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151.
采用碳离子束注入辅助蒸发技术低温沉积了DLC薄膜,对薄膜沉积的工艺参数进行了优化,并对该薄膜的摩擦学行为进行了探讨。研究发现:碳离子束注入辅助蒸发技术沉积的DLC薄膜在离子量为3.0×1017ions/cm2,沉积率为0.1nm/s时具有最小的摩擦因数(<0.1);电流为2.0mA比3.0mA条件下所沉积的DLC薄膜表面光滑;磨损试验后,DLC薄膜的表面只有轻微磨损的痕迹。 相似文献
152.
153.
154.
通过热压缩实验研究Ti-55511合金在变形温度973~1123 K、应变速率0.01~10 s-1条件下的流变行为.采用应变补偿Arrhenius(SCA)和反向传播人工神经网络(BPANN)方法对该热变形过程本构关系进行建模,并通过统计分析和交叉验证对模型进行评估.将两种模型扩展的应力、应变数据植入有限元,仿真热压... 相似文献