热处理对TiO_2溅射薄膜结构和光谱性能的影响

用直流反应磁控溅射法制备了TiO2薄膜,并对热处理前后试样的紫外可见光谱(UV-Visspectrum)和荧光发射光谱(PLSpectrunm)做了研究。发现热处理后试样的紫外可见光谱在496nm处出现了一个较为明显的吸收峰,荧光发射光谱496.5nm处出现一个荧光发射带肩。X射线光电子能谱(XPS)的分析结果表明,热处理可使薄膜中晶格氧扩散出去,生成Ti3+离子和氧空位。结合XPS的分析结果和理论计算,可推断热处理后出现的位于496nm处的吸收峰和496.5nm处的荧光带肩可被指认为薄膜中Ti3+离子的d电子跃迁产生。     

影响熟石膏粉性能的因素浅析

本文探讨了     

热处理对浮法玻璃和Low-E玻璃表面组成的影响

采用X射线光电子能谱(XPS)研究了不同热处理后浮法玻璃和单银Low-E玻璃的表面化学组成.结果表明,钢化、真空退火、钢化+真空退火都能增加浮法玻璃中Na+向表面的扩散,真空退火能使表面富集的Na+挥发;热处理能使未镀膜面的Na+挥发到膜面.真空退火和先钢化再真空退火处理样品表面锡的相对含量高于钢化处理样品.热处理使Low-E镀膜玻璃的表面层Si和SiNx复合膜层氧化,形成SiNx Oy/SiOx复合膜层,能提高Low-E玻璃的可见光透过率.     

TiO2涂层的溶胶—凝胶法制备及其光催化性能

用溶胶-凝胶法在釉面砖上制备了均匀的TiO_2涂层,讨论了影响TiO_2涂层质量的某些因素,用X射线光电子能谱仪研究了釉面涂层的化学组成.在紫外线及日光照射下,TiO_2涂层可以对敌敌畏光催化降解.     

釉面砖表面掺铅TiO_2涂层的溶胶──凝胶法制备及其光催化性能

用溶胶一凝胶法在釉面砖上制备了均匀的TiO2及掺铅TiO2涂层,讨论了影响涂层质量的某些因素,用X射线光电子能谱仪（XPS）研究了釉面涂层的化学组成。在紫外线及日光照射下,TiO2涂层釉面砖可以对有机磷农药光催化降解。掺铅TiO2涂层釉面砖的光催化降解率明显高于未掺铅的TiO2涂层釉面砖的光催化降解率。该类材料可望在环境保护、污水处理等方面有广阔的应用前景。     

超亲水TiO_2/SiO_2复合薄膜的制备与表征

通过 ｓｏｌ－ｇｅｌ工艺在普通钠钙玻璃表面制备了均匀透明的 ＴｉＯ２／ＳｉＯ２复合薄膜．实验结果表明：在 ＴｉＯ２薄膜中添加 ＳｉＯ２,可以抑制薄膜中 ＴｉＯ２晶粒的长大,同时薄膜表面的羟基含量增加,水在复合薄膜表面的润湿角下降,亲水能力增强．当 ＳｉＯ２含量为 １０～２０ ｍｏｌ％时获得了润湿角为０°的超亲水性薄膜．     

XPS研究大气环境下热处理温度对玻璃基TiN薄膜组成与结构的影响

用直流反应磁控溅射法在浮法玻璃基片上制备了TiN薄膜。镀膜试样在大气环境下分别经520℃、570℃和620℃热处理10min。用X射线光电子能谱（XPS）得到的结果显示,经520℃热处理的试样,TiN薄膜上出现了TiNxOy层。经570℃热处理的试样,TiN薄膜上的TiNxOy成分减少,TiO2的含量增加,620℃热处理的试样表面上主要是TiO2。570℃和620℃热处理的试样表面上存在少量来源于TiN热氧化分解的单质氮。     

Preparation and Characterization of TiO_2/TiN/TiO_2 Multi-layerSolar Control Coatings Deposited by D. C. Reactive MagnetronSputtering at Different Substrate Temperature

Transparent TiO2/TiN/TiO2 multi-layer solar control coatings were prepared on normal soda-lime-silica float glass substrate by using d.c. reactive magnetron sputtering at substrate temperature ranging from room temperature to 620℃ . The dependence of optical properties of the coatings and the coating composition, on the substrate temperature was studied. The results of the optical properties show that as the substrate temperature increases, a visible transmittance as high as 65% can be obtained. When the substrate temperature is higher than 370℃ , the infrared reflectance decreases. The results of X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) show that when the substrate temperature is higher than 520℃ in oxygen atmosphere, the formation of thin surface over-layers (TiNxOy,) on top of the TiN films can be observed. When the substrate temperature is at 62℃ , the oxynitride become TiO2, which results in the optical degradation of TiN layer in infrared reflectance.     

玻璃基TiO2膜的孔径尺寸及其光催化性能的影响

通过在溶胶－凝胶溶液中加入聚乙烯乙二醇有机聚合物，利用平板玻璃作衬底，制备了多孔ＴｉＯ２薄膜。扫描电镜观察表明，一定的热处理条件下，有机聚合物可以显著地改变ＴｉＯ２薄膜的孔径尺寸。光催化结果显示：当ＴｉＯ２膜的孔径尺寸在１５０～２５０ｎｍ时，它的光催化性能较好。