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液压系统广义可靠性设计 总被引:3,自引:0,他引:3
介绍了广义可靠性和有效度的基本概念,简要论述了对液压系统进行广义可靠性设计的重要性,并从可靠性设计和维修性设计两方面提出了提高液压系统有效度的具体措施。/ 相似文献
103.
Organic conductor is a kind of organic compound which has special electronic and magnetic properties. The research of the organic compounds has received considerable attention because of their potential applications in many areas. The molecular conductive units are theoretically investigated as well as their energy gap and charge distribution. The relationship of conductivity and micro-mechanism is discussed. 相似文献
104.
氧化铝生产过程结疤溶解的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
针对氧化铝生产过程结疤现象。研制出一种新型清洗溶剂,溶垢率可达95%,清洗效果达到《工业设备化学清洗质量标准》要求。 相似文献
105.
新型高k栅介质材料研究进展 总被引:5,自引:0,他引:5
随着半导体技术的不断发展,MOSFET(metal-oxide-semiconductor field effect transistor)的特征尺寸不断缩小,栅介质等效氧化物厚度已小至nm数量级。这时电子的直接隧穿效应将非常显著,将严重影响器件的稳定性和可靠性。因此需要寻找新型高k介质材料,能够在保持和增大栅极电容的同时,使介质层仍保持足够的物理厚度来限制隧穿效应的影响。本文综述了研究高k栅介质材料的意义;MOS栅介质的要求;主要新型高k栅介质材料的最新研究动态;展望了高k介质材料今后发展的主要趋势和需要解决的问题。 相似文献
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Thin films on aluminum-tungsten alloys were prepared by co-deposition of pure aluminum and pure tungsten, each sputtered by an independently controlled magnetron source, on glass and sapphire substrates. Completely amorphous films were obtained in the Al80W20-Al67W33 composition range. Passivity and corrosion behavior of amorphous Al-W alloys were investigated in 1 M deaerated hydrochloric acid solution using polarization and impedance spectroscopy measurements and have been correlated with the properties of pure alloy components. Tungsten and sputter-deposited Al-W thin films are inherently passive materials while aluminum undergoes pitting corrosion in hydrochloric acid solution. The passive film formed at the OCP on each alloy possesses excellent electric and dielectric properties comparable to those of the isolating film on tungsten. The absolute impedance increases with increasing tungsten content in the alloy. According to electrochemical polarization measurements, alloying Al with W in solid solution significantly enhances the material's resistance to pitting corrosion by shifting the breakdown potential above 2000 mV (Al67W33) and lowering the corrosion rate at the OCP by more than two orders of magnitude. The most likely mechanism explaining the passivity of amorphous Al-W alloys, the Solute Vacancy Interaction Model (SVIM), involves the formation of complexes between highly oxidized solute atoms (W+6) and mobile cation vacancies, which restrict the transport of Cl− through the oxide film and inhibit its breakdown in hydrochloric acid solution. The role that film stress relaxation effects and microscopic defects in amorphous Al-W films, of the some composition, and deposited on various substrates play in their corrosion resistance is discussed. 相似文献
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