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51.
应用油藏地球化学的方法对塔河油田的成藏期次进行了探讨。塔河油田稠油正构烷烃分布完整,但色谱基线不同程度抬升;原油非烃和沥青质碳同位素偏轻,族组成碳同位素发生倒转;原油中普遍含有25-降藿烷。这些特征表明该区油藏经历了至少两期成藏过程,早期充注原油遭受生物降解作用后又受到高成熟原油充注。塔河油田天然气为典型的油型气,成熟度较高,为成熟—过成熟阶段产物,亦显示了两期充注的特征:早期充注的为典型的原油伴生气,充注时间与后期原油的充注时间相同;晚期充注的为高温裂解气,充注方向为自东向西。因此,塔河油田至少存在着3次油气充注过程。 相似文献
52.
L. Gao P. Hrter Ch. Linsmeier J. Gstttner R. Emling D. Schmitt-Landsiedel 《Materials Science in Semiconductor Processing》2004,7(4-6):331
Deposition of Ag films by direct liquid injection-metal organic chemical vapor deposition (DLI-MOCVD) was chosen because this preparation method allows precise control of precursor flow and prevents early decomposition of the precursor as compared to the bubbler-delivery. Silver(I)-2,2-dimethyl-6,6,7,7,8,8,8-heptafluoro-3,5-octanedionato-triethylphosphine [Ag(fod)(PEt3)] as the precursor for Ag CVD was studied, which is liquid at 30 °C. Ag films were grown on different substrates of SiO2/Si and TiN/Si. Argon and nitrogen/hydrogen carrier gas was used in a cold wall reactor at a pressure of 50–500 Pa with deposition temperature ranging between 220 °C and 350 °C. Ag films deposited on a TiN/Si diffusion barrier layer have favorable properties over films deposited on SiO2/Si substrate. At lower temperature (220 °C), film growth is essentially reaction-limited on SiO2 substrate. Significant dependence of the surface morphology on the deposition conditions exists in our experiments. According to XPS analysis pure Ag films are deposited by DLI-MOCVD at 250 °C by using argon as carrier gas. 相似文献
53.
针对不同地质目标的叠前时间偏移成像解释评价 总被引:3,自引:0,他引:3
随着计算机硬件和地震勘探成像技术的发展,叠前时间偏移正逐步替代常规的NMO加DMO加叠后时间偏移成为地震数据成像处理方法的主流。但对于不同的地质目标,叠前时间偏移的成像效果是否优于常规NMO加DMO加叠后时间偏移的成像效果呢?为此,从地震数据成像处理方法、处理流程和处理参数等方面进行了讨论,并基于某地区三维数据常规处理结果和叠前时间偏移处理结果,针对不同地质目标进行了剖析与评价。认为:叠前时间偏移成像的垂向分辨率较常规处理明显降低,但对于空间波阻抗变化明显的河流和断层,叠前时间偏移成像的空间分辨率要高于常规处理;对于小于1/4波长的叠置薄储层,叠前时间偏移成像的垂向和空间分辨率低于常规处理结果。 相似文献
54.
55.
56.
57.
龙口水利枢纽坝基岩体主要由奥陶系中统马家沟组(O2m2)灰岩组成,其中发育有多层软弱夹层。作为其中之一的钙质充填夹层,强度虽不很低,但由于处于坝基下的持力层内,间距不大,发育密集,产状平缓,是坝基浅层抗滑稳定的主要控制因素,因此,在大坝抗滑稳定分析时,应进行分析和研究。 相似文献
58.
HDI工艺中取代涂树脂铜箔适合激光钻孔的半固化片 总被引:1,自引:1,他引:0
应用于HDI的激光钻孔半固化片的方法和其它常规材料相比具有的优缺点。 相似文献
59.