全文获取类型
收费全文 | 562篇 |
免费 | 34篇 |
国内免费 | 35篇 |
专业分类
电工技术 | 15篇 |
综合类 | 59篇 |
化学工业 | 78篇 |
金属工艺 | 53篇 |
机械仪表 | 37篇 |
建筑科学 | 29篇 |
矿业工程 | 41篇 |
能源动力 | 5篇 |
轻工业 | 35篇 |
水利工程 | 11篇 |
石油天然气 | 17篇 |
武器工业 | 15篇 |
无线电 | 60篇 |
一般工业技术 | 95篇 |
冶金工业 | 15篇 |
原子能技术 | 17篇 |
自动化技术 | 49篇 |
出版年
2024年 | 1篇 |
2023年 | 8篇 |
2022年 | 4篇 |
2021年 | 8篇 |
2020年 | 15篇 |
2019年 | 13篇 |
2018年 | 11篇 |
2017年 | 6篇 |
2016年 | 10篇 |
2015年 | 9篇 |
2014年 | 20篇 |
2013年 | 13篇 |
2012年 | 21篇 |
2011年 | 29篇 |
2010年 | 23篇 |
2009年 | 22篇 |
2008年 | 37篇 |
2007年 | 30篇 |
2006年 | 24篇 |
2005年 | 25篇 |
2004年 | 29篇 |
2003年 | 33篇 |
2002年 | 30篇 |
2001年 | 26篇 |
2000年 | 27篇 |
1999年 | 21篇 |
1998年 | 20篇 |
1997年 | 19篇 |
1996年 | 14篇 |
1995年 | 18篇 |
1994年 | 11篇 |
1993年 | 13篇 |
1992年 | 7篇 |
1991年 | 7篇 |
1990年 | 6篇 |
1989年 | 3篇 |
1988年 | 6篇 |
1987年 | 4篇 |
1986年 | 3篇 |
1985年 | 1篇 |
1984年 | 2篇 |
1981年 | 1篇 |
1959年 | 1篇 |
排序方式: 共有631条查询结果,搜索用时 15 毫秒
541.
542.
543.
论文主要针对新庄煤矿22091综采设备使用和配套中出现的问题进行分析研究。解决了综机设备使用中留有三角煤,液压支架护帮千斤顶工作阻力的调整,伸缩梁千斤顶、护帮板千斤顶与推移千斤项互动,综机设备相互干涉等问题。通过改进和采取措施将会使综采工作面高产高效,实现安全生产。 相似文献
544.
大港石化公司以提高装置总液体收率、降低生焦率为目的,采用美国UOP公司催化裂化反应技术对120×104t/a重油催化装置进行了改造,主要包括VSS密闭旋分系统(提升管出口旋转式快分)、优混喷嘴、高效汽提挡板等多项技术。UOP催化裂化反应技术的应用,对降低生焦与干气起到了明显作用,但由于改造后原料变重、原料预热温度及再生温度的升高、处理量的大幅度增加,致使操作条件相对苛刻,产品分布相对较差。同时,对改造前后反应系统结焦的状况发生了新的变化,需要认真进行研究。 相似文献
545.
546.
为了在网络环境下利用MS-DOS主机的应用资源,我们开发出TELNET server for DOS(TND)和 FTP server for DOS(FTPD)。这两个程序全部用C语言编写,用Boland C 3.1编译通过。其中为了开发TCP/IP应用函数,调用了一个公开提供的网络库WATTCP。WATTCP使用套装驱动器(Packet Driver)与网卡接口。由于TND和 FTPD应该被允许能同时访问Packet Driver,所以需要一个特别的“多路分配器PKTMUX”。但当用户以第二应用启 相似文献
547.
548.
低应力PECVD氮化硅薄膜工艺探讨 总被引:9,自引:1,他引:8
介绍了一种掺氦的等离子增强化学气相淀积(PECVD)氮化硅薄膜工艺技术,可调控氮化硅薄膜的应力,从而在较低的射频功率下生长低应力的氮化硅薄膜。文中对其机理作了初步的探讨。所生长的氮化硅薄膜的折射率和腐蚀速率没有明显变化,对器件,尤其是对砷化镓异质结器件几乎没有应力损伤。 相似文献
549.
基于MS-DOS平台运行的特殊应用程序在网络环境里如果能够为网络所共享将是十分有用的。为了让UNIX操作系统的机器能够访问,需要有TCP/IP网络协议和相应的支撑软件。本文即介绍了这样一个软件包,包括TeInetserver和FTTserver。Telnetserver用来连接MS-DOS机器,运行上面的程序;FTPserver用来在两机之间传输文件。很多其他功能,象身份识别和设置文件访问权限等,Telnetserver和FTPserver支持。 相似文献
550.
微弧氧化减摩陶瓷层的生成及其影响因素 总被引:6,自引:1,他引:5
为了降低微弧氧化陶瓷层的摩擦系数, 采用在微弧氧化电解液中加入石墨减摩相的方法, 在微弧氧化过程中同步沉积出含石墨相的陶瓷层. 研究结果表明 膜层厚度和成膜速度开始时都是随氧化时间的延长而增加, 达到最大值后, 又随时间的延长而降低; 石墨含量5g/L时成膜厚度最大; 石墨减摩相的加入, 大幅降低了微弧氧化陶瓷层的摩擦系数. 相似文献