基于蓝牙技术的智能楼宇自动化系统

介绍了当前智能建筑的楼宇设备自动化系统(BAS)的概念和分布式控制监控方式,介绍了蓝牙技术的特性和现状,揭示了蓝牙技术是终端信息化的最好通讯方式,提出控制站嵌入式蓝牙网关的应用模型,即将网关设计成一个具有WEB功能的服务器;通过对楼宇自动化系统的核心功能单元(控制站)分析,提出了一个便捷、低成本、高效率的基于蓝牙网关的智能控制站系统的构建方案,并探讨和分析了其性能.     

Zn/Al类水滑石对气态碘单质的吸附

用液相非稳态共沉淀法合成了Zn/Al类水滑石(Zn/Al-HTLcs)。Zn/Al-HTLcs能吸附气态碘单质,且被碘离子饱和的Zn/Al-HTLcs能快速吸附气态碘单质。吸附温度和Zn/Al-HTLcs中碘离子的含量明显影响碘单质的吸附速率与吸附量。通过X射线晶体粉末衍射(XRD)研究了Zn/Al-HTLcs和碘离子饱和Zn/Al-HTLcs吸附气态碘单质样品(In-+Zn/Al-HTLcs)的结构特征,证实吸附碘后,层板结构没有改变而层间距略有增大。In-+Zn/Al-HTLcs在高于碘单质沸点的温度下,仍具有良好的热稳定性,其中碘的存在形态为碘多阴离子。     

浅谈转换层高层结构设计

以转换层结构的实际工程为例,依据现行规范分析了带转换层的结构方案布置、计算结果和构造措施,并给读者提出设计建议,以期指导施工实践。     

糕点加工工艺及其膨胀机理研究

本文介绍了糕点的加工工艺及其关键操作要点,探讨了糕点的膨胀机理,并对糕点中的气体来源进行了详细的阐述。     

浅析企业级电子商务

介绍了企业级电子商务的概念，分析了企业发展企业级电子商务的紧迫性和必要性，运用管理学相关理论，阐述了企业级电子商务战略具体实施过程中的8个应用步骤。     

“翻转课堂”在高中信息技术学测复习中的应用

＂翻转课堂＂作为一种新的教学模式,为教师与学生之间进行换位思考提供了机会。本文首先阐述了翻转课堂的概念与特征,然后对＂翻转课堂＂的兴起与优势及其在高中信息技术学测复习中的应用进行深入的分析,提出了录制短小教学视频、合理利用网络视频等方式,解决学生在信息技术学习过程中遇到的问题,帮助其检查自己的学习状况以及巩固学习成果,既可以减轻教师的劳动,又能提升学生解决问题的综合能力。     

虾青素DHA单酯对脂多糖诱导炎症反应的保护作用

目的：通过构建脂多糖（lipopolysaccharide,LPS）诱导的BV2小鼠小胶质细胞和斑马鱼炎症模型研究虾青素二十二碳六烯酸（docosahexaenoic,DHA）单酯的抗炎活性。方法：采用光学显微镜观察细胞形态,四甲基偶氮唑蓝法检测细胞活性,Griess法测定NO水平。向斑马鱼胚胎显微注射虾青素,体视显微镜下观察胚胎发育,采用试剂盒检测胚胎中活性氧（reactive oxygen species,ROS）产生量和丙二醛（malondialdehyde,MDA）含量;采用实时荧光定量聚合酶链式反应测定炎症因子的表达水平。结果：虾青素DHA单酯干预后,细胞内炎症因子表达水平与模型组相比极显著下降（P＜0.01）,接近于空白对照组;游离虾青素和虾青素DHA单酯均能保护斑马鱼胚胎的发育,降低LPS诱导的胚胎畸形率,有效抑制炎症斑马鱼体内ROS产生,同时显著降低MDA含量,下调炎症因子的表达水平,并且虾青素DHA单酯的效果更佳。结论：虾青素DHA单酯比游离虾青素具有更好的抗炎活性,对LPS诱导的炎症反应有明显的保护作用。     

磷酸化与钙交联处理对刺参胶原聚集体凝胶特性的影响

磷酸化与钙交联是影响刺参胶原聚集体凝胶特性的最重要因素之一。本文通过质构剖面(TPA)实验、应力松弛实验、低场核磁、VG染色等,研究了磷酸化与钙交联凝胶的质构学特征、水分迁移规律、化学键型变化以及胶原纤维特征的改变。结果表明:用2%三聚磷酸钠进行磷酸化对刺参胶原聚集体的凝胶特性有一定的破坏,其黏性、咀嚼性、η1、E1与空白组相比发生明显降低,其结合水含量降低,自由水含量升高,水分活度Aw明显升高;而在磷酸化基础上进行1%Ca Cl2交联则会对刺参胶原聚集体凝胶特性产生明显影响,其硬度及粘性比磷酸化刺参高,水分活度降低,提高了胶原聚集体与水分的结合程度,增强了凝胶性,使得胶原纤维结构更加稳定。与高温高压处理相比较,磷酸化与钙交联处理能够增强刺参胶原聚集体的凝胶特性,为刺参的加工及改性工艺提供了新途径。     

土壤环境中阴极保护电位对涂层的影响

通过电化学测试手段,研究了土壤中涂覆有涂层的钢样在不同阴极电位下的阴极极化行为,并探讨析氢阴极还原反应对涂层的影响,从而为阴极保护限制电位的确定提供依据。     

电子级多晶硅生产工艺的热力学分析

基于Gibbs自由能最小原理,对SiHCl3法生产电子级多晶硅闭环工艺的3个反应子系统分别进行了化学反应平衡计算,重点对SiHCl3还原反应子系统进行了热力学分析. 对于SiHCl3还原反应子系统,适宜的操作温度为1323~1473 K,压力为0.1 MPa;温度高于1323 K,H2/SiHCl3比大于6.6,低压下有利于SiHCl3还原生产多晶硅. 针对传统的SiHCl3还原需要高温下电加热给过程操作带来的诸多不便,提出了用Cl2部分氧化使SiHCl3还原反应体系实现能量耦合的新工艺,即反应过程不需外部加热就可完成,从而节约电耗,同时还发现平衡时体系中加入的Cl2能反应完全,不会影响后序工艺的进行. 对于SiCl4转化反应子系统,高压、低H2/SiCl4比有利于生成SiHCl3.