单家寺油田单6东超稠油开采配套工艺技术

在单家寺油田单6东超稠油油藏地质特征和渗流特点研究的基础上，成功研制了亚临界湿蒸汽发生器。通过超稠油油层保护、化学物理方法辅助蒸汽吞吐、高饱和预充填复合防砂、注汽—采油—井筒电加热一体化举升、动态监测和地面集输六项配套工艺的研究及应用，实现了开采超稠油油藏的技术突破。     

小纸层析法快速测定^99mTc—HMPAO放射化学纯度

采用小纸层析系统１：１的氯仿／四氢呋喃展开剂分析＾９９ｍＴｃ－ＨＭＰＡＯ的放射化学纯度，并与两个薄层析系统和一个纸层析系统的方法作比较。配对ｔ检验结果表明两种方法测定的放射化学纯度无显著差异；放射化学纯度在７４．２％－９６．４％，小纸层析法与薄层／纸层析法紧密相关，回归公式ｙ＝１．００６ｘ－０．３２３。     

一种VSAT数据通信网络报文传输协议的分析

本文描述并分析了一种适用于多信道ＶＳＡＴ卫星数据通信网的报文传输协议，特别是考虑了无线信道误码率对传输协议的影响，分析表明利用Ｓ－ＲＥ－ＡＬＯＨＡ作为预订信道的多址方式及按报文占用数据信道方法可以减小报文传输延时并增加系统吞吐量。     

用热分析法研究硝化棉的熔化过程

用ＭＤＳＣ，显微镜温台熔点测定仪和固体原位反应池／快速扫描傅立叶变换红外光谱联用装置考察了硝化棉的熔化过程。ＭＤＳＣ曲线表明吸热过程是可逆的，它系由ＮＣ和部分分解凝聚相产物的混合物的固液相变所引起。由ＮＣ的ＭＤＳＣ曲线得到的熔点，熔化含，熔化熵，分解含和分解反应热温熵分别为４７６．８４Ｋ，２０５．６Ｊ．ｇ＾－１，０．４３１２Ｊ．ｇ＾－１．Ｋ＾－１，－２４７５．０Ｊ．ｇ＾－１，－５．２４２Ｊ．ｇ＾－     

LB技术制备大面积超薄PMMA抗蚀层的研究

采用自行研制的ＬＢ自动提膜装置，制备出大面积（１０×８ｃｍ２）、高质量的ＰＭＭＡ超薄抗蚀剂膜，并将其用于高分辨率铬掩模版的研制。通过电子束曝光，湿法蚀刻，制作了分辨率优于０．５μｍ，特征线宽０．３８μｍ的４（１００ｍｍ）铬掩模版。     

感应电动机转速对定子电流暂态过程的影响

本文运用根轨迹法，分析了感应电动机转速对定子电流暂态过程的影响。并通过对稳态时定子电流在电压阶跃干扰下的暂太响应分析，验证了结论有效性。     

Experimental Study on Energy Consumption of Combined Conventional and Dehumidification Drying

Conventional drying, dehumidification drying, and combined conventional-dehumidification drying of wood were experimentally studied in this article. The results showed that the energy consumption in the dehumidification drying is the least but its drying time is the longest. The energy consumption in the combined drying is more than that in the dehumidification drying but less than that in the conventional drying, and the drying time is half of that in the dehumidification drying. The advantages of the combined conventional and dehumidification drying are discussed from the experiments results.     

热场致发射电子源曝光系统的技术现状和应用前景

高亮度、长寿命的热场致发射(Thermal field emitter)阴极自七十年代中期已受到人们的关注和重视,历经十多年在理论分析、工艺制备和实验研究上做了大量工作之后,于1988年在电子束曝光机上的应用中取得了突破性进展。用晶向为(100)的钨和具有低逸出功的锆制成的(Zr/O/W)热场致发射阴极在四千小时的使用寿命下亮度值超过六硼化镧阴极一个数量级以上,最近的实验结果表明:在工件台上小束斑下能得到接近两千安培每平方厘米的束流密度,而且四十小时内束流稳定度接近千分之一。显然,这几个表征曝光系统综合技术性能的重要指标,说明多年困扰于各种电子束曝光系统(特别是高斯圆斑电子束系统)在高分辨率情况下生产率较低的技术难题已经得到了比较圆满的解决。 八十年代末期,当热场致发射电子源曝光系统的技术关键解决后,这项技术就成为技术发达国家,特别是美国和日本,在电子束曝光领域进行技术竞争的热点;九一年五月底在美国召开的国际三束会议上有关场致发射阴极和MEBES—4型机已经采用TFE的最新报道充分证实了这项技术在电子束曝光技术应用中的重要地位和发展潜力。