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101.
油田水结垢是影响油田开采和集输的重要问题之一,结垢机理及结垢预测研究对保障油田正常生产具有重要意义。通过对油田水的结垢机理和结垢预测方法进行研究,讨论不同结垢趋势预测方法的基本原理、判断依据及适用性,总结结垢量预测方法和结垢监测技术的基本原理和特点。研究发现,结垢趋势预测方法适用于判断油田水是否结垢和结垢程度,结垢量预测方法能定量判断结垢量或结垢速率,其中结垢预测软件使用最为广泛,但能够预测换热壁面实际结垢速率的方法较少。因此,综合热力学和动力学等因素建立能准确用于预测油田水实际结垢速率的理论模型,形成一套结垢量预测和结垢监测技术相结合的油田水结垢评估体系是今后的研究方向。 相似文献
102.
为明确济阳坳陷下古生界碳酸盐岩地层断裂结构对油气成藏的控制作用,文中选取青州云门山地区碳酸盐岩露头断裂进行野外地质考察,利用岩心、野外露头、分析化验等资料,对碳酸盐岩地层断裂结构及其控藏作用进行系统研究,建立了多期方解石胶结、泥质充填和“三元”断裂结构,揭示了3种断裂结构差异化控藏作用。研究认为:多期方解石胶结断裂结构对油气具有垂向输导和横向封堵双重作用,控制油气沿大型油源断层两侧断块圈闭选择性成藏;泥质充填断裂结构对潜山油气成藏具有明显的封堵作用,控制油气在不同的断层-不整合油藏中大规模富集成藏;“三元”断裂结构具有破碎带和裂缝带输导、角砾岩带封堵的双重作用,控制油气主要沿油气来源方向的断层下盘呈梳状富集成藏。断裂结构差异化控藏模式将为济阳坳陷下古生界碳酸盐岩潜山油气勘探提供理论依据。 相似文献
103.
104.
105.
采用高频超视距雷达定位并跟踪海上航行的船只通常需要较长的相干积累时间(CIT),并对现有较匮乏的雷达资源提出了较高的要求。本文以可能比标准傅里叶技术短的相干积累时间,采用现代频谱分析技术(MSAT)在多普勒空间对杂波和噪声中的船只进行定位。利用信号结构的统计知识得到MSAT的多普勒“超高分辨率”。本文讨论了统计假设的特性并概括介绍了潜在的问题。我们采用的MSAT是Tufts和Kumaresan提出的技术的变形,它具有确定由自回归模型表示的极点数的信息理论准则以及用以提供Friedlander建议的精确SNR估值的附加步骤。通过增加预处理过程,形成滤波器来消除Bragg线,我们对MSAT作了进一步的改进。根据加利福尼亚宽孔径研究设施(WARF)和美国海军可再定位OTHR(ROTHR-VA)上收集的数据对此算法进行了测试。在这两种情况下,CIT通常下降38倍而分辨率无损失。在稍好一些的条件下,以仅2s的CIT便可定位Bragg线附近的船只,这和飞机检测采用的CIT一样。 相似文献
106.
研究了不规则杂波中的目标检测。在目标检测中最让人感兴趣的是弱信号检测。杂波中信号检测的常用解决方法是将杂波模拟成带有某种概率分布的随机过程,例如K分布。于是采用于判定理论的贝叶斯方法来检测目标的存在,这项工作中,假设海杂波是不规则动态的结果。这种假设使接收机处理增益得到显著改进,其原因是海杂波的不规则具有基本确定的动态特性。所以,允许在进行目标检测之前在接收机上进行杂波对消。对性能的限制仅仅是由热 相似文献
107.
108.
二聚酸甲酯的合成研究 总被引:2,自引:0,他引:2
研究了以自制的脂肪酸甲酯为原料、几种不同催化剂催化合成二聚酸甲酯的反应。结果表明,用活性自土作催化剂,用量(质量分数)为脂肪酸甲酯的10%,反应温度240℃,反应时间6h的条件下,二聚酸甲酯的收率可达到39%。此工艺为二聚酸甲酯的合成提供了一条新的路线。 相似文献
109.
从上海市民的居住生活习惯看能源消耗特征 总被引:3,自引:0,他引:3
通过对上海市314户居民进行问卷调查,根据当地居民的居住条件、生活习惯和家用电器使用情况,分析能源消费特征。在此基础上分析了居民能源使用结构和能源消费观念,为相关部门进行能源规划和政策调整提供参考依据。 相似文献
110.
We propose the action mechanism of Cu chemical mechanical planarization(CMP) in an alkaline solution.Meanwhile,the effect of abrasive mass fraction on the copper removal rate and within wafer non-uniformity(WIWNU) have been researched.In addition,we have also investigated the synergistic effect between the applied pressure and the FA/O chelating agent on the copper removal rate and WIWNU in the CMP process.Based on the experimental results,we chose several concentrations of the FA/O chelating agent,which added in the slurry can obtain a relatively high removal rate and a low WIWNU after polishing,to investigate the planarization performance of the copper slurry under different applied pressure conditions.The results demonstrate that the copper removal rate can reach 6125 °/min when the abrasive concentration is 3 wt.%.From the planarization experimental results,we can see that the residual step height is 562 ° after excessive copper of the wafer surface is eliminated.It denotes that a good polishing result is acquired when the FA/O chelating agent concentration and applied pressure are fixed at 3 vol% and 1 psi,respectively.All the results set forth here are very valuable for the research and development of alkaline slurry. 相似文献