Effects of Substrate Temperatures on the Structure and UV-shielding Properties of TiO_2-CeO_2 Films Deposited on Glass by Radio-frequency Magnetron Sputtering

1Introduction Theultravioletrays(UV)insunlight(-4%)cantransmitintoroomthroughcommonfloatglass,theUVcanmakethematerialsintheroom,eg,paper,furni ture,textilefabricandplastics,becoloredanddeterio rated.ShieldingfromUVirradiationisofinterestinmanyfields.Formu…     

高压旋喷、帷幕灌浆在防渗墙工程中的结合应用

通过对云南省大理市大风坝垃圾处理场截污坝防渗墙工程的施工,阐明了高压旋喷和帷幕灌浆相结合的施工工艺,以及在防渗施工中对特殊情况的处理等。     

无抗性选择标记的植酸酶基因转化DNA的构建

构建了无抗性选择标记植酸酶基因的转化片段DNAphyAⅡ。两侧设置了高等植物基因组DNA保守序列CAATbox，TATAbox和polyA的DNA片段（DNAphyAⅡ，5‘-CAATbox-TATAbox-CaMV35S-phyA Ⅱ-GUS-Nos-Tem-polyA-3‘)，为提高转化率奠定了分子基础，此外DNAphyAⅡ中植酸酶蛋白编码基因phyA Ⅱ前后的启动子和终止子序列，确保了phyA Ⅱ会得以正确表达。     

LIGA工艺的发展及应用

介绍了LIGA(lithographie,galvanoformungandabformung)技术以及在此基础上开发出来的准LIGA(like－LIGA)技术、SLIGA(sacrificialLIGA)、M2LIGA(movingmaskLIGA)技术和抗蚀剂回流LIGA(PRLIGA———photoresistreflowLIGA)技术等。利用这一系列LIGA技术,可以生成具有高深宽比的复杂微结构,如微尖阵列、球形曲面、活动部件等,能较好地满足MEMS发展的需要。最后指出了目前这些方法存在的缺陷。     

用分步沉积法去除Nb(OH)5/Ta(OH)5中Ti,Sb等金属杂质的工艺研究

从理论和实践应用方面，研究了在不同活性金属离子存在的条件下控制pH值，应用分步沉积的方法去除Nb(OH)5/Ta(OH)5中某些金属杂质。在一定温度下，可在不影响Nb(OH)5/Ta(OH)5沉积的条件下，达到有效去除Ti，Sb，Sn，Al，Fe等杂质元素的目的。     

MLS结构的电容-电压特性

本文报导在 Si 衬底上拉制聚酰胺 LB 膜的电容-电压特性,结果表明:它具有与其它绝缘膜相似的特性,为聚酰胺 LB 膜应用于场效应器件奠定了基础。     

供电企业MIS建设中的问题分析

对固原供电局管理信息系统(MIS)建设过程中出现的一些问题,进行了简要分析与归纳,指出解决问题的策略.     

一类解析Toeplitz算子的换位子

作者用Hardy空间H2 上的再生核方法刻画了一类解析Toeplitz算子的换位子 ,同时也导出了“ThecommutantofanalyticToeplitzOperatars”的结果。     

熔融 NaCl-(Na,K)_2SO_4引起的 Fe-Cr 合金的热腐蚀

本文采用电化学方法研究了 Fe-Cr 合金在800℃、熔融 NaCl-(Na,K)_2SO_4中的腐蚀行为,并对腐蚀产物进行了观察和分析。结果表明,提高合金 Cr 含量可以改善合金耐蚀性能。氧化-硫化是Fe5Cr、Fe10Cr 合金腐蚀破坏的主要方式;氧化膜的熔融反应是 Fe20Cr、Fe25Cr 合金加速腐蚀的主要原因。同时,氧化膜的机械破裂也加速了合金的腐蚀。