全文获取类型
收费全文 | 249篇 |
免费 | 11篇 |
国内免费 | 16篇 |
专业分类
电工技术 | 2篇 |
综合类 | 3篇 |
金属工艺 | 1篇 |
机械仪表 | 3篇 |
矿业工程 | 1篇 |
无线电 | 167篇 |
一般工业技术 | 78篇 |
自动化技术 | 21篇 |
出版年
2024年 | 6篇 |
2023年 | 14篇 |
2022年 | 9篇 |
2021年 | 10篇 |
2020年 | 2篇 |
2019年 | 10篇 |
2018年 | 6篇 |
2017年 | 2篇 |
2016年 | 10篇 |
2015年 | 13篇 |
2014年 | 21篇 |
2013年 | 21篇 |
2012年 | 29篇 |
2011年 | 26篇 |
2010年 | 20篇 |
2009年 | 20篇 |
2008年 | 16篇 |
2007年 | 18篇 |
2006年 | 13篇 |
2005年 | 5篇 |
2004年 | 1篇 |
1994年 | 2篇 |
1989年 | 2篇 |
排序方式: 共有276条查询结果,搜索用时 8 毫秒
171.
利用Ag的高温抗氧化能力,采用磁控溅射沉积Al/Ag/Al导电复合薄膜,并在480℃下进行热处理。扫描电子显微镜(SEM)和能谱分析(EDS)研究表明磁控溅射的Al/Ag/Al导电复合薄膜表面平整,热处理后表面Al膜生成致密的氧化层。溅射沉积和热处理过程中Ag和Al原子的相互扩散,最后形成富Ag的Ag-Al合金和Ag3Al化合物。Al/Ag/Al导电复合薄膜比Ag/Al复合薄膜的电阻率增大了一个数量级,导电复合薄膜热处理后导电性能更优,电阻率约为19.4×10-6Ω.cm。 相似文献
172.
173.
以纯度为99.95%、Al2O3为2wt.%的ZnO-Al2O3金属氧化物为溅射靶材,采用射频(RF)磁控溅射的方法,在玻璃衬底上制备Al掺杂ZnO(AZO)薄膜,研究其场发射特性和导电性能,并分析了不同的退火温度对AZO薄膜的形貌、导电及场发射性能的影响。采用原子力显微镜(AFM)及X射线衍射(XRD)对AZO薄膜表面形貌与结晶特性进行测试的结果表明,随着退火温度的升高,AZO薄膜的表面粗糙度随之增大,AZO薄膜的结晶度变好;场发射性能研究的结果表明,AZO薄膜的开启电场随着退火温度增加呈先减小后增大的趋势,当退火温度为300℃时,AZO薄膜样品粗糙度最大,场发射性能最好,开启场强为2.8V/μm,发光均匀性较好,亮度达到650cd/m2,导电性能最好,电阻率为5.42×10-4Ω·cm。 相似文献
174.
175.
简单介绍了高清晰多媒体接口 HDMI的接口规范.着重论述了Si19023芯片内部功能结构、工作时序以及在FED平板显示器件视频驱动电路中的应用.提出了基于Si19023的硬件电路设计方案以及寄存器的设置.此电路方案已在63.5 cm彩色FED驱动系统中使用,为系统提供优质的数字视频源.显示分辨率最高支持UXGA.采用HDMI数字视频接口技术研制出了能驱动显示VGA分辨率的印刷型FED视频显示系统.该样机能显示各种彩色视频图像.图像亮度已达400 cd/m、对比度达1 010:1,电路厌度等级达256级.有效显示对角线尺寸为63.5 cm. 相似文献
176.
177.
178.
采用两步水热法,第1步利用Au作为催化剂生长ZnO纳米杆;第2步利用醋酸锌分解成ZnO纳米颗粒作籽晶层在ZnO纳米杆的侧壁生长ZnO纳米枝条,在Si片上成功制备了枝干状ZnO纳米结构。利用SEM、XRD分别表征枝干状ZnO纳米结构的形貌和晶体结构,研究籽晶层、反应液浓度、反应时间等参数对枝干状ZnO纳米结构形貌的影响。结果表明,Au作为催化剂生长的ZnO纳米杆具有沿(103)面择优取向生长的特性,而籽晶层对在侧壁生长ZnO纳米枝条至关重要。通过调节反应参数,可控制枝干状ZnO纳米结构的形貌,当反应液浓度越小,反应时间越长,纳米枝条越细、越长。所制备的枝干状ZnO纳米结构具有很好的生物兼容性,可作为细胞支架材料。 相似文献
179.
利用中频反应磁控溅射在玻璃衬底上沉积了不同溅射功率的AlN薄膜.采用X射线衍射仪、原子力显微镜和电击穿场强测试系统研究了薄膜的结构和电学性能,并对该介质薄膜的导通机制进行了分析.结果表明,所制备的薄膜呈非晶态,5 kw溅射功率下制备的薄膜具有较好的表面结构,并具有较高的耐击穿场强,约为2.1 MV/cm;结合理论分析发现,AlN在不同的场强条件下以某一种导通作为主要的导通机制:低场强区服从欧姆定律,随着场强升高,在不同的阶段分别以肖特基效应,普尔-弗兰凯尔效应和F-N效应为主. 相似文献
180.
电路板自动光学检测中常通过检测电路板的边缘直线来确定其旋转角度和平移量从而完成定位配准,存在运算量大、精度不高的问题.对传统Hough变换检测直线方法进行改进,从图像金字塔、约束投票角度、约束搜索点的区域3个方面提高Hough变换的效率,并利用最小二乘拟合法提高检测精度.定位配准时,先运用改进的Hough变换求取电路板边缘直线的近似参数;然后在原图上对边缘直线进行拟合求取电路板的精确旋转角度和平移量,完成定位配准.实验表明本文方法能准确完成电路板的定位配准,对大小为1 920×1 080像素的电路板图像,定位时间约为60 ms,定位误差小于1个像素. 相似文献