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101.
光刻胶灰化工艺与深亚微米线条的制作 总被引:4,自引:1,他引:4
随着器件尺寸的缩小,细线条的制作成为很关键的工艺,普通光学光刻已接近其分辨率的极限,而电子束光刻和X射线光刻技术复杂、费用昂贵。本文对光刻胶灰化工艺进行了分析和研究,并应用此工艺进行了深亚微米线条的制作,在普通光学光刻机上制作出宽度小于0.25μm细线条。我们已将此工艺成功地应用在深亚微米MOSFET的制作中。 相似文献
102.
新钢烧结厂3#烧结机机尾、成品筛分系统的除尘由40m2电除尘器承担.该除尘器自投入运行以来,输灰系统一直存在着严重的二次扬尘问题,生产作业和周边环境十分恶劣.该厂对输灰系统几经改造,终于解决了二次扬尘问题. 相似文献
103.
应用LGH强化传热型燃烧器、ESW型激波吹灰器、HA-WA-Ⅱ型高温红外复合涂料等新设备、新材料,对南阳石蜡精细化工厂常减压蒸馏加热炉进行技术改造,炉热效率提高2个百分点以上,燃料消耗明显降低,节能效果显著。 相似文献
104.
105.
106.
107.
<正> 进入循环流化床锅炉密相区的燃料,其中只有一部分在该区燃烧并放出热量,这部分燃料放热称为燃烧份额δ.为了维持密相区的温度为确定值,应对密相区进入和支出的 相似文献
108.
李戊印 《电网与水力发电进展》2005,21(1):71-73
庙坡站是蒲城分干渠的首级站,基础为Ⅱ级自重湿陷性黄土。根据地基原位静力载荷试验与浸水载荷试验结果,修改了施工方案,节约投资,加快工期。 相似文献
109.
110.
对Si肖特基势垒二极管的钝化技术进行了研究。研究了不同淀积温度、气体流量、射频功率以及气体压力等工艺技术条件下,淀积PECVD SiO_2和LPCVD Si_3N_4膜的介电强度E、介电常数ε_r、耐压V、针孔密度、漏电流I、内应力σ、片间均匀性以及片内均匀性等性能。研究了PECVD SiO_2膜的增密技术。提出了一种应力小、漏电流小且抗辐照能力较好的PECVD SiO_2/LPCVD Si_3N_4复合介质膜钝化工艺方法和技术条件,提高了肖特基势垒二极管的性能。 相似文献