ZA22／Al2O3（F）复合材料室温拉伸强度的模拟研究

采用挤压法制备ＺＡ２２／Ａｌ２Ｏ３（Ｆ）复合材料，分别采用强度混合准则和神经网络模型研究了含Ｃｅ与不含Ｃｅ的ＺＡ２２／Ａｌ２Ｏ３（Ｆ）室温拉伸强度随短纤维体积分数Ｖｆ的变化情况，结果表明：强度混合准则能有效地预测复合材料的两个重要体积分数即最小体积分数Ｖｍｉｎ和临界体积分数Ｖｃｒｉｔ；而神经网络不仅能较准确地预测Ｖｍｉｎ和Ｖｃｒｉｔ，并且能够较好地描述复合材料强度随Ｖｆ的变化规律。     

电渣溶炼浇铸法制备金属模具

本文简述了用电渣炼浇铸法制备金属模具的工艺原理和该方法的应用前景。     

湿度对壳型覆膜砂热裂倾向的影响

研究了环境湿度对壳型覆膜砂热开裂倾向及常温抗拉强度的影响，指出应结合生产实际对覆膜砂所生产的铸型、型芯适当存放，以减轻铸造缺陷，提高经济效益。环境湿度对覆膜砂铸型（芯）性能的影响是通过粘接桥界面上水分的积聚而起作用的。     

半固态镁合金流变压铸型腔充填过程模拟

应用计算机数值模拟技术,模拟了镁合金液态压铸和半固态流变压铸的型腔充填过程.在相同条件下,半固态流变压铸成形的型腔充填过程平稳,卷气现象少于液态金属压铸成形.半固态镁合金压铸零件能够进行热处理,铸件内在质量优于液态镁合金压铸件.     

AZ91D镁合金铸锻双控成形组织性能研究

铸锻双控成形，是综合了压力铸造和锻造工艺特性而提出的一种新的成形方法。采用正交试验的方法进行AZ91D镁合金样件的试制，并对铸锻双控成形制件进行T6热处理，然后对样件进行力学性能测试及微观组织观察，得出在相同工艺参数条件下，铸锻双控成形制件比普通压铸件的抗拉强度和伸长率分别提高84．394％和101．761％；经热处理后则分别提高94．672％和121．617％；且微观组织晶粒细小。     

基于快速成型的石英磷酸盐包埋料性能的研究

研究了P／Mg比、骨料砂／粉比、液／粉比对石英磷酸盐包埋料流动性和抗压强度的影响。结果表明，当P／Mg比为1，5，液／粉比为0．44时材料的综合性能最好。     

离子软氮化、盐浴软氮化和气体软氮化处理钢的氮化层

本文对经离子软氮化和一般盐浴软氮化及气体软氮化处理后钢的氮化层的冶金特性作了比较。离子软氮化所形成的化合物层厚度大于其他两种软氮化处理者。化合物层的相结构受软氮化方法和钢种的影响。离子软氮化和气体软氮化所形成的化合物层较致密,而盐浴软氮化所形成的化合物层有疏松。经离子软氮化的钢与其他两种软氮化的钢具有相同的耐磨性。这三种软氮化处理都显著地改善了钢的耐磨性。     

HCW350轧机的实测研究

通过对ＨＣＷ３５０轧机综合能力的测试，证明了该轧机具有较好的板形控制能力，为普通四辊轧机的改造和ＨＣＷ轧机的研制提供了参考。     

Fabrication and structure characterization of ITO transparent conducting film by sol-gel technique

Using In（NO3）3·5H2O and acetylacetone as raw materials and anhydrous SnCl4 as dopant, the transparent conducting indium tin oxide（ITO） films were prepared by sol-gel and dip-coating technique. The phase transformation, structure properties and physical properties （sheet resistance and transmittance） of the films were investigated by DTA-TG, XRD, SEM, four-probe method and UV-Vis spectrometry. The results indicate that it is feasible to fabricate 1TO films on the quartz substrates by sol-gel technique, and the ITO films are formed by accumulating of particles with the size of several decades of nanometers. The prepared ITO film has cubic bixbyite structure, and （111） is its preferred plane. After five-times dip-coating, the 1TO film has a thickness less than 150 nm, a sheet resistance of 110Ω/□, a resistivity of 1.65×10^-3Ω· cm and a transparency of 90% .