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根据延迟焦化流程的特点,分析了延迟焦化装置扩大生产能力的瓶颈,探讨了基于能量综合优化的装置扩能解除瓶颈的策略方法,基于过程能量综合优化,运用流程模拟技术,通过配套的加热炉优化,分馏塔操作优化,换热网络柔性设计等手段,实现了装置扩大生产能力的目的,并运用所提出的策略对某延迟焦化装置进行了基于能量系统优化的扩能改造,在原流程与设备的基础上,装置处理量增大18.2%,装置物耗,能耗大幅度降低,改造设备投资少,说明能量综合优化对工艺装置扩能改造具有重要意义。 相似文献
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内循环好氧三相流化床处理造纸中段废水 总被引:6,自引:0,他引:6
本实验采用内循环好氧三相流化床处造纸中段废水,经过一段时间的驯化,获得了稳定的出水。CDO去除经保持在65%以上,系统对进水污染负荷的变化具有较大的承受能力。出水Cl^-的浓度有所增加,说明驯化后的微生物可能对有抽氯化物具有一定的降解作用。水气比在1/120至1/140之间可获得最好的COD去除效果。后进行絮凝处理后,出水COD降为60-80mg/L,BODo 50-60/L,色度为100-150CU,挥发性酚的质量浓度小于0.0265mg/L。 相似文献
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氧化钨物理特征的测量 总被引:2,自引:0,他引:2
对铵钨青铜(ATB)、氢钨青铜(HTB),紫色氧化钨(TVO)和蓝色氧化钨(TBO)四种氧化钨粉的氮气吸附/脱附等温线数据的分析。可以得出其表面积,微孔体积,微孔分布,中孔体积,平均孔径和分数维数。吸附/脱附等温线数据的分析表明,TVO粉末具有最大的中孔体积,最小的微孔体积,最窄的孔径分布,最小的分数维数和最大的平均孔径,其有利于氢还原制取超细钨粉,而不利于掺杂工艺,HTB粉末具有最大的微孔体积,最宽的孔径分布,最高的分数维数和最小的平均孔径,对于掺杂工艺来说是有利的,ATB和ABO的上述参数界于TVO和HTB之间。结果表明,利用吸附/脱附等温线来研究氧化物的物理特征是一个很好的方法;在氧化钨用于氢还原工艺和掺杂工艺之前必须研究其物理特征。 相似文献
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采用HF HNO3溶液化学腐蚀 ,在硅片上制备减反射效果优良的多孔硅太阳电池减反射膜 ,借助原子力显微镜 (AFM)和X光电子谱 (XPS)对其表面形貌和成分进行观察 ,发现该膜与电化学阳极腐蚀得到的多孔硅具有相似性 ,其主要成分为非化学配比的硅的氧化物SiOx(X <2 )。采用带积分球的光度分光计 ,测得形成多孔硅减反射膜后 ,硅片表面反射率大大下降 ,,在波长 330~ 80 0nm范围反射率只有 1 5~ 2 9%。研究指出这种强减反射作用 ,与多孔硅具有合适的折射率及其多孔特性的光陷阱作用有关 相似文献
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基于数字信号处理器的直流电机控制系统 总被引:4,自引:0,他引:4
介绍了定点数字信号处理器(DSP)TMS320F240的一般性能及其在永磁无刷直流电机控制上的应用,给出了硬件设计方案、软件策略及输出结果。 相似文献