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991.
992.
993.
采用PVD和CVD技术制备Cu/TiN/PI试样,研究表明,TiN薄膜可以有效地阻挡Cu向PI基板内部扩散,CVD工艺制备的Cu膜内部残余应力很小,Cu膜有相对高的结合强度;而PVD制备的Cu膜,在有TiN阻挡层存在的情况下,Cu膜内存在拉应力,拉应力降低了Cu膜结合强度,300℃退火可以消除膜内残余应力,结合强度提高。 相似文献
994.
电化学法处理废硬质合金直接回收金属钴和碳化钨 总被引:4,自引:0,他引:4
首次采用电化学法处理废硬质合金直接回收金属钴和碳化钨,工艺简单可靠,具有较好的环境和经济效益。 相似文献
995.
测定并分析了用PCVD法获得的TiN涂层内的残余应力、涂层的抗变形性以及涂层的耐磨性。实验结果表明,TiN涂层内有残余应应力存在,在一定的变形力作用下,涂层将发生脆性断裂,TiN涂层的耐磨性是45°淬火钢的24倍。TiN涂层这些特性为它的应用奠定了基础。 相似文献
996.
采用控轧控冷工艺生产车轮用双相钢 总被引:2,自引:1,他引:2
介绍了车轮用热轧双相钢板的控制轧制与控制冷却工艺、组织性能和冲压使用效果,该产品强度高、塑性好,屈强比为0.64~0.68。 相似文献
997.
Co3O4对RuO2—TiO2(60)/Ti阳极析氯活性和欧姆降的影响 总被引:4,自引:0,他引:4
用稳态恒电流法和断电流技术研究了Co_3O_4对RuO_2-TiO_2(60)/Ti阳极析氯催化活性和欧姆降的影响。适量Co_3O_4可以大大提高RuO_2-TiO_2(60)/Ti阳极的析氯催化活性,明显减小涂层欧姆降。RuO_2(40)-TiO_2(60)/Ti阳极涂层中近65%的RuO_2被Co_3O_4取代后,电极析氯速率不会下降。 相似文献
998.
999.
LIANGChenghao MOUZhanqi 《稀有金属(英文版)》2002,21(4):266-270
The electrochemical behaviors of commercially pure titanium(CP Ti) and Co-Cr alloy in Ringer‘s solution have been investigated.The results indicate that the electric potential of passive region for CP Ti is up to 3000mV,and its passive current density is 3.078 μA/cm^2,The excellent corrosion resistance of CP Ti can be attributed to the formation of TiO2 oxide film.The passive region of Co-Cr alloy is 770mV,which is narrower than that of CP Ti.However,no hystersis loops are found in the reverse scanning curves of Cu-Cr alloy.A complex oxide film of Co3O4,Co2O3,and Cr2O3 formed on the surface provides Co-Cr alloy with a stable electrochemistry property.The corrosion rates of the crevice samples increase with the pH value of medium decreasing.The electron probe microanalyzer(EPMA) analysis indicates that Ti in CP Ti and Co,Cr in Co-Cr alloy dissolve in crevice area due to the Sealed-Cell effect. 相似文献
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