等离子体增强化学气相沉积端面减反膜的研究

利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术制作半导体有源器件端面减反膜的方法简单易行,且适合进行大规模在片制作.采用1/4波长匹配法对减反膜的折射率、膜厚及其容差进行了理论设计,并在选定折射率下,对PECVD的沉积速率进行了测量.在此基础上,制作了1.31 μm InGaAsP氧化膜条形结构超辐射发光二极管,通过测定输出光谱调制系数的方法确定出减反射膜的反射率为6.8×10-4,并且具有很好的可重复性.     

连续多精度整数的快速乘方

给出了计算连续多精度整数或准连续多精度整数乘方的快速算法,分析了算法的计算复杂度,并将新算法与普通求乘方方法进行了比较,试验结果表明新提出的算法比普通算法更有效.最后给出了算法在二次筛法中的应用.     

大摆磨粉机尾气净化系统的改进

大摆磨粉机是我厂生产黑色炭素制品的关键设备,从建厂投产使用以来,由于种种原因一直没有得到彻底解决,长期处于尾气净化程度不太理想,污染了大气源,经改进后,污染了大气源,经改进后,大摆尾气达到了净化标准,保护了大气源。