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建筑工程投标报价优选模型 总被引:1,自引:0,他引:1
金季岚 《信息技术与信息化》2007,(5):70-72,59
通过建立区间二次规划数学模型、灰色模型、多目标规划等模型,建立材料价格和用量的选择模型,提供投标单位一种便捷的调整工程造价和控制造价的手段。 相似文献
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River ice jams are a common occurrence on northern rivers, and their formation can present a severe flood risk to nearby communities. As more and more river regulation projects are developed to provide an alternative to fossil fuels for electrical power-generating capacity, our need to understand the mechanisms associated with ice jam formation under variable flow conditions becomes more vital. This is because, at present, hydropeaking operations are often severely curtailed during the ice-affected seasons due to concerns that sudden flow fluctuations might instigate ice jams and associated flooding. Here, an experimental investigation explores the effects of rapid increases in discharge on ice jam formation and evolution. It is found that the thickness of ice jams formed under highly dynamic flow conditions tend to be slightly thinner than those formed during steady carrier flows for comparable discharges. Also, despite the highly dynamic nature of these consolidation events, the resulting ice thicknesses appear reasonably well approximated by steady flow theory. 相似文献
75.
在测定 2 0CrMnTi、4 0MnBH、2 0MnVBH钢淬透性及试样的化学成分基础之上 ,利用计算机采用逐步回归分析方法进行了回归运算 ,得到淬透性与化学成分的关系———回归方程 ,根据回归方程求出了不同窄淬透带规格所对应控制的化学成分范围 相似文献
76.
结合中铁十二局2号小区7号楼工程加筋地基处理的施工,介绍了加筋地基处理的材料要求,设计特点,施工工艺及施工要点,得出该施工技术简单易操作,质量易保证,造价低廉,效果良好。 相似文献
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用裂隙岩体渗流与应力耦合分析的四自由度全耦合法对岩质边坡进行耦合分析,通过强度折减有限元法求解岩体边坡的稳定安全系数。四自由度全耦合法建立了同时以渗流水压和位移为未知量的耦合方程组,使得渗流场与应力场的求解能够一次性完成,与两场交叉迭代分析方法相比达到了彻底的完全耦合。通过强度折减,整个系统达到不稳定状态,有限元计算将不收敛,此时的折减系数就是安全系数。算例表明由此求得的边坡稳定安全系数和滑动面都与传统方法十分接近。 相似文献
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In this article, a new algorithm based on an artificial potential field and hierarchical cell decomposition technique is developed to solve the find-path problem for a mobile robot. The complete map of the workspace including obstacle locations is assumed to be known a priori. The basic cell structure used for decomposition is a hexagon. The artificial potential field is based on an attractive force from the goal position and repelling forces from the obstacles. Computer simulations of the algorithm for various obstacle scenarios are also presented. © 1994 John Wiley & Sons, Inc. 相似文献
80.
Chemical mechanical polishing of polymer films 总被引:2,自引:0,他引:2
Strategies to reduce capacitance effects associated with shrinking integrated circuit (IC) design rules include incorporating
low resistivity metals and insulators with low dielectric values, or “low-κ” materials. Using such materials in current IC
fabrication schemes necessitates the development of reliable chemical mechanical polishing (CMP) processes and process consumables
tailored for them. Here we present results of CMP experiments performed on FLARE™ 2.0 using a specialized zirconium oxide
(ZrO2) polishing slurry. FLARE™ 2.0 is a poly(arylene) ether from AlliedSignal, Inc. with a nominal dielectric constant of 2.8.
In addition, we provide insight into possible removal mechanisms during the CMP of organic polymers by examining the performance
of numerous abrasive slurries. Although specific to a limited number of polymers, the authors suggest that the information
presented in this paper is relevant to the CMP performance of many polymer dielectric materials. 相似文献