酚醛纸基板铜箔胶粘剂的研制

本文介绍了一种新的覆铜板箔胶粘剂，应用于酚醛纸板上，具有较高的耐漏电起痕性；研究了胶粘剂的合成、铜箔涂胶及层压板制造等工艺。     

平板显示器用玻璃基板生产应用现状与市场前景

本文介绍了各类平板显示器(FPD)的发展概况和平板显示器用玻璃基板的性能、生产方法与市场现状，展望了平板显示器用玻璃基板的发展趋势与前景，LCD／PDP／OLED全面取代CRT对玻璃工业的市场开拓和发展前景将产生重大影响。     

基板温度对超疏水表面液滴蒸发影响

基于椭球模型,模拟了不同基板温度条件下超疏水表面上固着纯水液滴的蒸发过程,探究了蒸发过程中液滴蒸发时间、接触角演变行为、液滴表面温度和蒸发速率等参量。结果表明:基板温度越高,液滴蒸发寿命越短,且蒸发时间随基板温度呈线性关系。液滴蒸发过程中,接触角随蒸发时间成非线性变化。因较大的高径比和较小的热扩散率,基板温度对液滴蒸发初始阶段影响较小。近接触线区域液滴表面温度梯度较大,其他区域温度梯度较小;且基板温度越高,除近接触线区域液滴表面温差越小,这说明蒸发冷却效应受到了抑制。同一体积条件下,基板温度越高,液滴蒸发速率越大,且蒸发速率随基板温度呈指数变化。     

后视镜基板注塑CAE与模具设计

以某型轿车左右外后视镜基板为例,在详细分析基板塑件结构、成型材料性能和塑件壁厚的基础上,运用MFI2015对其浇口位置进行了仿真分析。在综合最佳浇口位置、塑件结构和成对注塑的基础上,确定了本模具采用热流道的牛角形潜伏浇口浇注系统方案;在对塑料成型工艺分析中,对影响产品质量的填充时间、流动前沿温度、速度压力切换时的压力、冻结层因子、熔接线、气穴、锁模力、缩痕、体积收缩率、总变形量等进行了分析。运用UG软件对型腔、型芯结构,导向与塑件精度保证机构、顶出机构和4套侧向滑块分型、侧向斜顶抽芯机构及其复位机构、冷却系统和模具整体进行了分析设计,完成了一次注塑成型配对后视镜基板塑件的模具设计。同时运用由大、小导柱导套+锥台定位+楔紧镶块调节+厚薄调节垫组成的五位一体精度保证与保持系统,使得塑件精度更高。经生产验证,该模具结构合理,产品成型完整、质量达到设计要求。     

硅基板表面电沉积法制备HAP涂层及表征

在含有Ca2+和PO43-的电沉积液中,以硅基板为阴极,在其表面制备了HAP涂层,并用XRD、SEM、AFM及纳米压痕对涂层进行表征.通过对不同电沉积时间的涂层进行分析,可知加上电压后可以快速的在硅基板表面形成HAP的涂层,随着沉积时间延长,晶粒长大,涂层增厚,并在涂层上产生裂纹.由XRD图谱可知在最初阶段形成的HAP晶粒结晶度低,为无定型态状态,随着电沉积时间延长,组成涂层的晶粒结晶程度提高,XRD峰值增大变得尖锐.AFM分析表明晶粒生长均匀,粗糙度较低,纳米压痕测试结果显示涂层的力学性能较低.     

TFT-LCD基板玻璃断板检测系统设计及应用

TFT-LCD基板玻璃产品都很轻薄,导致在传送和清洗过程中容易断板。针对此种情况设计了TFT-LCD基板玻璃断板检测系统。该系统通过检测玻璃在恒定速度下经过感应开关的时间来判断基板玻璃是否断板。通过断板检测系统能够有效地检出断板产品,提高产品质量。     

TFT基板玻璃清洗工序水循环系统杂质去除浅析

TFT基板玻璃生产过程中清洗工序通过盘刷、滚刷、二流体、超声波等单元清洗基板玻璃表面,去除掉生产过程中产生的玻璃粉、研磨粉、纸粉等杂质,每个单元都需要大量水冲淋基板玻璃,为节省用水量,水通过水箱滤芯过滤后循环使用,根据水中杂质含量的不同滤芯的过滤精度也不同。普通过滤系统只有一个滤芯过滤,滤芯负载大,过滤能力弱。含有导流槽的过滤系统在滤芯前方增加一个导流槽,将大的杂质和颗粒从水中剥离出来,减轻了滤芯的负载,提高了水循环系统去除杂质能力,延长了滤芯的使用寿命,提升了水的水质。     

行业动态

正国内首个智能温控调光玻璃在苏州问世在两层玻璃中注入一种特殊的水性凝胶,有了它夏季阳光暴晒下玻璃就会自动变色,透光率降至5%以下,有效阻挡强光辐射,当冬季到来,它就会乖巧地保持玻璃通透,使玻璃透光率升至80%以上,让温暖的阳光撒满房间。这种神奇的新材料感温变色调光材料,它是由该公司自主开发的一种由温度和太阳光双重调节材料透光度的新型智能材料。这种感温变色调     

二次冷轧基板的特性及其对镀铬铁表面形貌的影响

采用扫描电镜和电化学分析方法研究了不同轧辊使用阶段所生产的二次冷轧基板的特性及其对镀铬铁表面形貌的影响。结果表明,二次冷轧基板表面的轧制纹可以明显地呈现在镀铬铁表面:在轧辊使用初期,二次冷轧基板表面存在较多细小的轧制纹,导致镀铬铁表面镀层存在较多针孔;在轧辊使用中期,二次冷轧基板表面轧制纹均匀,所得镀铬铁表面形貌较好;在轧辊使用后期,二次冷轧基板表面出现破损。在相同清洗条件下,乳化液或轧制油易残留在二次冷轧基板表面的细小轧制纹中,而在轧制纹均匀的表面则易被清除,因此,轧辊使用初期生产的二次冷轧基板在碱洗前后的自腐蚀电位和容抗弧半径差值较小,而对于轧制纹相对均匀的轧辊中期、中后期或后期生产的基板,其差异较大。     

基于ITO玻璃基板的涂胶工艺研究

光刻胶涂布的厚度和均匀性直接影响细微光刻电路图形的精度,对电子产品的集成度和合格率有着极为重要的影响.基于ITO玻璃基板涂胶工艺实验,研究了影响涂胶厚度和涂胶均匀性的各种因素,包括光刻胶黏度、涂胶辊表面结构、胶辊压入量和涂胶速度等.针对几种常见的典型涂胶缺陷进行了研究分析,并制定了相应的解决对策.