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971.
基于WinCC6.0及S7-200PLC的材料分拣监控系统设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文采用西门子s7-200系列PLC和winCC监控软件相结合的控制模式,实现了材料、分拣的全自动监视与控制。S7-200PLC和以WinCC为OPC客户端的监控软件之间的通讯采用s7—200PCACCESS作为OPC服务器实现。经过对材料分拣装置的实时监控,证明系统稳定性和准确度较好,能满足监控系统的需要。  相似文献   
972.
4#20000制氧机采用了美国ABB公司的Industrial IT集散控制系统,本文主要介绍该系统的硬件配置、软件开发以及系统实现的功能,该系统在最大程度上满足了生产的需要。  相似文献   
973.
研制了一种基于AlGaN/GaN HEMT的功率合成技术的混合集成放大器电路.该电路包含4个10×120 μm的HEMT晶体管以及一个Wilkinson功率合成器和分配器.在偏置条件为VDS=40V,IDS=0.9A时,输出连续波饱和功率在5.4GHz达到41.4dBm,最大的PAE为32.54%,并且功率合成效率达到69%.  相似文献   
974.
采用TSMC公司标准的0.18μm CMOS工艺,设计并实现了一个全集成的2.5Gb/s时钟数据恢复电路.时钟恢复由一个锁相环实现.通过使用一个动态的鉴频鉴相器,优化了相位噪声性能.恢复出2.5GHz时钟信号的均方抖动为2.4ps,单边带相位噪声在10kHz频偏处为-111dBc/Hz.恢复出2.5Gb/s数据的均方抖动为3.3ps.芯片的功耗仅为120mW.  相似文献   
975.
制作了反向饱和电流为5.5×10-14 A/cm2,势垒高度为1.18eV的GaN肖特基势垒紫外探测器.测量了探测器分别在零偏压及反向偏压下的光谱响应度,响应度随反向偏压无显著变化,零偏压下峰值响应度在波长358.2nm处达到了0.214A/W.利用波长359nm光束横向扫描探测器的光敏面,测量了探测器在不同偏压下的空间响应均匀性,相应偏压下的光响应在光敏面中央范围内响应幅值变化不超过0.6%.光子能量在禁带边沿附近的光束照射下,GaN肖特基势垒紫外探测器存在势垒高度显著降低现象,这种现象在肖特基透明电极边沿及其压焊电极附近表现得更为突出.探测器在368和810nm波长光一起照射时的开路电压比只有368nm光照射时的开路电压大,而零偏压下两者的光电流近似相等.利用这种开路电压变化效应估算了探测器在368nm光照射下,表面被俘获空穴的面密度变化量约为8.4×1010 cm-2.  相似文献   
976.
采用OPA-MBE方法在SrTiO3(STO)衬底上成功制备了Mn0.1Ti0.9O2-δ(MTO)稀磁半导体薄膜.利用X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、紫外可见光分度计以及直流四探针测试仪研究了薄膜的晶体结构、化学组成、光吸收和电荷输运性质.MTO薄膜具有锐钛矿和金红石的混合相,光吸收带边界发生"红移",电荷输运性质明显提高,室温环境下电阻率仅为37.5Ω·m.  相似文献   
977.
对硅npn双极晶体管(C2060)室温下不同集电极偏置电流条件下γ辐照的总剂量效应进行了研究.结果表明,npn晶体管的辐照损伤程度随着辐照总剂量的增加而增加;尤其是实验中发现:在相同的辐照总剂量下随着辐照时集电极偏置电流的增加,晶体管的辐照损伤程度却在减轻.空间电荷模型的观点并不能很好地解释辐照损伤与辐照集电极偏置电流的关系.文章对空间电荷模型进行了修正,认为除氧化物俘获电荷和界面俘获电荷外,还会在外基区Si-SiO2界面附近形成电中性的电偶极子.利用修正后的理论可以很好地解释所有的实验结果.  相似文献   
978.
采用一种新方法对InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管进行了模拟.该方法通过流体力学模型和密度梯度模型的联合求解,得到了沟道内的电子密度分布.与一些传统方法相比,该方法收敛性更好,速度更快,且同样适用于其他类型高电子迁移率晶体管器件的模拟.利用仿真对InGaAs/InP复合沟道高电子迁移率晶体管进行了深入研究.  相似文献   
979.
柳维持  钟菊英 《丝绸》1990,(4):26-28
分析国产防水浆料的结构、性能和特点,提出相适应的上浆工艺条件及使用中应注意的几个问题。  相似文献   
980.
用于ICF驱动器的色分离相位光栅的研究   总被引:4,自引:1,他引:4       下载免费PDF全文
采用相位闪耀光栅原理设计出用于ICF驱动器中能离轴分离基频、二倍频、三倍频激光的色分离相位光栅,理论上三倍频零级衍射效率达到100%,同时,对该相位光栅进行了实际制作和实验测量,测出了基频光和二倍频光的分离角以及光栅的零级衍射效率,得到了一些有意义的结果。  相似文献   
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