基于FPGA和磁传感器阵列的磁场扫描系统

为实现铁磁性物体的无损检测,设计了一种基于FPGA和磁传感器阵列的磁场扫描系统。本系统采用了FPGA作为主控器,其中包含了AD配置模块、AD接口模块和数据缓存模块,FPGA控制传动装置进行扫描,通过磁传感器阵列扫描将磁场转换为对应的电压信号,通过以AD7768为核心的模数转换模块将电压信号传送给FPGA,实现8路并行高速磁场数据采集,然后在FPGA中通过双线性插值和伪彩色转换算法的处理,把采集的磁场数据转换成磁场分布的图像,存储在SD卡中并在LCD中实时显示。实验中,使用磁场扫描系统对环型磁铁、磁化后的铁丝、内嵌于木板中的铁钉、剥线钳和尖嘴钳进行了磁场扫描,采用基于磁通量与大津法为基础的程序处理,对物体进行定位与识别,定位的均方根误差平均值为3 mm,测量的长度接近实际物体的长度,能够辨别磁性物体的位置和方向,能够通过物体的特征磁场识别磁性物体,达到对铁磁性目标的无损检测和识别的目的。本系统采用了以FPGA ZYNQ7010、AD7768、HMC1001为主的电路采集磁场数据,具有采集速率高、扩展方便、功耗低,能获取磁场空间分布图像等优点,可以应用于铁磁性目标的定位和识别等领域,如安全检测、地下水下的磁性目标探测等。     

网络化的ANN-GA系统优化中空纤维镍基板制备工艺参数

在实验室研究中空纤维镍基板的制备工艺的基础上,采用自制的网络化的ANN-GA系统对58个样本进行了工艺参数优化和寻优,得到的最佳工艺参数如下：中空镍纤维含量为97％;烧结温度为1275K;保温时间为20min;造孔剂PVB,PP和Ni（OH）2的含量分别为5％,3．5％和1％．在最优工艺条件基础上,获得了性能优异、孔率接近87％的基板材料．并用计算机分析和预报了各单因素的影响规律,预测结果与文献报道的实验结果一致．     

AlON的合成工艺

分析了合成AlON的各种方法,用模式识别结合神经网络对碳热还原氮化合成AlON工艺进行了优化,利用模式逆映射得到了理想的合成工艺参数,对AlON体系进行了热力学初步分析,计算了温度为2073K时合成AlON的热力学参数状态图,根据热力学参数状态图所确定的条件,热压合成AlON陶瓷,对所合成的AlON试样进行了X射线衍射标定及部分物理性能的测定,其密度为3．63g/cm^3,约为其其理论密度为97．8％。     

基于边缘熵和局部FT分布的超声图像分割模型

由于采用高斯和瑞利分布描述超声图像均存在较大偏差,且分割过程缺乏超声图像边缘信息引导,致使其相应的局部高斯分布拟合(LGDF)模型和局部瑞利分布拟合(LRDF)模型对超声图像分割性能不理想.针对上述问题,提出了一种边缘熵加权的局部Fisher-Tippett(FT)分布拟合模型.该模型根据超声图像中目标和背景在局部区域...     

采用煤矸石和用后 Al2O3-SiC-C铁沟料合成β-SiAlON

在热力学分析的基础上,以用后Al2O3-SiC-C铁沟料、煤矸石和活性炭为主要原料,采用碳热还原氮化法合成了β-SiAlON。详细讨论了合成温度(1 723和1 823 K)、活性炭加入量(理论需碳量、过量15%、过量30%和过量45%)、Si与Al元素摩尔比(分别为3:3,3.5:2.5和4:2)和煤矸石种类(低碳煤矸石和高碳煤矸石)对合成β-SiAlON的影响,并采用XRD、SEM和EDS等对合成产物进行分析。结果表明:(1)当合成温度由1 723 K增加到1 823 K时,合成后试样中β-SiAlON相含量增加,O’-SiAlON和α-Al2O3的含量降低;(2)加入过量的活性炭有利于合成后试样中β-SiAlON相含量的增加;(3)随着Si、Al元素摩尔比的增大,合成后试样中β-SiAlON相含量增多;(4)采用低碳煤矸石的试样中β-SiAlON相含量高于采用高碳煤矸石的,其原因是配料时前者中配入的活性炭更多,而活性炭的活性较高,更有利于促进碳热还原氮化反应的进行。     

以用后硅砖、黏土砖和滑板砖为原料合成莫来石

以用后Al2O3-C滑板砖、用后硅砖和用后黏土砖为原料合成莫来石,研究了原料种类(用后滑板砖+用后硅砖、用后滑板砖+用后黏土砖),Al2O3、SiO2摩尔比(3.5:2、3:2和2.5:2)和合成温度(1 550、1 600℃)对合成莫来石材料的相组成、显微结构和抗折强度的影响.结果表明:1)以用后滑板砖+用后硅砖或用后滑板砖+用后黏土砖为原料,在1 550或1 600℃保温4 h均可以合成出莫来石材料.2)最适宜的合成工艺参数为:以用后滑板砖和用后黏土砖为原料,按Al2O3、SiO2摩尔比为3.5:2配料,在1 600℃保温4 h煅烧.3)以最适宜的工艺参数合成的试样中,主晶相莫来石的相对含量达96.3%,次晶相为少量的刚玉,无石英相存在;莫来石晶体的长径比大,彼此均匀交联,结构较为致密;试样的抗折强度达65 MPa.     

高炉喷补工艺参数的试验研究与过程优化

模拟高炉内衬条件，利用实验室小型半干法喷补机进行喷补试验，测试了喷射压力、喷射距离、配水量和炉温等因素对喷补附着率及喷补层与残衬粘结强度的影响规律。利用模式识别和人工神经网络技术对影响喷补效果的工艺参数进行了优化与预报，找到了目标优化区。试验发现适宜的喷补工艺参数为：喷补料配水量10％～14％；喷射压力0．4MPa；喷射距离0．95～1．05m；炉温298～573K。随着炉温的升高，配水量应随之适量增加。     

光信息科学与技术专业课程体系的优化与实践

分析了目前光信息科学与技术本科专业的课程体系现状,以三峡大学为例,探讨了地方院校该专业课程体系可能存在的不足,并且提出了以加强实践能力培养为导向的课程体系改革具体方案。     

基底预处理对水热法制备SnO_2纳米阵列生长的影响

采用水热法,在磁控溅射铺膜后的ITO-基底(MST-基底)上制备出取向一致的SnO2纳米线阵列.用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和高分辨透射电子显微镜(HRTEM)等手段对制备的纳米线阵列进行了表征.考察了不同的基底铺膜方式和退火温度对产物形貌、尺寸和取向性的影响.结果表明,不同的基底铺膜方法对产物的形貌和尺寸有较大的影响:在磁控溅射法铺膜的基底上生长出SnO2纳米线阵列;在旋涂法铺膜的基底上生长出SnO2纳米棒阵列;在未铺膜基底上生长出SnO2纳米颗粒薄膜.另外,退火温度对生长在磁控溅射铺膜基底上的产物的取向性有较大的影响,随着退火温度的升高,产物的取向性增强.     

MgO/Al_2O_3比对铝镁浇注料性能的影响

以一级高铝矾土熟料、中档轻烧镁砂和Al2 O3超微粉等为主要原料 ,研究了MgO/Al2 O3比对铝镁浇注料性能的影响。结果表明 :当MgO/Al2 O3比接近于镁铝尖晶石的理论组成时 ,浇注料试样的综合性能较好