继电保护整定计算及运行管理省地一体化数据平台的研究与开发

提出基于C/S及B/S的继电保护整定计算及运行管理省、地一体化数据平台系统,实现统一基础数据、统一模型、统一规范、统一标准、统一平台,以满足省、地调继电保护管理部门分布式的数据维护管理和联合式的计算校核分析的需求,提高各级调度机构的继电保护整定计算、定值管理和运行管理整体水平,满足智能电网“源端维护,全网共享”的要求.     

碱性Cu抛光液中非离子表面活性剂和氧化剂作用的研究

化学机械抛光是集成电路制造工艺中十分精密的技术。在本文中,为了改善抛光效果,分表讨论了非离子表面活性剂和氧化剂在CMP过程中作用。我们主要分析了非离子表面活性剂对片内非均匀性和表面粗糙度的影响。同时,我们从静态腐蚀速率、电化学曲线和剩余高低差的角度,讨论了在不加BTA条件下,不同氧化剂浓度的抛光液的钝化特性。实验结果明显地表明：加入了非离子表面活性剂的抛光液,更有利于改善抛光后的片内非均匀性和表面粗糙度,并确定2vol%体积分数是比较合适的浓度。当抛光液中氧化剂浓度超过3vol%,抛光液拥有较好的钝化能力,能够有效减小高低差,并有助于获得平整和光滑的表面。根据这些实验结果,非离子表面活性剂和氧化剂的作用进一步被了解,将有助于抛光液性能的改善。     

机械重大装备寿命预测综述

随着经济的发展,科学技术呈现出较为蓬勃的发展趋势,重大机械装备对经济和社会发展作出了重要的贡献。其相关技术取得了重大的发展,但是在其发展的过程中,仍然存在一些问题影响了其使用寿命。其工作环境较为恶劣,运行时间较长,作业内容较为艰难,使得其随着时间的推移而出现老化磨损等状况,导致原本的使用寿命被缩短,造成安全隐患的存在。     

从制浆造纸专业学生就业情况谈人才培养

以毕业生就业情况和跟踪调查结果为依据,分析了陕西科技大学制浆造纸专业近五年的初次就业率、平均收入、就业领域、就业质量,在此基础上,提出了制浆造纸专业学生多元化培养的建议。     

浅析钻孔灌注桩技术在港口工程中的应用

通过对钻孔灌注桩有关施工方案的介绍,能有效预防在施工过程中发生安全质量问题,其适用范围广,可以穿越各种土层,更可以嵌入基岩,对同类工程的施工具有十分重要的借鉴意义。     

平板硫化机液压系统的改造

对于20世纪70年代的设备,在企业没有能力更新的情况下,利用库存条件,进行设备改造,降低损耗,保证生产。随着我国经济的发展,生产企业设备更新固然是好事,但是,合理有效地对老设备进行改造,也是行之有效的好办法。     

加测陀螺定向边的井下导线平差方法探讨

分析两井定向与陀螺定向联合应用的必要性,推导两井定向与陀螺定向联合应用严密平差方法的条件方程式、法方程、求解公式及精度评定公式,并用实例验证这种方法的可行性及精度增益。     

宽范围高精度电子枪控制系统的研制

本文针对"1.2 MeV/10 mA高频高压型电子加速器及束线"项目中钨丝阴极热发射电子枪的控制需求,在了解了系统组成和工作原理的基础上,采用三极式平板热阴极发射电子枪,阴极材料使用钨丝,灯丝加热电源由发电机供电,引出电压从加速管电极分压获得。通过设计一种基于可编程逻辑控制器(Programmable Logic Controller,PLC)的控制系统,实现了电子枪引出1μA～50 mA 4个数量级范围的直流电子束。该控制系统采用PLC作为设备控制器,LabVIEW软件作为用户界面,通过通信协议(Object Linking and Embedding for Process Control,OPC)接口实现控制软件与设备控制器的通讯。实验测试表明,系统具有可靠稳定、灵活高效等特点。     

抛光液组分对3D微同轴中铜和光刻胶化学机械抛光速率选择性的影响

研究了碱性抛光液的pH、SiO₂磨料质量分数、H₂O₂体积分数和甘氨酸质量分数对3D微同轴加工中铜和光刻胶化学机械抛光(CMP)去除速率的影响,得到较佳的抛光液组成为：SiO₂ 5%,H₂O₂ 20 mL/L,甘氨酸2.5%,pH=10。采用该抛光液时,铜和光刻胶的去除速率非常接近,满足3D微同轴加工对铜和光刻胶CMP去除速率选择性的要求。