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Multiple exposure requires the alignment of mask and substrate. We used silicon nitride mask membranes with 10 μm thick gold absorber patterns, which show excellent transmission in the visible light range for alignment purposes and good X-ray transparency in the hard X-ray regime.
The first results of double exposure experiments obtained with the scanner prototype are promising. With the exception of a systematic error an alignment accuracy of σx = 0.26 μm and σy = 0.4 μm (standard deviation) has been achieved. Present work concentrates on the improvement of the adjustment system.
All the exposures have been carried out at the BESSY wavelength shifter (Berlin/Germany). 相似文献