子能谱仪测量了其原子比，薄膜显示出良好的发射特性，利用热发射测量逸出功，利用Richardson直线法计算得到薄膜材料的逸出功为2．64eV。     

VCD视盘机激光头故障检修及代换

例1 机型:金正SVCD—N108D型VCD视盘机故障现象:装入光盘后显示无盘,观察主轴不转动。故障分析:由于其他功能正常,因此判断故障部位在激光头和伺服板上。故障检修:观察激光头运作情况;激光头径向内移,物镜也有上下三次搜索动作,并且有红色激光射出,说明激光头工作条件基本具备。放入一张光盘,待入仓到位后用手指拨动一下压片盘,有时主轴能转动,并能读出总时间,再进入播放。检查主轴电机及驱动电路正常,当无意将机芯倒置着播放时发现一切正常,故怀疑聚焦线圈驱动电压不足,使在正放时聚焦线圈