激光晶体Nd:YVO4的形貌及生长缺陷

本文报道了应用环境扫描电镜（ESEM）和同步辐射X射线白光形貌术对采用提拉法生长出的Nd:YVO4晶体进行的形貌及生长缺陷的分析,获得了该晶体的开裂表面的ESEM形貌像以及取自晶体肩部和中间部位的（001）面的同步辐射白光形貌像,观察到了位错、包裹物等缺陷,可为生长高质量的Nd:YVO4晶体提供重要的启示.     

电子束和接触式曝光机的混合曝光技术

Ⅰ线光致抗蚀剂可以同时实用电子束和光学系统曝光，在50kV加速电压下，其曝光剂量为50-100μC/cm^2，曝光后在0.7%NaOH溶液内显影1分钟。其灵敏度比PMMA快5倍，分辩率为0.5μm。采用两方法制备CaAsPHEMT：一种用Ⅰ线光致抗蚀剂，对源、漏及栅全部都采用电子束曝光，制备了0.5μm栅长的GaAs PHEMT；另一种将源、漏及栅分割成两部分，其中精细部分由电子束曝光，其余部分由光学系统曝光，用这种方法制备了0.25μm栅长的GaAs PHEMT。Ⅰ     

气压传动与控制在电子专用设备上的应用

气压传动与控制已成为电子专用设备研制过程中一项不可缺少的内容 ,必须进行合理的气动系统设计及其控制 ,选择相应的气动元件以满足设备的功能要求。概述了气压传动与控制在电子专用设备上的应用。     

Si基膜片型气敏传感器微结构单元的热学性能

微结构气敏传感器由于其微型化、低功耗、易阵列化和易批量生产等优点而受到国内外研究者的广泛关注。利用微机电系统（MEMS）加工技术，制备Si基膜片型微结构单元，并分析其热学性能。这种单元工作区温度为-300℃时，加热功率约75mW；并且膜片工作区的热质量很小，温度可以于毫秒量级的时间内，在室温和450℃之间调制。利用这种微结构单元，可以在温度调制方式下，研究气敏薄膜的电学特性和敏感机理。     

数控机床逐点比较法插补直线分析

通过分析四方向逐点比较法的基本原理及基本特点说明其插补精度比较低的原因,提出提高插补精度的方法——八方向逐点比较插补法。     

水蒸汽喷射泵系统实用设计软件的开发

本文在Turboc环境下开发了多级蒸汽喷射泵系统的设计软件，该软件包括了压缩比优化分配、单级喷射泵结构尺寸设计和冷凝器的结构尺寸设计等内容，使设计人员能够根据具体的工艺条件，快速地完成多级喷射泵系统的设计，对于提高多级喷射泵系统的工作稳定性、节省能源具有实际意义。     

位山引黄灌区泥沙淤积原因及处理对策

位山灌区是黄河下游大型引黄灌区 ,渠系泥沙淤积严重 ,泥沙处理困难。通过采用远距离输沙、集中处理沉沙区泥沙、分散沉沙和节水减淤等技术措施 ,减少了渠系的泥沙淤积。对清淤产生的泥沙 ,采取综合开发利用的技术和管理措施 ,取得了比较可靠的效果。     

柔性桩沉降可靠性的简化分析公式

本文提出了结合分层的剪切位移法、摄动法和随机场理论来计算柔性桩沉降可靠度的简化方法，并用随机有限元和蒙特卡洛模拟法对此简化模型的精度进行了对比分析，分析结果表明该方法计算简便，精度较高。通过算例发现，在土的变形模量为小变异的情况下，其概率模型对桩的沉降可靠度影响不明显，因此其概率模型可近似采用正态分布；在土的变形模量为大变异的情况下，其概率模型对桩的沉降可靠度影响非常明显，在选择概率模型时要慎重。对于土的变形模量服从对数正态分布的情况，采用将其当量正态化后的中心点法即使在参数大变异的情况下也可以获得理想的计算精度。     

充气集合式高电压并联电容器的几点改进

BAMHL1 1 /3- 72 0 0 - 1× 3W是在总结以往充气集合式高电压并联电容器产品优点的基础上 ,为优化大容量产品结构 ,提高绝缘可靠性和设备技术经济性能而开发的项目。本文着重介绍该产品的内部结构、外壳筋板结构和混合气体绝缘等几点改进。     

ERP的发展、现状及展望

企业资源计划ERP已成为近期的热门话题，越来越多的企业已经开始采用MRPⅡ/ERP产品。本文作者就ERP发展历程，技术特点进行总结，对其发展进行展望，预示着未来随着ERP的完善，一种基于网络的全球化企业合作与虚拟企业运营的集成化企业管理系统必然产生。