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11.
为研究发射药连续化生产技术,以发射药溶塑制造工艺为背景,建立发射药连续化生产模型.利用制造发射药的物料在工序中的流动速度,研究了发射药连续化生产各工序物流匹配关系和工艺设备匹配关系,通过对发射药连续化生产工艺单元物料流速进行分析,建立了发射药连续化生产线物料流速为特征的发射药连续化生产模型,并以某种发射药制造为例研究发射药连续化生产模型在该发射药连续化生产中的应用.结果表明:该模型可用于发射药连续化生产工艺优化,解决离散工序与连续工序的连续化结合问题.  相似文献   
12.
要提高短波天馈线的发射质量,首先要提高馈线的行波系数。本文介绍了天线部分的计算及调整方法。  相似文献   
13.
本文通过高分辨电子能量损失谱(EELS)的实验分析与密度泛函计算相结合的方法,研究了NaxCoO2·yH2O系统的电子结构特性和电子关联效应.实验结果表明,金属性Na0.3CoO2材料和电荷有序绝缘体Na0.5CoO2的O-K吸收边存在明显的结构差别,在Na0.5CoO2的EELS中第一个峰发生明显分裂,密度泛函计算证实这种分裂现象和电子关联效应直接相关.通过理论模拟谱线与实验谱线的比较确定了其电子关联强度为U=3.0 eV.在Na0.3CoO2·yH2O(y=0,0.6,1.3)超导体系中,实验发现其能损谱的低能部分随着水含量的增加发生系统的变化,损失峰向低能量方向逐步移动.电子结构计算表明水分子的插入可以引起费米面附近能态原子轨道杂化情况的改变,从而导致EELS的变化.  相似文献   
14.
本文介绍了实现BPON上行注册过程的两种方法:二叉树搜索法和二进制指数随机后退(binary exponential back-off,BEB)法,分析了二叉树搜索法测距过程中ONU的两种安装方法;根据二进制指数随机后退法的原理,提出了在BPON上行注册过程中利用随机后退的方法解决ONU的冲突问题,然后通过仿真实现了对这两种注册方法的比较.从仿真结果可以得出结论,BEB算法具有较高的搜索效率,而且实现简单.  相似文献   
15.
在功率RF LDMOS器件中,击穿电压、截止频率fT和导通电阻Ron是器件性能的关键参数,为提高这几个器件性能参数可采取的各种措施又往往是互相矛盾和相互制约的.文中研究了几个关键参数之间的关系和优化方案,以及国际上在这方面所开展的研究和取得的进展,为进一步的研究和探索提供参考.  相似文献   
16.
将Si、Ge和Ar三种离子注入到磁控溅射制备的富硅二氧化硅和热生长的二氧化硅中,在N2气氛中,作550、650、750、850、950和1050℃退火后,进行电致发光研究.对比样品为退火条件相同的未经注入的上述两种二氧化硅.对于离子注入情况,只观察到Au/1050℃退火的离子注入的富硅二氧化硅/p-Si的电致发光.低于1050℃退火的离子注入富硅二氧化硅和上述各种温度下退火的热生长二氧化硅,无论离子注入与否,都未观察到电致发光.Au/未注入富硅二氧化硅/p-Si的电致发光光谱在1.8eV处出现主峰,在2.4eV处还有一肩峰.在Au/Si注入富硅二氧化硅/p-Si的电致发光谱中,上述两峰的强度分别增加了2倍和8倍;在Au/Ge注入不大,但都观测到峰位位于2.2eV的新发光峰.采用隧穿-量子限制-发光中心模型对实验结果进行了分析和解释.  相似文献   
17.
介绍了一种大电流高精度集成汽车电压调节器的设计原理及电路结构.该集成汽车电压调节器由基准电压源、比较放大器、保护电路和调整管等单元组成.该电路采用硅双极型对通隔离功率IC工艺研制,具有过流/过压、过热保护功能,以及电压调节精度高、调整电流大等特点.  相似文献   
18.
很多年来,半导体工业上生产多晶硅、二氧化硅、氮化硅和无定型硅都是采用标准的常压冷壁化学汽相淀积技术.而在半导体器件工艺中,随着大规模集成电路的发展和超大规模集成电路的出现,对用常压CVD制备的半导体膜和绝缘膜的要求越来越高,原来的常压CVD技术淀积方法已经不能满足这种要求,人们开始研究新的技术来满足电路对工艺的要求.  相似文献   
19.
影响印刷质量控制的因素   总被引:2,自引:0,他引:2  
雨馨 《今日印刷》2005,(7):27-29
通过纸张、橡皮布、油墨、版材和滚筒等印刷材料,对生产过程中的印刷质量控制几乎起不到什么作用;在印刷生产车间.印刷操作人员也很少花费时间和金钱来检测这些原材料。GATF的印刷专家提供了在印刷机开始运转之前该做哪些和不该做哪些工作的一些建议,使印刷故障问题降至最低限度。  相似文献   
20.
采用活性染料对羊毛织物进行冷轧堆染色,以K/S值为评价依据,以确定羊毛活性染料冷轧堆染色的优化工艺,即尿素100 g/L,亚硫酸氢钠20g/L,pH值4.5~6.5,堆置时间24 h,轧余率110%.染色后的羊毛织物具有较高的固着率、匀染性和透染性,染色牢度达4~5级以上,断裂强力和断裂伸长损失控制在15%以内,撕破强力损失控制在20%以内.  相似文献   
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