镀渗层的结构形态分析

用离子镀渗法所制备的镀渗层是由镀层及过镀层所组成。下面着重介绍影响镀层的结构形态因素及过镀层的形成等问题。     

我国第一台多用磁控溅射离子镀膜机研制成功

我国第一台多用可代替电镀的 CLD-850A 型多用磁控溅射离子镀膜机在大连工学院研翻成功,六月十四日正式通过鉴定。该机是本院自1979年开始研究离子镀代电镀技术,通过三次技术鉴定会的基础上研制成功的.该机具有设备结构简单、工艺稳定、操作方便等优点,更重要的没有公害,不需治理三废投资。镀膜质量高,与基体有较宽过渡层、附着性好;打碎柱状晶,组织微密,耐蚀性好。与电镀相比可节电38%、节95%水。     

铜锌铝合金自催化生长硅纳米结构的研究

在常温常压下，以Cu-Zn—Al合金为基体经过简单的化学处理，在基体上成功地合成了直径为几十纳米，长度在微米量级的Si-维纳米结构。利用TEM，HREM，EDS等测试手段对Si-维纳米结构的形貌和微观结构进行了表征。观察到Cu-Zn-Al合金中存在着运动的“非线性振荡胞区”，并且发现Si-维纳米结构的生长和形貌与这些胞区的运动有着密切的关系。另外，对于Si-维纳米结构生长机制进行了初步探讨。     

稀土Y和Nd对ZM5合金组织和性能的影响

以ZM5镁合金为基体材料，应用铸造方法制备了4种不同稀土含量和比例的稀土镁合金。考察分析了稀土Y和Nd对ZM5合金组织结构、力学性能和腐蚀性能的影响。结果表明，铸态合金中出现了新相Ti2Mg3Al3，它对于减少晶界处第二相的析出有积极作用。ZM5合金的组织结构、力学性能和腐蚀性能随稀土Y和Nd的比例不同而有比较大的差异，在所有考察的ZM5合金中，添加2％Y和1％Nd稀土的合金综合效果最好。     

计算机焊工技能教师考试题库系统

随着焊接技术的不断发展,对焊工技能教师的要求也越来越高,尤其是对技能操作,理论考试已放在了非常重要的位置上,因而,焊工技能教师的培训也就成为焊接质量管理的重要环节.以往,焊工技能教师的理论考试由专人出题,进行各种繁杂,重复的脑力劳动,其工作量和工作难度都不能满足考试当中的各种要求.为此,在计算机技术日益广泛应用的今天,我们利用计算机技术来协助我们进行焊工管理,从某种意义上来讲,这是焊接技术管理领域中的一个突破.     

简单适用的Y—△自动与手动控制线路

10KW以上的△接法电机,为限制起动电流,大都采用降压起动,而电机使用Y—△降压起动控制线路,则较普遍,因其线路简单所用元器件少,加之维修方便等优点,因此成为工矿企业机床电视中使用广泛的一种电路。 我厂水泵房的两台电机,均为30KW,△接     

N80钢CO2腐蚀产物膜研究

在模拟油田CO2腐蚀环境下，用XRD、EDS和SEM研究了N80钢腐蚀产物膜的形成与发展情况。结果表明，在本试验条件下N80钢CO2腐蚀产物膜对基体具有一定的保护作用，可以降低腐蚀速率。腐蚀产物膜分3层，讨论了3层膜的结构特征与形成机理。初步研究了腐蚀产物膜的破坏特征。腐蚀产物膜的晶体类型是（Fe,Ca)CO3复盐。     

Sm2O3和Nd2O3共同掺杂CeO2基电解质材料的研究

采用柠檬酸-硝酸盐法合成出单一相、均匀的Ce0.8SmxNd0．2-xO19粉体，XRD结果表明该粉体为单相萤石结构，粒径约在11．7nm～20．1nm之间。将粉体干压成型，在1400℃下无压烧结5h可得到高致密度陶瓷。SEM照片显示陶瓷微观结构均匀，晶粒尺寸在2μm～4μm。经直流四端电极法测试得到该样品在500℃时电导率约在0．012 S／cm。该结果说明与单项掺杂相比，两相共掺杂会进一步提高材料的电导率。     

氧对蠕墨铸铁石墨形貌特征的影响

研究了蠕墨铸铁中氧对石墨形貌的影响指出，含氧蠕铁异态石墨较少，畸变蠕虫状石墨由小块状石墨组成，蠕虫端部较钝，长宽比较小。     

工业VO2薄膜的电阻突变及其稳定性

以工业V2O5为原料，采用热分解法和还原法制备工业VO2薄膜。研究了制备工艺参数对电阻突变的影响及其在自然放置条件下的稳定性。结果表明：1）VO2薄膜的电阻突变达到了2．0－3.4个数量级，突变温度约为35℃，比纯VO2薄膜突变温度约低33℃；2)石英玻璃上的VO2薄膜的电阻突变数量级比普通玻璃上的大；3)H2还原法制备的VO2薄膜电阻突变数量级比N2热分解法制备的大；4)在自然放置条件下短时间内VO2薄膜可承受连续、反复多次的电阻突变，其突变数量级降低不多，突变温度滞后几乎没有变化；5)同等条件下石英玻璃上的VO2薄膜的电阻突变数量级降低较小、稳定性较好。