SmDyFeCo磁光薄膜的制备和性能研究

本文采用射频磁控溅射方法制备了ＳｍＤｙＦｅＣｏ非晶磁光薄膜。研究了氩气压、溅射功率对ＳｍＤｙＦｅＣｏ薄膜性能的影响。实验表明，反射率随氩气压升高而降低。矫顽力随氩气压升高而逐渐增大，达到一定值时克尔回线反向，随后矫顽力又逐渐减小。高气压下的矫顽力温度特性较低气压下的矫顽力温度特性要好，但氩气压进一步升高，磁光克尔回线矩形度变差。本征磁光克尔角随氩气压升高而增大，到达最大值后又逐渐减小。反射率随溅射     

利用EGR技术生成薄膜

半导体制造工艺中的薄膜生长,迄今广泛应用的是热CVD法(Chemical VaporDeposition)和等离子CVD法,而这些方法是在高温状态下进行的,因此,对那些衬底耐热性较差或者经高温处理其性能和可靠性要降低的器件来说,利用这些方法有一定的困难。为了提高大规模集成电路、超大规模集成电路的性能、集成度和成品率,迫切需要一种能在低温下形成高质量薄膜的薄膜生长新技术。     

黑钨矿的组成与其可浮性

黑钨矿含Fe、Mn比例不同时,可浮性存在差异,但原因一直不大清楚。本文研究Mn/Fe比不同的黑钨矿的浮选、吸附行为,动电现象以及受活化作用的情况。并用溶液化学平衡计算讨论Mn、Fe离子与药剂作用的差别。捕收剂在黑钨矿上的化学吸附与Mn离子有更为密切的关系,Mn/Fe比较高的黑钨矿吸附捕收剂的能力较大,可浮性较好;Mn~(2+)离子的活化作用比Fe~(2+)离子强。     

紧耦合网络接口并行性研究

高效的网络接口已成为多机系统中的重要技术之一。文中通过对当前各种接口类型的分析认为，紧耦合应是网络接口的方向；同时，不同类型信息的串行处理是网络接口进一步提高性能的瓶颈。为此，对不同信息间的并行性进行分析后，提出了并行网络接口的概念结构，并对其性能进行了评价。     

新除草剂alloxydim的开发和工业化

日本曹达公司充分利用过去开发新农药所积累的知识,合成和筛选了许多化合物,开发成功新除草剂alloxydim。该药以75％水剂出售,对禾本科杂草有优异的防除效果,而对甜菜、大豆、棉花、蔬菜等阔叶作物无影响,有优良的选择性,已在欧洲等地作为以甜菜田为中心的茎叶处理剂使用。1980年5月在日本注册,用于防除大豆等旱田的禾本科杂草,发挥了卓效。     

乳山硫铁矿破碎工艺的改进

原矿含泥量大造成设备的堵塞。根据现场生产实际改用粉碎后的矿粒直接给入扇形孔条筛，筛下可调刮板使细粒均匀分布在皮带下面，粗粒复盖其上。物料到达皮带首轮处，使其呈抛掷状态，然后利用分离挡板除去细粒。首轮的直径和转速是按粒度分离的决定因素。分离细粒级后使中碎机生产能力增大，降低能耗，减少磨损，提高了设备运转率。     

高吸水性树脂性能分析的研究

本文提出了高吸水性树脂性能的测定方法。对不同测试方法以及高吸水性树脂的类型对性能测定的影响进行了研究,从而可进一步拓宽高吸水性树脂的应用范围。     

大孔树脂分离纯化商陆红色素的研究

研究了几种大孔吸附树脂和离子交换树脂对商陆红色素的静态吸附特性,筛选出一种吸附性能较好的树脂,并应用柱层析进行商陆红色素的分离纯化研究。实验结果表明:D301离子交换树脂对商陆红色素的静态吸附率达到96.0%,柱层析吸附饱和后用0.15 mol/L HCl洗脱时,洗脱率达到92.8%,洗脱液经低温干燥得到的商陆红色素色价达到45.9。     

Cu~(2+)对Fe~(2+)在T.f菌修饰粉末微电极上氧化行为的影响

Fe2 + 的氧化在细菌浸矿过程中具有重要作用 ,细菌浸铜过程中 ,Cu2 + 的存在对T .f菌的生长代谢和其氧化Fe2 + 的能力有一定影响。制备了T .f菌修饰碳粉粉末微电极 ,研究了Cu2 + 存在下Fe2 + 在T .f菌修饰粉末微电极上氧化的电化学反应机理 ,并测定了相应的电极过程动力学参数。循环伏安研究表明 ,Cu2 + 的存在不影响Fe2 + 在T .f菌修饰粉末微电极上的氧化反应的可逆性。对电极稳态及暂态过程研究表明 ,当Cu2 + 浓度在 12mmol/L以下时 ,Cu2 + 的存在不会抑制Fe2 + 在T .f菌修饰粉末微电极上的氧化 ,适量Cu2 + 加强T .f菌氧化Fe2 +的作用是在于其加快了电荷传递速率