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Zhaosheng Hu Zhe Liu Lin Li Baogang Quan Yunlong Li Junjie Li Changzhi Gu 《Small (Weinheim an der Bergstrasse, Germany)》2014,10(19):3933-3942
Fabricating perfect plasmonic nanostructures has been a major challenge in surface enhanced Raman scattering (SERS) research. Here, a double‐layer stacked Au/Al2O3@Au nanosphere structures is designed on the silicon wafer to bring high density, high intensity “hot spots” effect. A simply reproducible high‐throughput approach is shown to fabricate feasibly this plasmonic nanostructures by rapid thermal annealing (RTA) and atomic layer deposition process (ALD). The double‐layer stacked Au nanospheres construct a three‐dimensional plasmonic nanostructure with tunable nanospacing and high‐density nanojunctions between adjacent Au nanospheres by ultrathin Al2O3 isolation layer, producing highly strong plasmonic coupling so that the electromagnetic near‐field is greatly enhanced to obtain a highly uniform increase of SERS with an enhancement factor (EF) of over 107. Both heterogeneous nanosphere group (Au/Al2O3@Ag) and pyramid‐shaped arrays structure substrate can help to increase the SERS signals further, with a EF of nearly 109. These wafer‐scale, high density homo/hetero‐metal‐nanosphere arrays with tunable nanojunction between adjacent shell‐isolated nanospheres have significant implications for ultrasensitive Raman detection, molecular electronics, and nanophotonics. 相似文献
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