全文获取类型
收费全文 | 42篇 |
免费 | 3篇 |
国内免费 | 8篇 |
专业分类
电工技术 | 4篇 |
综合类 | 4篇 |
金属工艺 | 3篇 |
机械仪表 | 20篇 |
矿业工程 | 3篇 |
轻工业 | 2篇 |
水利工程 | 1篇 |
石油天然气 | 6篇 |
无线电 | 3篇 |
一般工业技术 | 4篇 |
冶金工业 | 1篇 |
原子能技术 | 1篇 |
自动化技术 | 1篇 |
出版年
2024年 | 2篇 |
2023年 | 3篇 |
2022年 | 2篇 |
2020年 | 3篇 |
2019年 | 4篇 |
2018年 | 2篇 |
2016年 | 3篇 |
2015年 | 1篇 |
2014年 | 3篇 |
2013年 | 3篇 |
2012年 | 1篇 |
2010年 | 2篇 |
2009年 | 2篇 |
2008年 | 4篇 |
2007年 | 5篇 |
2006年 | 3篇 |
2004年 | 3篇 |
2002年 | 1篇 |
2001年 | 2篇 |
2000年 | 3篇 |
1993年 | 1篇 |
排序方式: 共有53条查询结果,搜索用时 15 毫秒
41.
磁流变抛光消除磨削亚表面损伤层工艺研究 总被引:1,自引:1,他引:1
针对传统光学制造技术对亚表面控制局限性和磁流变抛光的特点,提出用磁流变抛光替代研磨工序直接衔接磨削工序的新工艺流程。采用自研的磁流变抛光机床KDMRF−1000和水基磁流变抛光液KDMRW-2进行了磁流变抛光去除磨削亚表面损伤层的实验研究。直径为100mm的K9材料平面玻璃,经过156min的磁流变粗抛,去除50um深度的亚表面损伤层,表面粗糙度Ra值提升至0.926nm,经过17.5min磁流变精抛,去除了200nm深度的材料,并消除磁流变粗抛产生的抛光纹路,表面粗糙度Ra值提升至0.575nm。应用磁流变抛光可以高效消除磨削产生的亚表面损伤层。磁流变抛光替代研磨工序直接衔接磨削工序的新工艺流程可以实现近零亚表面损伤和纳米精度抛光两个工艺目标。 相似文献
42.
高精度光学表面磁流变修形技术研究 总被引:2,自引:0,他引:2
作为一种确定性子孔径的光学加工方法,磁流变抛光具有高精度、高效率、高表面质量以及无亚表面损伤的特点,有能力对各种形状的光学零件进行加工。本文系统的介绍了磁流变抛光高精度光学表面的关键技术,并采用自研的KDMRF-1000磁流变抛光机床和KDMRW-1水基磁流变抛光液对直径100mm的K4材料平面反射镜和直径200mm的K9材料球面反射镜进行加工实验。样件一面形收敛到PV值55.3nm,面形RMS值5.5nm;样件二面形收敛到PV值40.5nm,面形RMS值5nm。样件的表面粗糙度均有显著改善。 相似文献
43.
对磁流变抛光进行高精度光学表面加工中必须考虑和控制的7类参数,即磁流变液黏度、磁场强度、磁流变液流量、抛光轮转速、锻带厚度、切深以及抛光斑点特性进行分析和优化,得出单因素条件下材料的去除量总是同这7类参数的变化存在一定的内在联系.在分析和优化磁流变抛光过程中这些参数的基础上,采用自研的KDMRF-1000机床对一块K4材料口径100mm的平面镜进行了抛光加工实验.经过两次循环大约200min的抛光后.面形误差值由最初的峰谷值(PV)为262nm,均方根值(RMS)为49nm收敛到最终的PV为55nm,RMS为5.7nm实验中面形误差的收敛表明:只要掌握了磁流变抛光过程中的这7种参数的变化规律,就能充分利用磁流变抛光技术,为高精度光学表面的加工提供可靠的保障. 相似文献
44.
45.
46.
为进一步提升熔石英元件的激光损伤阈值,研究了氢氟酸(HF)动态酸刻蚀条件下磁流变抛光工艺对熔石英元件激光损伤特性的影响规律。首先,采用不同工艺制备熔石英元件,测量它们的表面粗糙度。然后,采用飞行时间-二次离子质谱法(OF-SIMS)检测磁流变加工前后熔石英元件中金属杂质元素的含量和深度;采用1-on-1方法测试激光损伤阈值,观测损伤形貌,并对损伤坑的形态进行统计。最后,分析了磁流变抛光工艺提升熔石英损伤阈值的原因。与未经磁流变处理的熔石英元件进行了对比,结果显示:磁流变抛光使熔石英元件的零概率激光损伤阈值提升了23.3%,金属杂质元素含量也显著降低,尤其是对熔石英激光损伤特性有重要影响的Ce元素被完全消除。得到的结果表明,磁流变抛光工艺能够被用作HF酸动态酸刻蚀的前道处理工艺。 相似文献
47.
48.
本文针对某电厂#3机组DCS系统出现画面无响应的异常现象,分析了具体原因,提出了对系统配置优化建议、日常操作注意事项及故障出现时采取的措施。 相似文献
49.
50.