利用双层辉光放电形成Mo-N硬质镀层

用双层辉光放电在钛合金Ti6Al4V表面形成了Mo-N硬质镀层。用X射线衍射仪和纳米压入仪分别对镀层的相结构、硬度和弹性模量进行了研究，并用涂层压入仪对镀层与基体间的结合强度进行了测定。结果表明：Ti6Al4V表面形成了均匀的Mo—N硬质镀层，镀层厚约10μm，由面心立方结构Mo2N化合物构成；Mo2N硬质镀层的硬度和弹性模量分别为13．80GPa和261．65GPa;镀层与基体间具有较好的结合强度。     

放电等离子烧结Fe3B／（Pr,Tb）2Fe14B块体纳米晶双相复合永磁体的性能

采用放电等离子烧结技术将非晶Pr4.2Tb0.3Fe78B17.5薄带制备成块状纳米晶复合磁体。研究了烧结条件对磁体密度、微观结构和磁性能的影响。结果表明，烧结温度的升高可使磁体得到高致密度，但同时由于其晶粒长大，结果导致磁性能的恶化。在最佳烧结条件下得到磁体的磁性能为Br=1．02T，JHc=220kA／m。磁体具有较好的微观结构，平均晶粒尺寸为20nm。     

Charge-discharge process of MnO2 supercapacitor

Mechanochemical synthesis of α-MnO2 was carried out with KMnO4 and Mn（CH3COO）2 in 1：1 mole ratio. The electrochemical performance of MnO2 electrode was investigated by cyclic voltammograms and alternating current impedance. The charge-discharge process of MnO2 supercapacitor in 6 mol/L KOH was studied within 1.2 V at 200 mA/g, suggesting that it displays double-layer capacibility in low potential scope and pseudo-capacitance properties in high potential scope. It is found that Mn3O4, an electrochemical inert, mainly forms in the initial 40 charge-discharge cycles. During cycling, the pseudo-capacitance properties disappear and the discharge curves are close to ideal ones, indicating double-layer capability. The maximum capacitance of MnO2 electrode is as high as 416 F/g, and retains 240 F/g after 200 cycles. The equivalent series resistance increases from 17 to 41Ω.     

钛合金表面双层辉光离子渗铝的研究

利用双层辉光渗金属技术，以铝为源极、TC4(Ti-6Al-4V)为阴极、氩气为工作气体，依靠辉光放电和不等电位空心阴极效应在TC4表面形成合金层。采用X射线衍射和辉光放电光谱分析了合金层的相组成及渗层内Al元素的分布．并对其进行硬度测试。结果表明：渗层由Ti3Al和α-Ti组成；铝的含量可达18％；渗层厚度可达13μm；其硬度比经渗铝处理后的有了较大程度的提高。     

用双层辉光等离子法在钛表面制备的Ti-Pd合金层性能研究

采用双层辉光等离子冶金技术在纯钛表面制备了Ti—Pd合金层。其深度大约为90μm，Pd含量呈梯度变化，并出现了TiPd3，TiPd2，Ti2Pd3，Ti3Pd5，TiPd，Ti4Pd等6种化合物相和Pd相。合金层在100℃的NaCl饱和溶液＋HCl溶液以及40℃的8．6％H2SO4溶液中的耐缝隙腐蚀性能优于Ti0．2Pd合金；在室温80％H2SO4的溶液中，腐蚀速率仅为0．682mm／a，是Ti0．2Pd合金的18．2％：在室温30％HCl的溶液中，表面Ti—Pd的腐蚀速率仅为0．004mm／a，是Ti0．2Pd合金的12．5％。     

放电等离子烧结法制备二硼化钛多孔陶瓷

以二硼化钛微粉为原料，采用放电等离子烧结技术，通过控制烧结温度、保温时间、施加压力等工艺参数，成功的制备出具有高强度和高气孔率的二硼化钛多孔陶瓷。采用浸泡介质法，三点弯曲法测试了材料的气孔率，开口气孔率及强度；用扫描电镜对材料断口进行了观察。实验结果表明：在1300-1500℃的烧结温度下，获得了气孔率33％～45％，最大抗弯强度〉60MPa的二硼化钛多孔陶瓷。扫描电镜结果显示，二硼化钛颗粒间有明显的颈部烧结。     

本刊2006年各专业版出刊计划

微弧氧化技术是近几年国内外发展较快的一项高新技术。该技术的基本原理及特点：微弧氧化或微等离子体表面陶瓷化技术，是指在普通阳极氧化的基础上．利用弧光放电增强并激活在阳极上发生的反应．从而在以铝、钛、镁金属及其合金为材料的工件表面形成优质的强化陶瓷膜的方法．是通过用专用的微弧氧化电源在工件上施加电压。使工件表面的金属与电解质溶液相互作用，在工件表面形成微弧放电，在高温、电场等因素的作用下，金属表面形成陶瓷膜，     

《中国表面工程》2007年第2期

表面工程系统接触力学模型；用于材料表面改性的空气介质阻挡放电发射光谱研究；适用于渗碳齿轮齿面修复的激光熔覆铁基自强化合金及其性能研究；等离子体电解氧化过程中参数控制模式分析；氧化铝增强无机硅酸锌耐蚀抗磨涂层的研究     

等离子体化学气相沉积反应中对温度因素的控制

采用了外加热式直流等离子体化学气相沉积及渗金属工艺并在放电工件上直接测温的方法，克服了离子轰击加热引起的温度不均匀等因素并且膜的结构及力学性能得以改善。