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高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)作为一种新的物理气相沉积技术,得到学术界和工业界的广泛关注。HiPIMS中靶峰值能量密度高而平均能量密度低,从而避免了传统磁控溅射中靶过热所导致的靶材融化等问题。独特的放电特性使得HiPIMS具有高等离子体密度和电离率,为控制沉积粒子能量和输运模式提供了可能性,可以实现高质量薄膜的制备。本文综述了HiPIMS系统的电源特性(与脉冲发生相关)、放电参数(脉宽、放电电压、电流、频率等)和放电空间(分为阴极靶和鞘层区、电离区域、体等离子体区、以及阳极等离子体和衬底区)中所涉及放电特征的物理本质及其解析,这将有助于加强对HiPIMS技术物理机制的深入理解,推进该技术在实际工业中的应用。 相似文献
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一个手机企业的良性发展,避免不了的要涉及到售后服务的有效管理,传统的售后管理模式无论从质量上还是效率上,都难以适应售后管理新形式的需要。利用SQL SERVER 2005数据库和Visual Studio 2008开发一个手机售后管理系统,可以帮助手机企业更有效、更方便的管理售后服务。 相似文献
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从1978年8月到1986年6月,秘鲁在其东北部沙马丁地区实施卫星农村通信试验工程,建立了3个卫星地球站和4条甚高频中继 相似文献
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