异丙苯在Cu-HMS分子筛上的催化氧化

以含Cu的中孔分子筛(Cu-HMS)为催化剂,研究异丙苯的催化氧化。研究发现,Cu-HMS催化剂的加入使异丙苯氧化的诱导期显著缩短。在75℃下,以Cu-HMS为催化剂,O2为氧化剂的纯异丙苯氧化反应,苯乙酮为主要副产物,反应的选择性和转化率都很高。当催化剂用量为1 5×10-4mol/ml时,反应8h后,异丙苯转化率为32 7%,目的产物的累积浓度(质量分数)为37 7%,选择性为99%;反应12h后,异丙苯转化率为42 4%,目的产物的累积浓度为46 3%,选择性为95 6%。     

TPS分散型控制系统在骤冷风空调装置中的应用

主要介绍了Honeywell公司TPS系统在直纺涤纶长丝用骤冷风空调装置中的应用。重点说明了该系统的硬件配置和一些复杂控制回路的实施和组态。     

二过碘酸合银（Ⅲ）钾引发丙类酸甲酯在淀粉上接枝共聚合反应的研究

研究了由二过碘酸合银（Ⅲ）钾（简称Ag(Ⅲ））与可溶性淀粉组成的氧化还原体系，于碱性介质中引发淀粉的接枝共聚合反应，得到高接枝效率的接枝共聚物，测定了引发剂浓度、单体浓度、pH值和反应温度对接枝参数的影响，并探讨了引发机理。     

现场总线技术在城市污水处理与气象中的应用

文章主要讨论了LonWorks现场总线技术在城市污水处理厂和气象指数预报中的应用。采用IPC和PLC控制结构对现场的各种设备实现控制和数据的采集，通过现场总线网络传输数据到中心控制室或远程终端，实现污水处理的自动控制和气象信息的实时采集和处理。     

系统备份及其误区分析

文章对系统备份的几个主要方面进行了讨论，并在此基础上，对系统备分的若干认识误区进行了分析。     

环境影响及计算机设备可靠性

和所有设备一样，计算机设备也是在一定环境中工作的，各种环境因素无时不对设备产生影响。要使计算机设备在各种环境中保持良好的性能，必须了解各种环境对计算机设备影响的机理和过程，分析在环境因素中那些因素是影响计算机设备的主要因素及其力度、频率、周期等，以便采取措施保护计算机设备正常工作。简要介绍除温度外，各种环境因素对计算机设备的影响。     

纳米α-FeOOH颗粒的形态和结构

以硫酸法钛白的副产物绿矾为原料，采用滴加法制备纳米铁黄（α－FeOOH）颗粒。研究了反应体系的pH值、反应温度、通氧速率、搅拌速率和添加剂等对铁黄颗粒形态结构的影响，采用XRD、TEM等分析手段对颗粒进行表征。结果表明，调节体系pH值能控制铁黄晶型结构和色相；改变通氧速率、搅拌速率、添加剂种类以及反应温度等可以调节纳米α－FeOOH的大小和分散性。     

BaFe12O19/SiO2-B2O3微晶玻璃陶瓷的制备和微波性能

采用柠檬酸sol-gel工艺合成了BaFe12O19/SiO2-B2O3微晶玻璃陶瓷，研究了SiO2-B2O3玻璃的含量，Ba/Fe原子比和热处理温度对体系析出晶相的影响，以及介电常数和磁异率在1MHz-6GHz频率范围的变化规律，结果表明，休系中SiO2-B2O3玻璃的含量和Ba/Fe比越高，BaF312O19相的析出越困难，前驱体合适的热处理温度为1000℃，介电常数和磁导率基本上随测试频率的增而加下降；介电损耗的最大值为0．43，磁损耗较小。     

Interpolating Quintic Polynomial with C~1 Continuity

A method constructinq C~1 Piecewise quintic polynomial over a triangular grid to interpo-late function values and partial derivatives at vertices is presented in this paper.The set of precise poly-nomials of this method is discussed.     

新型高k栅介质材料研究进展

随着半导体技术的不断发展，MOSFET（metal-oxide-semiconductor field effect transistor）的特征尺寸不断缩小，栅介质等效氧化物厚度已小至nm数量级。这时电子的直接隧穿效应将非常显著，将严重影响器件的稳定性和可靠性。因此需要寻找新型高k介质材料，能够在保持和增大栅极电容的同时，使介质层仍保持足够的物理厚度来限制隧穿效应的影响。本文综述了研究高k栅介质材料的意义；MOS栅介质的要求；主要新型高k栅介质材料的最新研究动态；展望了高k介质材料今后发展的主要趋势和需要解决的问题。