300mm铜膜低压低磨料CMP表面粗糙度的研究

随着集成电路特征尺寸的减小、低k介质的引入及晶圆尺寸的增加,如何保证在低压无磨料条件下完成大尺寸铜互连线平坦化已经成为集成电路制造工艺发展的关键。采用法国Alpsitec公司的E460E抛光机在低压低磨料的条件下,研究了12英寸(1英寸=25.4 mm)无图形(blanket)铜膜CMP工艺和抛光液配比对抛光表面质量的影响。实验结果表明,在压力为0.65 psi(1 psi=6.89×103 Pa),抛光液主要成分为体积分数分别为5%的螯合剂、2%的氧化剂和3%的表面活性剂。抛光后表面无划伤,表面非均匀性为0.085,抛光速率为400 nm.min-1,表面粗糙度为0.223 nm,各参数均满足工业化生产的需要。     

现场混装乳化炸药技术在司家营地下铁矿的应用

针对司家营铁矿北区Ⅲ采场地下矿实际情况,选用乳化炸药现场混装技术,优化了爆破施工,改善了工人的作业环境,有效地提高了爆破效率。     

阻挡层CMP中表面活性剂对抛光效果的影响

研究了阻挡层在化学机械抛光过程中表面活性剂的作用。利用5种活性剂体积分数不同的抛光液对3英寸(1英寸=2.54 cm)Cu/Ta/SiO2光片进行抛光。通过抛光前后质量变化可得各晶圆片的抛光速率,再对12英寸布线晶圆片进行抛光,利用台阶仪测量抛光前后碟形坑大小的变化,最后利用原子力显微镜对抛光后布线晶圆片的表面形貌进行测试。研究表明抛光液中活性剂体积分数不同会引起抛光速率的变化,也会影响碟形坑的修正效果。当抛光液中活性剂体积分数达到2.0%时,修正值达到85.6 nm/min,优于其他活性剂体积分数时的修正值。另外,活性剂体积分数的增加有助于降低抛光后晶圆表面的粗糙度。活性剂体积分数小于3.0%时,粗糙度随着活性剂体积分数的增加而降低。这一发现可以对配制抛光液时活性剂体积分数的确定起到一定的参考作用。     

LH2001综合自动化系统在南湾水电站的应用

南湾水电站采用LH2001综合自动化系统进行运行管理，实现运行监测的高度自动化，提高运行的可靠性和工作效率，确保电站安全运行的可靠性，电站经济效益明显，也为电站实现无人值班或少人值守打下基础。     

APACS分散控制系统在制氢装置的应用

介绍了茂名石化制氢装置利用ＡＰＡＣＳ分散控制系统，实现了制氢装置水碳比的动态比值控制策略及效益     

浅谈IPTV的发展

本文介绍了IPTV的体系架构、标准现状,并从运营商的角度来探讨了开展IPTV需要解决的有关问题。     

使用虚拟交换机实现远程网络接入

由于管理的需要，对校园网的信息服务必须进行内外网区分，然而目前校园网建设中，由于多校合并出现的跨区域问题给应用带来了不便。针对这种情况，本文提出了专业的解决办法，该办法无需投入硬件设备，经济高效，尤其对位于外网的应用需求不是非常频繁时，不失为一种很好的方案。     

液控自动闸阀的应用

本文简要介绍了液控自动闸阀的构造、工作原理和性能特点，并指出了液控自动闸阀在实际使用中应注意的问题。     

延长延迟焦化开工周期

长岭炼油厂延迟焦化装置设计加工能力为60万吨/年,原料为大庆原油减压渣油。1971年建成投产后,我们在学习兄弟炼厂经验的同时,狠抓了技术练兵,进一步统一操作,装置运转周期不断延长。第八周期(1976—1977)连续运行683天。消耗指标和加工成本也逐年降低,见表。     

阳台栏板浇筑新法

近年来，住宅楼阳台栏板大多改为现浇制作，但这种作法存在支模难度大、人工振捣不密实等缺陷。我们在建设本公司职工住宅楼的过程中，摸索出一套新的施工方法，实际应用后收到了很好的效果。现将该方法介绍如下。