动态数字控制芯片在功放中的应用

功率放大器的栅极偏置电压控制一直是功放设计者需要考虑的问题。本文介绍了数字动态偏置控制芯片IA4910在功放中的应用。它既降低了与实现偏置功能相关的总体成本,同时又提高了LDMOS器件的温度补偿性能。     

无电阻带隙基准电压源

本文提出了一种无需使用电阻的带隙基准电压源。采用反函数方法,利用两对成比例的源耦差分对产生基准中与温度成正比(PTAT)的电压项。该电路实现了一阶温度补偿,在0.6μmCMOS工艺条件下,电路spectre模拟仿真结果表明,在-45°C～-80°C范围内,输出电压变化低于1mV。电源电压为4V时,功耗为52μW。     

时钟芯片在电压监测仪校验装置中的应用

根据电压监测仪校验装置需要建立一个标准时钟,对电压监测统计仪进行时间精度校正的要求,介绍了I2C总线接口时钟芯片PCF8583的基本原理,提出了利用DS32KHz给PCF8583提供高稳定度频率信号,从而实现了标准时钟的方案,并给出了PCF8583与MCS51单片机接口设计。     

零电压、电流PWM DC/DC全桥变换控制器设计

本文提出了一种利用耦合输出电感的新型次级箝位零电压零电流变换器,简单分析了所提出的利用耦合输出电感的新型次级箝位ZVZCS电路拓扑的工作原理,对其中以UC3875为核心的控制器设计、驱动电路及参数选择做了分析,文中还给出了仿真及样机实验结果,说明了控制器设计及参数选择是合理的。     

降低不溶阳极电积镍直流电耗的探讨

对影响不溶阳极电积镍直流电耗的各种因素进行了分析,降低溶液电阻、减少线路损耗可降低槽电压,而稳定阴极液pH、适当提高溶液中镍离子和H3BO3浓度对提高电流效率、降低直流电耗有利,采取相应措施后,取得了良好效果,直流电耗降低了5%,经济效益明显。     

尖晶石锰酸锂的第一性原理计算

应用基于全势缀加平面波方法（Full LineAugmented Plane Wave，FLAPW）的第一性原理计算软件Wien2K，对尖晶石LiMn2O4和其理想脱锂终点Mn204化合物进行了研究。优化得到了二者及体心立方相Li的晶体结构，脱锂前后晶格参数以及O原予占位的变化规律和实验结果相一致；采用Rietveld方法计算了脱锂前后LixMn2O4的理论X射线衍射图谱，二者之间的变化规律，和采用同步X射线衍射对竞放电过程的尖晶石LiMn2O4结构进行分析得到结果相一致；理论预测了LiMn2O4的平均放电电压为4．05V，和实验结果相吻合。     

铁磁谐振产生的原因及消除方法分析

1谐振过电压概述谐振过电压一般分为线性谐振过电压、铁磁谐振过电压和参数谐振过电压。线性谐振过电压是电力系统中最简单的一种谐振形式,其特点是电感和电容都为恒定的常数。其谐振过电压数值一般小于额定电压的两倍。参数谐振过电压是由于水轮发电机(凸极机)的同步电抗在直轴与交轴之间周期性的流动,以及水轮发电机或汽轮发电机当定子磁通发生变动时,引起电抗周期性变动,这时如果外电路容抗和发电机的同步电抗相等,就会出现电流电压谐振现象,使发电机的端电压和电流幅值急剧上升,这种现象不仅威胁电气设备的绝缘,而且也影响发电机的并列…     

等离子喷涂Ni-Cr-B-Si/Al2O3-TiO2金属陶瓷工艺参数的优化

通过正交试验方案分析了等离子喷涂主要工艺参数, 即等离子弧电流、等离子弧电压、送粉率、喷涂距离, 对NiCrBSi/Al2O3-TiO2涂层的显微硬度及孔隙度的影响, 结合用光学显微镜对涂层显微形貌的观察和分析, 得出的最佳工艺参数为电流I=600A, 电压U=55V, 送粉率F=15g/min, 喷涂距离S=10cm; 并且表明, 采用适当的喷涂距离、较大的等离子弧电流和电压、较低的送粉率, 可以提高涂层的显微硬度并降低其孔隙度.     

配变监控终端交流采样快速算法的研究及应用

针对在配变监控终端中通过傅里叶算法从电力信号获得基波分量耗时长的问题,提出了通过FIR滤波可对电流互感器进行相位补偿的快速算法,并在运行中得以应用.     

电生H2O2协同电解絮凝法处理餐饮废水实验研究

采用电生H2O2协同电解絮凝法处理餐饮废水，研究了废水初始浓度、电解时间、电压、电极材料、pH等因素对降解餐饮废水的影响．结果表明，进水CODCr在1200mg／L以内、pH值为中性的餐饮废水，在10V电压、电磁搅拌、曝气条件下，电解15min后，COD去除率在80％以上．该法利用了铝阳极反应生成的絮凝剂Al(OH)3和阴极上电合成的H2O2对有机物的去除作用，同时阳极产生的H^ 与阴极产生的OH^-中和又促进了两极的反应，使有机物降解更彻底．