p+-n--n+-type power diode with crystalline/nanocrystalline Si mosaic electrodes

Using p⁺-type crystalline Si with n⁺-type nanocrystalline Si (nc-Si) and n⁺-type crystalline Si with p⁺-type nc-Si mosaic structures as electrodes, a type of power diode was prepared with epitaxial technique and plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) method. Firstly, the basic p⁺-n^--n⁺-type Si diode was fabricated by epitaxially growing p⁺- and n⁺-type layers on two sides of a lightly doped n^--type Si wafer respectively. Secondly, heavily phosphorus-doped Si film was deposited with PECVD on the lithography mask etched p⁺-type Si side of the basic device to form a component with mosaic anode. Thirdly, heavily boron-doped Si film was deposited on the etched n⁺-type Si side of the second device to form a diode with mosaic anode and mosaic cathode. The images of high resolution transmission electronic microscope and patterns of X-ray diffraction reveal nanocrystallization in the phosphorus- and boron-deposited films. Electrical measurements such as capacitance-voltage relation, current-voltage feature and reverse recovery waveform were carried out to clarify the performance of prepared devices. The important roles of (n^-)Si/(p⁺)nc-Si and (n^-)Si/(n⁺)nc-Si junctions in the static and dynamic conduction processes in operating diodes were investigated. The performance of mosaic devices was compared to that of a basic one.     

Nc-Si:H薄膜器件的研究

介绍了氢化纳米硅(nc-Si:H)薄膜在电子学器件和光电转换器件(如隧道二极管、异质结二极管、变容二极管、单电子晶体管、太阳能电池、发光二极管)等方面的研究进展,分析了这些器件的性能与nc-Si:H薄膜结构之间的关系,阐述了新型器件的优点.     

硅基光电集成材料及器件的研究进展

以硅基光电集成回路为主线，综述了不同的硅基光波导材料的制备技术和硅基光波导的制作工艺及其对光传输损耗的影响。分析了硅基光波导与锗硅光探测器集成用两种不同的耦合方式，阐明了波导与探测器集成的机理及设计理论基础。归纳出硅基键合激光器的四种技术方案，指出其共同优点是克服材料异质外延引起的晶格失配和热膨胀非共容，对实现OEIC行之有效。     

GaN/SiC异质结正向恢复行为的数值模拟

利用Matlab编程模拟仿真了GaN/SiC异质结的正向恢复过程。讨论了GaN/SiC异质结的模型,分析了异质结的外因(外加电流变化率、温度等)及内因(N区掺杂浓度、电子迁移率等)对异质结正向峰值电压和正向恢复时间的影响,对比了GaN/6H-SiC、GaN/4H-SiC、GaN/3C-SiC三种异质结的正向恢复过程。结果表明,前述内、外因素对GaN/SiC异质结的正向恢复有明显影响,可通过调节各参数以优化GaN/SiC异质结的正向恢复过程。     

(p)nc-Si:H/(n)c-Si异质结变容二极管

采用等离子体增强化学气相沉积技术和电子束蒸发技术制备了一种新型的线性缓变异质结变容二极管--Au/Cr合金(电极)/multi-layer(p)nc-Si:H/(n)c-Si/(电极)Au/Ge合金结构.I-V,C-V,G-f以及DLTS的测试结果表明:其电容变化系数远大于单晶硅线性缓变异质结的电容变化系数,正向导电机制符合隧穿辅助辐射-复合模型,这是nc-Si:H层中nc-Si晶粒的量子效应所致;反向电流主要由异质结中空间电荷区的产生电流决定,且反向漏电流小,反向击穿电压高,表现出较好的整流特性.     

PIN型快速恢复二极管的研究与应用

剖析了改善快速恢复二极管(Fast recovery diode,FRD)反向恢复性能的发射率控制及少子寿命控制的实施方案.探究了间接带隙半导体硅FRD与SiGe、GaN、SiC等直接带隙半导体FRD的反向恢复性能,介绍了SiC的欧姆接触技术.比较了硅FRD与碳化硅FRD的实际应用效果,发现前者的反向及动态特性均落后于后者的性能,后者特别适合于高频、高电压、大功率技术领域的应用.     

掺硼nc-Si:H薄膜中纳米硅晶粒的择优生长

利用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)生长的系列掺硼氢化纳米硅(nc-Si:H)薄膜中纳米硅晶粒(nanocrystallinesilicon,简称nc-Si)有择优生长的趋势。用HRTEM、XRD、Raman等方法研究掺硼nc-Si:H薄膜的微观结构时发现:掺硼nc-Si:H薄膜的XRD只有一个峰,峰位在2θ≈47o,晶面指数为(220),属于金刚石结构。用自由能密度与序参量的关系结合实验参数分析掺硼nc-Si:H薄膜择优生长的原因是:适当的电场作用引起序参量改变,导致薄膜在适当的自由能范围内nc-Si的晶面择优生长。随着掺硼浓度的增加,nc-Si:H薄膜的晶态率降低并逐步非晶化。nc-Si随硅烷的稀释比增加而长大,但晶态率降低。nc-Si随衬底温度升高而长大,晶态率提高。nc-Si随射频功率密度的增大而长大,晶态率增大的趋势平缓。但未发现掺硼浓度、稀释比、衬底温度、射频功率密度的变化引起薄膜中nc-Si晶面的择优生长。     

金叶唱享

设计单位 文智设计组 项目名称 绿茵阁西餐厅 项目地址 武汉世贸广场七楼 项目面积 1600m^2 主要材料 板石、斑马板、复合地板、茶镜、柔膜、涂料[第一段]     

1．3μmDH-SLD的性能与工作电流和温度的关系

全面地测试并分析了掩埋双异质结型超辐射激光二极管模块的输出光功率、光谱和消光比与注入电流及温度的变化关系。得到：DH—SLD显示了软阈值特性,其输出光功率随注入电流的增大而增加,随管芯温度的升高而降低。温度不变时,当注入电流小于110mA(约)时,峰值波长随注入电流的增大而减小,当注入电流大于110mA(约)时,峰值波长随注入电流的增大有所增大;峰值波长随温度升高而增大。3dB带宽随注入电流的增大而减小,随温度的升高而略有增大。消光比随注入电流和温度的升高而变化。     

草堂设计随笔

<正>茂德公草堂座落在广州番禺区化龙镇金山大道京珠高速入口附近。交通地理位置优越,这一带保留着原有果园、池塘的乡村景色,地形属低矮的小丘陵坡地,草堂占地200亩,地势小有起伏,园区内有四个水塘,主体植物以龙眼树为主。起初想建一个多样性的综合文化农庄,我们设计方与业主进行了多方面的沟通,根据当前的社会形态,确立以南方乡村文化为主题,以雷州文化、南粤传统建筑文化为载体,建设