一种空间扫描驱动机构初探

根据空间扫描驱动的特殊性,本文讨论了以三相永磁同步电机作为驱动电机,精粗双通道组合编码的旋转变压器作为角度编码器,实现的一种低速、大惯量、低功耗、高可靠性、高精度的空间扫描驱动机构。     

YBaCuO超导膜对He—Ne激光的响应

本文报道在He-Ne激光照射下,工作在液氮温区的YBaCuO膜对激光的响应。在调制频率为0.1Hz的情况下,经光刻后的YBaCuO膜,在其超导转变中点附近,对功率为1.5mW的He-Ne激光的响应信号可达10mV左右,响应度约10V/W。实验并研究了响应信号与调制频率的关系以及工作点温度的选择对结果的影响。     

64×64元InSb红外焦平面读出电路研制进展

研制了用于 6 4× 6 4元InSb红外焦平面的几种读出电路。ISM 6 4× 6 4- 2型电路是采用直接注入模式 ,行积分工作的读出电路。ISM 6 4× 6 4- 3型电路仍然采用直接注入读出模式 ,行积分工作 ,但是增加了一级采样保持电路。ISM 6 4× 6 4- 4型电路采用直接注入模式 ,帧积分工作 ,因而可大大提高信噪比。描述了 2、3和 4型电路的结构 ,工作原理及版图设计特点 ,电路的制造工艺、测试方法及其主要性能。     

45°镜系统扫描轨迹分析及其对像旋校正的影响

分析了 45°镜系统的扫描规律及其对像旋校正的影响.给出了像旋图像的地面软件校正结果.结果表明在充分考虑了地球曲率、探测器的离轴及探测器安装角度影响的情况下, 45°镜系统对地面无漏扫,适当增加扫描角度,扫描系统获取的总视场内的地面信息无丢失,像旋对系统空间分辨率及图像的配准无影响,像旋图像可以通过软件方法进行校正.     

基于多项式拟合的红外焦平面非均匀性校正

针对IRFPA非线性物理系统的特征,提出一种基于多项式拟合的非均匀性校正算法, 并给出了硬件实现电路。该算法是在最小二乘意义上的多项式曲线拟合,实验结果表明,其校正效果明显优于分段线性校正算法。     

基于Wishbone片上总线的PCI Bridge核的研究和应用

讨论了PCI主桥的应用和Wishbone片上总线技术，详细介绍了基于Wishbone总线的PCI Bridge核的功能、内部结构和操作方式。实验证明，在PCI系统中使用PCI Bridge核进行开发设计，电路简洁，使用方便灵活。     

离子束刻蚀碲镉汞的沟槽深宽比改进

高深宽比离子束刻蚀技术是实现碲镉汞红外焦平面探测器的关键工艺技术.国内应用最广泛的双栅考夫曼刻蚀机束散角较大,沟槽深宽比较低.针对Ar离子束刻蚀机,尝试了三种提高深宽比的方法:选择不同的光刻胶做掩模、改变刻蚀角度和使用三栅离子源,并通过扫描电子显微镜(SEM)观察了碲镉汞刻蚀图形的剖面轮廓并计算了深宽比.分析了这些工艺方法对刻蚀图形轮廓的影响,获得了一些有助于获得高深宽比的离子束刻蚀沟槽的实验结果.     

国外红外光电探测器发展动态

主要综述三代红外光电探测器的材料体系与研究现状,以及分析红外光电探测器的未来发展趋势。首先,简述红外光电探测器及其三个发展阶段。然后,论述适于三代红外光电探测器发展的碲镉汞（HgCdTe）、量子阱光探测（QWIPs,quantum-well photodetectors）、二类应变超晶格（SLS,type-Ⅱ strained-layer superlattices）和量子点红外光探测（QDIPs,quantum dot IR photodetectors）四个材料体系,以及介绍它们在三代红外光电探测器方面的研究进展。最后,分析未来红外光电探测器的材料选择及发展趋势。     

基于CMOS图像传感器的微光成像系统信噪比研究

信噪比是微光成像系统的关键参数,决定了成像系统的性能与成像质量。给出了互补金属氧化物半导体（Complementary Metal Oxide Semiconductor, CMOS）图像传感器微光成像系统的信噪比模型,仿真计算了系统的信噪比与信号、噪声的关系。搭建了信噪比测试环境,完成了系统信噪比测试实验。实验结果表明,理论值与实测值一致。最后,根据信噪比分析结果对给定系统进行了参数优化。计算结果显示,优化后的系统在1 mLux照度下,信噪比能达到4.5。信噪比的研究为基于CMOS微光成像系统的总体设计与优化提供了理论依据。     

用迁移率和载流子浓度研究碲镉汞中的深能级

获得了一种研究碲镉汞深能级的方法。通过分析迁移率 载子浓度与温度的关系，可以得到关于深能级的重要依据。